公开(公告)号：CN107836034B

公开(公告)日：2022-07-19

申请号：CN201680040035.5

申请日：2016-06-03

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 尤凯鸿 ,  赫里特·J·勒斯因克 ,  考利·瓦吉达 ,  石坂忠大 ,  袴田隆宏

IPC: H01L21/28 ,  H01L21/285 ,  C23C16/16 ,  C23C16/455 ,  C23C16/46

Abstract: 提供了一种用于至少部分地填充基底中的特征部的方法。该方法包括提供包括特征部的基底，沉积钌(Ru)金属层以至少部分地填充所述特征部，和热处理所述基底以使所述特征部中的Ru金属层回流。

公开(公告)号：CN105765462B

公开(公告)日：2019-03-19

申请号：CN201480064441.6

申请日：2014-11-26

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 安东·J·德维利耶 ,  丹尼尔·富尔福德 ,  赫里特·J·勒斯因克

IPC: G03F7/20

Abstract: 本文中的技术包括提供将光空间控制地或基于像素地投影到基板上以调整各种基板属性的系统和方法。投影到基板表面的给定的基于像素的图像可以基于基板信号。基板信号可以在空间上表示跨基板的表面的非均匀性。这种非均匀性可以包括能量、热、临界尺寸、光刻曝光剂量等。这样的基于像素的光投影可以用于调整基板的各种属性，包括调整临界尺寸、加热均匀性、蒸发冷却以及产生感光剂。将这样的基于像素的光投影与光刻图案化工艺和/或加热过程相结合提高了处理的均匀性并且减少了缺陷。实施方式可以包括使用数字光处理(DLP)芯片、光栅光阀(GLV)或其他的基于网格的微投影技术。

公开(公告)号：CN107836034A

公开(公告)日：2018-03-23

申请号：CN201680040035.5

申请日：2016-06-03

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 尤凯鸿 ,  赫里特·J·勒斯因克 ,  考利·瓦吉达 ,  石坂忠大 ,  袴田隆宏

IPC: H01L21/28 ,  H01L21/285 ,  C23C16/16 ,  C23C16/455 ,  C23C16/46

CPC classification number: H01L23/5226 ,  H01L21/28556 ,  H01L21/28562 ,  H01L21/76814 ,  H01L21/76826 ,  H01L21/76876 ,  H01L21/76879 ,  H01L21/76882 ,  H01L23/53242

Abstract: 提供了一种用于至少部分地填充基底中的特征部的方法。该方法包括提供包括特征部的基底，沉积钌(Ru)金属层以至少部分地填充所述特征部，和热处理所述基底以使所述特征部中的Ru金属层回流。

公开(公告)号：CN105765462A

公开(公告)日：2016-07-13

申请号：CN201480064441.6

申请日：2014-11-26

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 安东·J·德维利耶 ,  丹尼尔·富尔福德 ,  赫里特·J·勒斯因克

IPC: G03F7/20

CPC classification number: H01L22/20 ,  G03F7/168 ,  G03F7/40 ,  G03F7/70991 ,  H01L21/027 ,  H01L21/67248 ,  H01L21/67253

Abstract: 本文中的技术包括提供将光空间控制地或基于像素地投影到基板上以调整各种基板属性的系统和方法。投影到基板表面的给定的基于像素的图像可以基于基板信号。基板信号可以在空间上表示跨基板的表面的非均匀性。这种非均匀性可以包括能量、热、临界尺寸、光刻曝光剂量等。这样的基于像素的光投影可以用于调整基板的各种属性，包括调整临界尺寸、加热均匀性、蒸发冷却以及产生感光剂。将这样的基于像素的光投影与光刻图案化工艺和/或加热过程相结合提高了处理的均匀性并且减少了缺陷。实施方式可以包括使用数字光处理(DLP)芯片、光栅光阀(GLV)或其他的基于网格的微投影技术。