Invention Grant
CN103590018B 气体处理系统及化学气相沉积设备
失效 - 权利终止
- Patent Title: 气体处理系统及化学气相沉积设备
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Application No.: CN201310508648.5Application Date: 2013-10-24
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Publication No.: CN103590018BPublication Date: 2015-11-25
- Inventor: 陈甫 , 刘祖宏 , 刘建辉 , 李婷婷 , 丁欣 , 张亮 , 侯智 , 吴代吾
- Applicant: 合肥京东方光电科技有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
- Applicant Address: 安徽省合肥市铜陵北路2177号
- Assignee: 合肥京东方光电科技有限公司,京东方科技集团股份有限公司
- Current Assignee: 合肥京东方光电科技有限公司,京东方科技集团股份有限公司
- Current Assignee Address: 安徽省合肥市铜陵北路2177号
- Agency: 北京天昊联合知识产权代理有限公司
- Agent 柴亮; 张天舒
- Main IPC: C23C16/44
- IPC: C23C16/44

Abstract:
本发明提供一种气体处理系统及化学气相沉积设备,属于微电子技术领域,其可解决现有的气体处理系统的能源浪费的问题。本发明的气体处理系统,其包括:用于从反应腔室中抽取气体的抽气装置、用于对从反应腔室中抽取的气体进行处理的气体处理装置,所述气体处理系统还包括:气体监测装置,所述反应腔室与抽气装置,抽气装置与气体处理装置均通过第一管道连接;所述气体监测装置与第一管道气路连接,用于将气体电离,并俘获电离产生的离子而产生电流;所述气体监测装置与气体处理装置电连接,用于控制气体处理装置工作。本发明的气体处理系统可用于化学气相沉积设备,干法刻蚀工艺设备等基板处理工艺的设备中。
Public/Granted literature
- CN103590018A 气体处理系统及化学气相沉积设备 Public/Granted day:2014-02-19
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