公开(公告)号：CN107020285B

公开(公告)日：2021-01-15

申请号：CN201710258646.3

申请日：2017-04-19

申请人： 京东方科技集团股份有限公司 ,  合肥京东方光电科技有限公司

发明人： 郭淳 ,  刘建辉 ,  孟盼盼 ,  冯忠 ,  李鹏 ,  许道先 ,  周庆高 ,  钟亮 ,  董康旭 ,  刘祖宏 ,  侯智

IPC分类号： B08B11/04 ,  B08B5/02 ,  B08B5/04 ,  B08B13/00 ,  H01L21/67

摘要： 本发明提供一种超声波清洗装置及基板处理系统，涉及显示技术领域，该超声波清洗装置对基板的吹扫清洁效率高，并且当该清洗装置具体应用于基板处理系统中时，可以显著提高进入处理装置内的基板的表面清洁度，避免基板表面经过处理后产生大量杂质残留。该超声波清洗装置包括，吹气单元，用于向待清洗的物体表面喷出气流；超声波振荡发生器，用于使从吹气单元中喷出的气流发生振荡；抽气单元，用于收集从待清洗的物体表面吹扫出的杂质。

公开(公告)号：CN103715113A

公开(公告)日：2014-04-09

申请号：CN201310688786.6

申请日：2013-12-13

申请人： 合肥京东方光电科技有限公司 ,  京东方科技集团股份有限公司

发明人： 刘轩 ,  丁欣 ,  张巍 ,  韩勉 ,  钟亮 ,  刘祖宏 ,  吴代吾 ,  侯智

IPC分类号： H01L21/66 ,  H01J37/244

CPC分类号： H01L22/26 ,  H01L21/67253

摘要： 本发明公开了一种刻蚀速率均一度的监测方法和装置，以实现实时对腔体内等离子体刻蚀速率均一度的监测。所述方法包括：在刻蚀过程中，实时采集刻蚀的反应腔体内反应物或生成物的光谱信号的强度值；根据所述光谱信号的强度值，确定所述反应物或生成物光谱信号的强度值变化阶段对应的起始时间和终止时间；根据所述起始时间、终止时间以及预设的被刻蚀膜层的厚度，确定刻蚀速率的最大值和最小值；根据所述刻蚀速率的最大值和最小值确定刻蚀速率的均一度。

公开(公告)号：CN103715113B

公开(公告)日：2016-03-30

申请号：CN201310688786.6

申请日：2013-12-13

申请人： 合肥京东方光电科技有限公司 ,  京东方科技集团股份有限公司

发明人： 刘轩 ,  丁欣 ,  张巍 ,  韩勉 ,  钟亮 ,  刘祖宏 ,  吴代吾 ,  侯智

IPC分类号： H01L21/66 ,  H01J37/244

摘要： 本发明公开了一种刻蚀速率均一度的监测方法和装置，以实现实时对腔体内等离子体刻蚀速率均一度的监测。所述方法包括：在刻蚀过程中，实时采集刻蚀的反应腔体内反应物或生成物的光谱信号的强度值；根据所述光谱信号的强度值，确定所述反应物或生成物光谱信号的强度值变化阶段对应的起始时间和终止时间；根据所述起始时间、终止时间以及预设的被刻蚀膜层的厚度，确定刻蚀速率的最大值和最小值；根据所述刻蚀速率的最大值和最小值确定刻蚀速率的均一度。

公开(公告)号：CN106499873B

公开(公告)日：2019-03-12

申请号：CN201710022669.4

申请日：2017-01-12

申请人： 京东方科技集团股份有限公司 ,  合肥京东方光电科技有限公司

发明人： 钟亮 ,  韩勉 ,  刘轩 ,  方锦国 ,  刘祖宏 ,  董康旭 ,  毛晓伟 ,  项文斌

IPC分类号： F16K51/02

摘要： 本发明涉及真空反应装置技术领域，公开一种真空阀门及真空设备，其中，真空阀门用于连接于真空设备中相互邻接且贯通的两个真空腔室之间；该真空阀门包括：呈方形设置的密封壳体，壳体相对的两个侧壁上分别设有门型开口，两个门型开口相对设置；位于壳体内的门体，该门体可分别与两个门型开口开关配合；传动模块，用于：驱动门体在两个侧壁之间水平移动、以实现门体在两个门型开口之间的切换；以及，驱动门体沿侧壁的延展方向运动、以实现门体与侧壁上的门型开口之间的开关配合。上述真空阀门中，在对一侧门型开口的密封圈进行清理和更换操作时，不会影响另一侧门型开口所连通的真空腔室的工作；因此，该真空阀门可以提高真空设备的稼动率。

公开(公告)号：CN107020285A

公开(公告)日：2017-08-08

申请号：CN201710258646.3

申请日：2017-04-19

申请人： 京东方科技集团股份有限公司 ,  合肥京东方光电科技有限公司

发明人： 郭淳 ,  刘建辉 ,  孟盼盼 ,  冯忠 ,  李鹏 ,  许道先 ,  周庆高 ,  钟亮 ,  董康旭 ,  刘祖宏 ,  侯智

IPC分类号： B08B11/04 ,  B08B5/02 ,  B08B5/04 ,  B08B13/00 ,  H01L21/67

摘要： 本发明提供一种超声波清洗装置及基板处理系统，涉及显示技术领域，该超声波清洗装置对基板的吹扫清洁效率高，并且当该清洗装置具体应用于基板处理系统中时，可以显著提高进入处理装置内的基板的表面清洁度，避免基板表面经过处理后产生大量杂质残留。该超声波清洗装置包括，吹气单元，用于向待清洗的物体表面喷出气流；超声波振荡发生器，用于使从吹气单元中喷出的气流发生振荡；抽气单元，用于收集从待清洗的物体表面吹扫出的杂质。

公开(公告)号：CN106499873A

公开(公告)日：2017-03-15

申请号：CN201710022669.4

申请日：2017-01-12

申请人： 京东方科技集团股份有限公司 ,  合肥京东方光电科技有限公司

发明人： 钟亮 ,  韩勉 ,  刘轩 ,  方锦国 ,  刘祖宏 ,  董康旭 ,  毛晓伟 ,  项文斌

IPC分类号： F16K51/02

CPC分类号： F16K51/02

摘要： 本发明涉及真空反应装置技术领域，公开一种真空阀门及真空设备，其中，真空阀门用于连接于真空设备中相互邻接且贯通的两个真空腔室之间；该真空阀门包括：呈方形设置的密封壳体，壳体相对的两个侧壁上分别设有门型开口，两个门型开口相对设置；位于壳体内的门体，该门体可分别与两个门型开口开关配合；传动模块，用于：驱动门体在两个侧壁之间水平移动、以实现门体在两个门型开口之间的切换；以及，驱动门体沿侧壁的延展方向运动、以实现门体与侧壁上的门型开口之间的开关配合。上述真空阀门中，在对一侧门型开口的密封圈进行清理和更换操作时，不会影响另一侧门型开口所连通的真空腔室的工作；因此，该真空阀门可以提高真空设备的稼动率。