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公开(公告)号：CN115728937A
公开(公告)日：2023-03-03
申请号：CN202211029142.1
申请日：2022-08-26
Applicant: 佳能株式会社
IPC: G02B26/12 , G03G15/04 , G03G15/043 , G02B1/115
Abstract: 本公开涉及光扫描装置和图像形成装置。根据本发明的光扫描装置包括：偏转单元，被配置为使光束偏转以在主扫描方向上扫描被扫描表面；以及成像光学系统，被配置为将由偏转单元偏转的光束引导至被扫描表面并且在轴上像高与最外侧离轴像高之间具有不同的在主扫描方向上的部分倍率。在偏转单元的偏转表面上相对于轴上偏转点在一侧的第一最外侧离轴偏转点处的反射率与轴上偏转点处的反射率之比，以及在偏转表面上相对于轴上偏转点在另一侧的第二最外侧离轴偏转点处的反射率与轴上偏转点处的反射率之比被各自适当地设定。
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公开(公告)号：CN114488359B
公开(公告)日：2024-12-31
申请号：CN202111258948.3
申请日：2021-10-28
Applicant: 佳能株式会社
Abstract: 公开了光学组件和光学装置。光学组件包括：基底；以及多层膜，包括位于基底上的第一层组以及位于第一层组与基底之间的第二层组。第二层组包括交替堆叠的第一电介质层和第二电介质层，第一层组包括交替堆叠的第三电介质层和第四电介质层。第一电介质层具有比第二电介质层高的折射率，并且第三电介质层具有比第四电介质层高的折射率。
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公开(公告)号：CN102628160A
公开(公告)日：2012-08-08
申请号：CN201210023612.3
申请日：2012-02-03
Applicant: 佳能株式会社
IPC: C23C14/34
CPC classification number: C23C14/3407 , C23C14/3428 , C23C14/3464 , C23C14/352 , H01J37/3417 , H01J37/3429 , H01J37/3447
Abstract: 本发明公开了成膜装置和成膜方法。提供了能够防止通过溅射形成多种材料的薄膜时的装置机构的复杂化以简化装置机构并防止装置成本的升高的成膜装置和成膜方法。该成膜装置包括：真空室；用于保持基板的基板保持器；用于分别支撑靶使得靶可在真空室内与基板相对的阴极机构；以及可各自地在由不同的材料制成的靶和基板之间前后移动以阻挡或通过从靶产生的成膜粒子的挡板。挡板中的至少一个由与用于靶的材料不同的靶材料形成，使得挡板中的至少一个被配置为还用作靶的挡板。
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公开(公告)号：CN114488359A
公开(公告)日：2022-05-13
申请号：CN202111258948.3
申请日：2021-10-28
Applicant: 佳能株式会社
Abstract: 公开了光学组件和光学装置。光学组件包括：基底；以及多层膜，包括位于基底上的第一层组以及位于第一层组与基底之间的第二层组。第二层组包括交替堆叠的第一电介质层和第二电介质层，第一层组包括交替堆叠的第三电介质层和第四电介质层。第一电介质层具有比第二电介质层高的折射率，并且第三电介质层具有比第四电介质层高的折射率。
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公开(公告)号：CN102628160B
公开(公告)日：2015-04-08
申请号：CN201210023612.3
申请日：2012-02-03
Applicant: 佳能株式会社
IPC: C23C14/34
CPC classification number: C23C14/3407 , C23C14/3428 , C23C14/3464 , C23C14/352 , H01J37/3417 , H01J37/3429 , H01J37/3447
Abstract: 本发明公开了成膜装置和成膜方法。提供了能够防止通过溅射形成多种材料的薄膜时的装置机构的复杂化以简化装置机构并防止装置成本的升高的成膜装置和成膜方法。该成膜装置包括：真空室；用于保持基板的基板保持器；用于分别支撑靶使得靶可在真空室内与基板相对的阴极机构；以及可各自地在由不同的材料制成的靶和基板之间前后移动以阻挡或通过从靶产生的成膜粒子的挡板。挡板中的至少一个由与用于靶的材料不同的靶材料形成，使得挡板中的至少一个被配置为还用作靶的挡板。
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