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公开(公告)号：CN113767338B
公开(公告)日：2025-03-04
申请号：CN202080032161.2
申请日：2020-03-24
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: G03F7/30 , H01L21/67 , G03F7/16 , B01F25/421
Abstract: 描述了一种用于在给定的分配期间以极高的均匀性和可重复性按动态变化或静态的比率混合液体化学品的方法和系统。混合器包括多个流体供应管线，该多个流体供应管线包括细长囊，这些细长囊限定线性流动路径且被配置为横向地扩展以收集过程流体并且横向地收缩以将选定体积的过程流体输送到该混合器。
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公开(公告)号：CN110945159B
公开(公告)日：2022-03-01
申请号：CN201880049587.1
申请日：2018-07-27
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: C23C16/458 , C23C16/44 , C23C16/46 , C23C16/52 , H01L21/02 , H01L21/687
Abstract: 本文的技术包括用于将薄膜沉积到晶片的后侧表面以减少晶片弯曲和晶片变形的处理室。基板支承件提供围绕晶片的底部和/或侧面的环形周边密封，该基板支承件允许大部分基板后侧暴露于处理环境。被支承的晶片将室分成提供不同处理环境的下室和上室。处理室的下区段包括被配置成施加和移除薄膜的沉积硬件。上区段可以保持化学惰性环境，保护晶片顶部表面上的现有特征。使用多个排气部和压力差来防止沉积气体接近晶片的工作表面。
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公开(公告)号：CN113767338A
公开(公告)日：2021-12-07
申请号：CN202080032161.2
申请日：2020-03-24
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 描述了一种用于在给定的分配期间以极高的均匀性和可重复性按动态变化或静态的比率混合液体化学品的方法和系统。混合器包括多个流体供应管线，该多个流体供应管线包括细长囊，这些细长囊限定线性流动路径且被配置为横向地扩展以收集过程流体并且横向地收缩以将选定体积的过程流体输送到该混合器。
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公开(公告)号：CN110945159A
公开(公告)日：2020-03-31
申请号：CN201880049587.1
申请日：2018-07-27
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: C23C16/458 , C23C16/44 , C23C16/46 , C23C16/52 , H01L21/02 , H01L21/687
Abstract: 本文的技术包括用于将薄膜沉积到晶片的后侧表面以减少晶片弯曲和晶片变形的处理室。基板支承件提供围绕晶片的底部和/或侧面的环形周边密封，该基板支承件允许大部分基板后侧暴露于处理环境。被支承的晶片将室分成提供不同处理环境的下室和上室。处理室的下区段包括被配置成施加和移除薄膜的沉积硬件。上区段可以保持化学惰性环境，保护晶片顶部表面上的现有特征。使用多个排气部和压力差来防止沉积气体接近晶片的工作表面。
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