一种大占宽比亚波长周期光栅的制备方法

    公开(公告)号:CN114815025B

    公开(公告)日:2024-03-01

    申请号:CN202210596749.1

    申请日:2022-05-17

    Abstract: 一种大占宽比亚波长周期光栅结构制备方法,采用Bosch刻蚀技术在硅衬底上制备出侧壁带有锯齿状结构的光栅母版,使用纳米压印技术将光栅母版结构转移到压印胶中,然后采用镀膜技术沉积一层薄膜材料作为掩膜,最后通过lift‑off工艺将压印胶图形剥离并形成大占宽比光栅结构。本发明利用Bosch刻蚀技术形成的光栅侧面锯齿状结构替代传统负性光刻胶的倒梯形结构,避免了因镀膜过程中薄膜材料对光栅结构的包裹导致的lift‑off剥离困难问题,并解决了因负性光刻胶光刻胶分辨率不足导致的大占宽比、亚波长周期光栅结构制备难题,为大占宽比、亚波长周期光栅结构的制备提供了一种新的思路。

    利用宽光谱比值实现光栅掩膜实时显影监测的装置和监测方法

    公开(公告)号:CN111595555B

    公开(公告)日:2021-02-02

    申请号:CN202010488462.8

    申请日:2020-06-02

    Abstract: 一种利用宽光谱比值实现光栅掩膜实时显影监测的装置和方法,装置包括超连续谱激光光源、声光滤波器、光阑、滤光片、偏振片、待显影光栅、显影液容器、准直透镜组、偏振分束镜、聚焦透镜、积分球、高速探测器和电子元件控制系统。超连续谱激光光源和声光滤波器用于产生不同波长的单色光束。准直透镜组用于缩束并收集不同出射角的光栅显影衍射光束。偏振分束镜用于将显影衍射光束分束为S偏振光和P偏振光。两组积分球和高速探测器分别用于测量S偏振光束和P偏振光束的衍射光束光强。电子元件控制系统用于数据采集和数据处理。本发明提供了一种通过S偏振光和P偏振光的宽光谱的比值来精确控制显影过程中的光栅掩膜形貌变化的装置和方法。

    高功率激光系统中反射光学元件的制备及其测温方法

    公开(公告)号:CN110736561B

    公开(公告)日:2020-09-15

    申请号:CN201911012197.X

    申请日:2019-10-23

    Abstract: 一种高功率激光系统中反射光学元件的制备及其测温方法,反射光学元件的制备包括步骤:在基底材料上利用磁控溅射镀制一层VO2相变薄膜;在VO2相变薄膜上镀制高反膜。由于VO2的相变特性,反射光学元件的透过率会随温度发生变化,高功率激光系统中测温方法包括利用接触式测温的方法测试反射光学元件在某一波长处透过率随温度变化的曲线;高功率激光系统中,增加该波长的探测激光入射至反射光学元件表面的辐照区域,并利用功率计测试探测激光的透过率;结合上述透过率随温度变化曲线利用透射率计算光学元件的表面温度。本发明相比红外热像仪测温的方法不仅成本较低,而且可以高精度的测试光学元件表面微米深度的温度变化。

    利用宽光谱比值实现光栅掩膜实时显影监测的装置和监测方法

    公开(公告)号:CN111595555A

    公开(公告)日:2020-08-28

    申请号:CN202010488462.8

    申请日:2020-06-02

    Abstract: 一种利用宽光谱比值实现光栅掩膜实时显影监测的装置和方法,装置包括超连续谱激光光源、声光滤波器、光阑、滤光片、偏振片、待显影光栅、显影液容器、准直透镜组、偏振分束镜、聚焦透镜、积分球、高速探测器和电子元件控制系统。超连续谱激光光源和声光滤波器用于产生不同波长的单色光束。准直透镜组用于缩束并收集不同出射角的光栅显影衍射光束。偏振分束镜用于将显影衍射光束分束为S偏振光和P偏振光。两组积分球和高速探测器分别用于测量S偏振光束和P偏振光束的衍射光束光强。电子元件控制系统用于数据采集和数据处理。本发明提供了一种通过S偏振光和P偏振光的宽光谱的比值来精确控制显影过程中的光栅掩膜形貌变化的装置和方法。

    一种800纳米中心波长的金属介质膜宽带脉宽压缩光栅

    公开(公告)号:CN108732670A

    公开(公告)日:2018-11-02

    申请号:CN201810742641.2

    申请日:2018-07-09

    Abstract: 一种800纳米中心波长的金属介质膜宽带脉宽压缩光栅,其特点是在石英基底上自底层向外层依次的金属层、剩余层和光栅层一体构成,所述的光栅层为梯形光栅,该梯形光栅的材料为SiO2;周期为500-680纳米;底部占空比为0.48-0.58;底角83°-86°;槽深860-930纳米。本发明在入射角度65°,在750-850纳米波段TE偏振的-1级反射衍射效率大于90%。入射波长800纳米激光以65°或17°入射至光栅表面,光栅对TE偏振光的-1级反射衍射效率大于90%。本发明的单脉冲面损伤阈值为0.4J/cm2@35fs,800±35nm。本发明可用作高功率超短脉冲激光系统的脉宽压缩光栅。

    大口径光学元件表面纳米级缺陷并行扫描检测装置与方法

    公开(公告)号:CN117269169A

    公开(公告)日:2023-12-22

    申请号:CN202311193323.2

    申请日:2023-09-15

    Abstract: 一种大口径光学元件表面纳米级缺陷并行扫描检测装置,包括:单频紫外激光器,用于产生检测激光束;达曼分束光栅,用于将单频紫外激光器发出的激光束分束,产生强度分布均匀的检测子光束;多焦点空间滤波系统,将各检测子光束聚焦后进行空间滤波,滤除高频杂散光,形成“干净”的检测子光束;扫描检测系统,用于对被检测光学元件进行扫描并记录表面缺陷及其空间分布。通过控制扫描反射镜、CCD相机转台的扫描速度实现大口径光学元件表面缺陷的快速检测。本发明采用紫外相干激光光源并结合并行光束扫描技术,解决了大口径光学元件表面纳米级缺陷高分辨快速检测难题,为超光滑大口径光学元件的加工检测提供了技术支撑。

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