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公开(公告)号：CN107020285B
公开(公告)日：2021-01-15
申请号：CN201710258646.3
申请日：2017-04-19
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 合肥京东方光电科技有限公司
摘要： 本发明提供一种超声波清洗装置及基板处理系统，涉及显示技术领域，该超声波清洗装置对基板的吹扫清洁效率高，并且当该清洗装置具体应用于基板处理系统中时，可以显著提高进入处理装置内的基板的表面清洁度，避免基板表面经过处理后产生大量杂质残留。该超声波清洗装置包括，吹气单元，用于向待清洗的物体表面喷出气流；超声波振荡发生器，用于使从吹气单元中喷出的气流发生振荡；抽气单元，用于收集从待清洗的物体表面吹扫出的杂质。
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公开(公告)号：CN106024610B
公开(公告)日：2019-06-07
申请号：CN201610609742.3
申请日：2016-07-28
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 合肥京东方光电科技有限公司
IPC分类号： H01L21/28 , H01L21/3213
摘要： 本发明提供一种下部电极、干法刻蚀设备，涉及显示技术领域，将该下部电极应用到干法刻蚀中，可以解决现有技术中下部电极对待刻蚀基板的所有部分均产生相同吸力的问题。一种下部电极，包括：导电层、以及贯穿所述下部电极的多个气孔；所述下部电极的上表面设置有多个凸起；所述导电层包括：第一导电单元和位于所述第一导电单元外围的第二导电单元，所述第一导电单元和所述第二导电单元互不接触；所有所述气孔均位于所述下部电极的输气区域，所述输气区域由所述第一导电单元的外轮廓限定。本发明适用于下部电极、以及包括该下部电极的干法刻蚀设备的制作。
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公开(公告)号：CN105206619B
公开(公告)日：2018-03-30
申请号：CN201510536802.9
申请日：2015-08-27
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 合肥京东方光电科技有限公司
IPC分类号： H01L27/12
CPC分类号： G02F1/1368 , G02F1/134363 , G02F1/13439 , G02F1/1362 , G02F1/136227 , G02F2001/136222 , G02F2201/121 , G02F2201/123 , G02F2201/124
摘要： 本发明公开了一种阵列基板及其制备方法、显示面板，以解决现技术制备的阵列基板中，平行于衬底基板的半透明金属膜层构成的像素电极和公共电极使背光透过率降低，影响TFT–LCD的亮度的问题。所述阵列基板，包括衬底基板，设置于所述衬底基板的上表面的若干像素单元，所述像素单元呈阵列排布于所述衬底基板上；所述衬底基板上形成有对应每一所述像素单元的第一电极槽和第二电极槽，所述第一电极槽和所述第二电极槽由所述上表面向所述衬底基板的下表面延伸；所述像素单元包括像素电极和公共电极，所述像素电极形成于所述第一电极槽内，所述公共电极形成于所述第二电极槽内。
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公开(公告)号：CN105206619A
公开(公告)日：2015-12-30
申请号：CN201510536802.9
申请日：2015-08-27
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 合肥京东方光电科技有限公司
IPC分类号： H01L27/12
CPC分类号： G02F1/1368 , G02F1/134363 , G02F1/13439 , G02F1/1362 , G02F1/136227 , G02F2001/136222 , G02F2201/121 , G02F2201/123 , G02F2201/124
摘要： 本发明公开了一种阵列基板及其制备方法、显示面板，以解决现技术制备的阵列基板中，平行于衬底基板的半透明金属膜层构成的像素电极和公共电极使背光透过率降低，影响TFT–LCD的亮度的问题。所述阵列基板，包括衬底基板，设置于所述衬底基板的上表面的若干像素单元，所述像素单元呈阵列排布于所述衬底基板上；所述衬底基板上形成有对应每一所述像素单元的第一电极槽和第二电极槽，所述第一电极槽和所述第二电极槽由所述上表面向所述衬底基板的下表面延伸；所述像素单元包括像素电极和公共电极，所述像素电极形成于所述第一电极槽内，所述公共电极形成于所述第二电极槽内。
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公开(公告)号：CN103691715B
公开(公告)日：2015-12-09
申请号：CN201310752372.5
申请日：2013-12-30
申请人： 合肥京东方光电科技有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
摘要： 本发明公开了一种基板清洗设备，包括机架、用于盛放玻璃基板的载台、安装有超声波发射器的清洗头本体、至少一个激光位移传感器、以及信号处理器；其中，载台固定于机架；清洗头本体位于载台上方，且可滑动地安装于机架；激光位移传感器安装于清洗头本体、且通过向玻璃基板表面发射激光探测射线来测量激光位移传感器与玻璃基板表面之间的距离信息；信号处理器与激光位移传感器信号连接、且用于当激光位移传感器与玻璃基板表面之间的距离信息出现异常时判断玻璃基板破损。本发明提供的基板清洗设备能够准确地检测出被测玻璃基板是否有破损，且能够避免漏检的情况出现，提高了破损玻璃基板的检出率。
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公开(公告)号：CN107020285A
公开(公告)日：2017-08-08
申请号：CN201710258646.3
申请日：2017-04-19
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 合肥京东方光电科技有限公司
摘要： 本发明提供一种超声波清洗装置及基板处理系统，涉及显示技术领域，该超声波清洗装置对基板的吹扫清洁效率高，并且当该清洗装置具体应用于基板处理系统中时，可以显著提高进入处理装置内的基板的表面清洁度，避免基板表面经过处理后产生大量杂质残留。该超声波清洗装置包括，吹气单元，用于向待清洗的物体表面喷出气流；超声波振荡发生器，用于使从吹气单元中喷出的气流发生振荡；抽气单元，用于收集从待清洗的物体表面吹扫出的杂质。
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公开(公告)号：CN104362116B
公开(公告)日：2017-06-27
申请号：CN201410616083.7
申请日：2014-11-04
申请人： 合肥京东方光电科技有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
摘要： 本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种气悬浮式下部电极及干法刻蚀装置。该下部电极包括下部电极本体、下部电极控制器及至少一对压力传感器，将至少一对压力传感器设置在下部电极本体靠边的位置，每对的两个压力传感器由内向外依次设置，根据压力传感器测得的压力值，下部电极控制器控制冷却气体通孔的气体流量，进而使玻璃基板在刻蚀时与下部电极可保持悬浮，从而真正做到蚀刻不良的零发生，玻璃基板受热均匀，也间接地提高刻蚀时的均一性和刻蚀质量；也避免了因下部电极本体磨损造成的玻璃基板与下部电极本体粘附力增大的问题出现，进而也不会造成玻璃破损。
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公开(公告)号：CN102966828B
公开(公告)日：2015-07-08
申请号：CN201210434443.2
申请日：2012-11-02
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 合肥京东方光电科技有限公司
摘要： 本发明涉及一种机械装置的注油设备，特别是一种新式定量型电动油枪,所述油枪腔体内设有电动马达和注油活塞，所述电动马达通过齿轮传动机构使注油活塞在所述油枪腔体内做直线运动，从而将油枪腔体内的油剂推向油枪注油端口。本发明所涉及的电动油枪可以实现自动注油，注油过程平缓，减少了人为因素的对注油作业的影响；并通过流量计量器精确控制每次的注油量，保证了设备所需要的油量以及设备的运行稳定，且可以避免额外的浪费，有效的节约了成本。
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公开(公告)号：CN107377545A
公开(公告)日：2017-11-24
申请号：CN201710823545.6
申请日：2017-09-13
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 合肥京东方光电科技有限公司
摘要： 本发明提供一种对干泵的尾气管道进行清洁的方法及进行清洁的装置,所述方法包括如下步骤:在所述干泵运行时获取其尾气管道内的压力值；判断所述压力值是否大于压力预设阈值；以及当判断所述压力值大于压力预设阈值时，则启动装设在所述尾气管道中的清理器，使其经由滚动或振动来清洁所述尾气管道。本发明的方法能够控制干泵中用于清洁尾气管道的清理器运行，使其在尾气管道内的压力值超出压力预设阈值时自动启动进行尾气管道的清理，避免尾气管道堵塞。
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公开(公告)号：CN103590018B
公开(公告)日：2015-11-25
申请号：CN201310508648.5
申请日：2013-10-24
申请人： 合肥京东方光电科技有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
IPC分类号： C23C16/44
摘要： 本发明提供一种气体处理系统及化学气相沉积设备，属于微电子技术领域，其可解决现有的气体处理系统的能源浪费的问题。本发明的气体处理系统，其包括：用于从反应腔室中抽取气体的抽气装置、用于对从反应腔室中抽取的气体进行处理的气体处理装置，所述气体处理系统还包括：气体监测装置，所述反应腔室与抽气装置，抽气装置与气体处理装置均通过第一管道连接；所述气体监测装置与第一管道气路连接，用于将气体电离，并俘获电离产生的离子而产生电流；所述气体监测装置与气体处理装置电连接，用于控制气体处理装置工作。本发明的气体处理系统可用于化学气相沉积设备，干法刻蚀工艺设备等基板处理工艺的设备中。
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