光学器件的制备方法
    2.
    发明授权

    公开(公告)号:CN102081172B

    公开(公告)日:2014-07-09

    申请号:CN201010565702.6

    申请日:2010-11-26

    CPC classification number: G02B1/113 G02B1/12 G02B2207/107 Y10T428/24997

    Abstract: 以低成本制备包括低折射率膜的光学器件。为了实现该目的,在包括将低折射率膜和高折射率膜交替层叠的多层膜的光学器件的制备方法中,通过使用靶单元的溅射沉积系统在基材上形成多孔膜。将该多孔膜浸入液体中以降低该膜的折射率。通过以简单的步骤形成折射率比以往使用的膜低的低折射率膜,能够以低成本得到高质量光学器件。

    光学器件的制备方法
    3.
    发明公开

    公开(公告)号:CN102081172A

    公开(公告)日:2011-06-01

    申请号:CN201010565702.6

    申请日:2010-11-26

    CPC classification number: G02B1/113 G02B1/12 G02B2207/107 Y10T428/24997

    Abstract: 以低成本制备包括低折射率膜的光学器件。为了实现该目的,在包括将低折射率膜和高折射率膜交替层叠的多层膜的光学器件的制备方法中,通过使用靶单元的溅射沉积系统在基材上形成多孔膜。将该多孔膜浸入液体中以降低该膜的折射率。通过以简单的步骤形成折射率比以往使用的膜低的低折射率膜,能够以低成本得到高质量光学器件。

    光学组件和光学装置
    4.
    发明公开

    公开(公告)号:CN114488359A

    公开(公告)日:2022-05-13

    申请号:CN202111258948.3

    申请日:2021-10-28

    Abstract: 公开了光学组件和光学装置。光学组件包括:基底;以及多层膜,包括位于基底上的第一层组以及位于第一层组与基底之间的第二层组。第二层组包括交替堆叠的第一电介质层和第二电介质层,第一层组包括交替堆叠的第三电介质层和第四电介质层。第一电介质层具有比第二电介质层高的折射率,并且第三电介质层具有比第四电介质层高的折射率。

    光学组件和光学装置
    6.
    发明授权

    公开(公告)号:CN114488359B

    公开(公告)日:2024-12-31

    申请号:CN202111258948.3

    申请日:2021-10-28

    Abstract: 公开了光学组件和光学装置。光学组件包括:基底;以及多层膜,包括位于基底上的第一层组以及位于第一层组与基底之间的第二层组。第二层组包括交替堆叠的第一电介质层和第二电介质层,第一层组包括交替堆叠的第三电介质层和第四电介质层。第一电介质层具有比第二电介质层高的折射率,并且第三电介质层具有比第四电介质层高的折射率。

    基板保持板和曝光装置
    8.
    发明公开

    公开(公告)号:CN114563925A

    公开(公告)日:2022-05-31

    申请号:CN202111417544.4

    申请日:2021-11-26

    Abstract: 本发明涉及基板保持板和曝光装置。基板保持板具有基板保持表面。基板保持板包括:基部;和突起,所述突起相对于基部设置在基板保持表面侧并且支撑基板。至少突起的最上表面是粗糙表面。基部或突起具有第一部分。突起具有硬度比第一部分的硬度高的第二部分。第二部分设置在与粗糙表面的顶部相距距离D的范围内。距离D小于该顶部和与该顶部相邻的底部之间的高度差H。

Patent Agency Ranking