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发明公开
基于光束扫描匀光的全息光栅双光束干涉曝光系统及其曝光方法审中-实审

公开(公告)号：CN116224722A

公开(公告)日：2023-06-06

申请号：CN202310116929.X

申请日：2023-02-15

Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所

Inventor： 赵成强 , 张海冬 , 曹红超 , 晋云霞 , 张益彬 , 刘世杰 , 邵建达

IPC: G03F7/20

Abstract: 一种基基于光束扫描匀光的全息光栅双光束干涉曝光系统及其曝光方法，该系统包括激光器、扫描光路、第四反光镜、半波片模块、第五反射镜、第二分光镜、第三半波片、第八反光镜、第六反光镜、第七反光镜、第一声光调制器、第二声光调制器、第一空间滤波器、第二空间滤波器、第一离轴反射镜、第二离轴反射镜、光栅基板和干涉条纹变化测量组件。本发明在实现光场均匀性指标的同时，可大幅提高系统的光能利用效率，从而缩短曝光时间，改善曝光系统的效率。

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