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公开(公告)号:CN1860588A
公开(公告)日:2006-11-08
申请号:CN200480028499.1
申请日:2004-09-07
Applicant: 东京毅力科创株式会社 , 美国商业机器公司
Inventor: 松田司 , 池田太郎 , 波多野达夫 , 立花光博 , 山崎英亮 , 格特·J·莱乌辛克 , 芬顿·R·麦克非 , 桑德拉·G·马尔霍特拉 , 安德鲁·H·西蒙 , 约翰·J·尤尔坎斯
IPC: H01L21/285 , C23C16/16 , H01L21/768
CPC classification number: C23C16/4408 , C23C16/16 , C23C16/45523 , H01L21/28562
Abstract: 本发明提供了一种利用连续流沉积工艺来沉积具有良好表面形貌的金属层的方法,该方法包括使处理室中的衬底交替暴露于金属-羰基前驱气和还原气中。在暴露于金属-羰基前驱气过程中,通过热分解在衬底上沉积薄金属层,随后使该金属层暴露于还原气中以利于从该金属层中除去反应副产物。可以重复金属-羰基前驱气和还原气暴露步骤直到形成期望厚度的金属层。金属羰基前驱体例如可以选自W(CO)6、Ni(CO)4、Mo(CO)6、Co2(CO)8、Rh4(CO)12、Re2(CO)10、Cr(CO)6和Ru3(CO)12。
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公开(公告)号:CN1860587A
公开(公告)日:2006-11-08
申请号:CN200480028497.2
申请日:2004-09-07
Applicant: 东京毅力科创株式会社 , 国际商业机器公司
Inventor: 山崎英亮 , 松田司 , 五味淳 , 波多野达夫 , 立花光博 , 松泽兴明 , 河野有美子 , 格特·J·莱乌辛克 , 芬顿·R·麦克非利 , 桑德拉·G·马尔霍特拉 , 安德鲁·H·西蒙 , 约翰·J·尤尔坎斯
IPC: H01L21/285 , C23C16/16 , H01L21/768
CPC classification number: C23C16/45523 , C23C16/045 , C23C16/16 , C23C16/4408 , H01L21/28556 , H01L21/76843 , H01L21/76876 , H01L21/76877
Abstract: 本发明提供了一种利用间歇前驱气流工艺在衬底上形成金属层的方法。该方法包括使衬底暴露于还原气中,同时使衬底暴露于金属-羰基前驱气脉冲中。该工艺进行到在衬底上形成期望厚度的金属层。该金属层可以形成在衬底上,或者该金属层可以形成在金属成核层上。
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公开(公告)号:CN100483637C
公开(公告)日:2009-04-29
申请号:CN200480028497.2
申请日:2004-09-07
Applicant: 东京毅力科创株式会社 , 国际商业机器公司
Inventor: 山崎英亮 , 松田司 , 五味淳 , 波多野达夫 , 立花光博 , 松泽兴明 , 河野有美子 , 格特·J·莱乌辛克 , 芬顿·R·麦克非利 , 桑德拉·G·马尔霍特拉 , 安德鲁·H·西蒙 , 约翰·J·尤尔坎斯
IPC: H01L21/285 , C23C16/16 , H01L21/768
CPC classification number: C23C16/45523 , C23C16/045 , C23C16/16 , C23C16/4408 , H01L21/28556 , H01L21/76843 , H01L21/76876 , H01L21/76877
Abstract: 本发明提供了一种利用间歇前驱气流工艺在衬底上形成金属层的方法。该方法包括使衬底暴露于还原气中,同时使衬底暴露于金属-羰基前驱气脉冲中。该工艺进行到在衬底上形成期望厚度的金属层。该金属层可以形成在衬底上,或者该金属层可以形成在金属成核层上。
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公开(公告)号:CN100472724C
公开(公告)日:2009-03-25
申请号:CN200480028499.1
申请日:2004-09-07
Applicant: 东京毅力科创株式会社 , 国际商业机器公司
Inventor: 松田司 , 池田太郎 , 波多野达夫 , 立花光博 , 山崎英亮 , 格特·J·莱乌辛克 , 芬顿·R·麦克非 , 桑德拉·G·马尔霍特拉 , 安德鲁·H·西蒙 , 约翰·J·尤尔坎斯
IPC: H01L21/285 , C23C16/16 , H01L21/768
CPC classification number: C23C16/4408 , C23C16/16 , C23C16/45523 , H01L21/28562
Abstract: 本发明提供了一种利用连续流沉积工艺来沉积具有良好表面形貌的金属层的方法,该方法包括使处理室中的衬底交替暴露于金属-羰基前驱气和还原气中。在暴露于金属-羰基前驱气过程中,通过热分解在衬底上沉积薄金属层,随后使该金属层暴露于还原气中以利于从该金属层中除去反应副产物。可以重复金属-羰基前驱气和还原气暴露步骤直到形成期望厚度的金属层。金属羰基前驱体例如可以选自W(CO)6、Ni(CO)4、Mo(CO)6、Co2(CO)8、Rh4(CO)12、Re2(CO)10、Cr(CO)6和Ru3(CO)12。
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公开(公告)号:CN1906325A
公开(公告)日:2007-01-31
申请号:CN200580001875.2
申请日:2005-02-08
Applicant: 东京毅力科创株式会社 , 国际商业机器公司
CPC classification number: C23C16/5096 , C23C16/02 , C23C16/16
Abstract: 本发明提供了一种用于在衬底上形成具有改进的形态的金属层的方法和处理设备。该方法包括:通过将衬底暴露至等离子体中的受激态物质来预处理衬底;将预处理的衬底暴露至包含羰络金属前体的处理气体;并且通过化学气相沉积处理在预处理的衬底表面上形成金属层。所述羰络金属前体包括W(CO)6、Ni(CO)4、Mo(CO)6、Co2(CO)8、Rh4(CO)12、Re2(CO)10、Cr(CO)6或Ru3(CO)12或其任意组合,并且金属层可以分别包含W、Ni、Mo、Co、Rh、Re、Cr或Ru或其任意组合。
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