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公开(公告)号：CN102974500B
公开(公告)日：2015-11-11
申请号：CN201210320645.4
申请日：2012-08-31
Applicant: 东京毅力科创株式会社
CPC classification number: H01L21/67288
Abstract: 本发明提供基板处理装置和基板处理方法。在具有包括按照与基板的批次对应的处理液的每个种类准备的多个喷嘴的液体处理部的液体处理装置中，提供对于在液体处理部发生的故障能够抑制处理效率降低的技术。在一个批次的晶片的液体处理中使用的药液喷嘴发生故障时，停止使用与该一个批次对应的药液喷嘴，使用与该药液喷嘴不同的药液喷嘴进行处理的下一个批次的晶片进行处理。关于药液喷嘴有无故障发生的判断，依次检查已处理的各个晶片的液体处理状态以判断其是否良好，在使用相同药液喷嘴在不同的液体处理部中被处理的晶片，例如连续三次被判断为不良品时，判断为药液喷嘴发生故障。
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公开(公告)号：CN100370582C
公开(公告)日：2008-02-20
申请号：CN200510093927.5
申请日：2001-07-12
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本申请公开一种基板处理装置，其具有：包含供收容有多片基板的载体输入输出的载体输入输出部、以及相对于载置于该载体输入输出部上的载体进行基板的传递的第1传递部的载体工作站，在所说载体工作站的第1方向上与所说载体工作站相邻接地设置的、包含在基板上涂布抗蚀液的涂布部、对曝光后的基板进行显影的显影部、相对于涂布部及显影部进行基板的传递并与所说第1传递部之间进行基板的传递的主输送部的处理工作站，在所说第1方向上设置在曝光装置与所说处理工作站之间的、用来与所说曝光装置之间进行基板的传递的接口工作站，在与所说第1方向大致垂直的第2方向上，与所说载体工作站、所说处理工作站、或所说接口工作站相邻接地设置的、具有对基板进行检查的第1检查部的第1检查工作站。
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公开(公告)号：CN1737995A
公开(公告)日：2006-02-22
申请号：CN200510093927.5
申请日：2001-07-12
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本申请公开一种基板处理装置，其具有：包含供收容有多片基板的载体输入输出的载体输入输出部、以及相对于载置于该载体输入输出部上的载体进行基板的传递的第1传递部的载体工作站，在所说载体工作站的第1方向上与所说载体工作站相邻接地设置的、包含在基板上涂布抗蚀液的涂布部、对曝光后的基板进行显影的显影部、相对于涂布部及显影部进行基板的传递并与所说第1传递部之间进行基板的传递的主输送部的处理工作站，在所说第1方向上设置在曝光装置与所说处理工作站之间的、用来与所说曝光装置之间进行基板的传递的接口工作站，在与所说第1方向大致垂直的第2方向上，与所说载体工作站、所说处理工作站、或所说接口工作站相邻接地设置的、具有对基板进行检查的第1检查部的第1检查工作站。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102974500A
公开(公告)日：2013-03-20
申请号：CN201210320645.4
申请日：2012-08-31
Applicant: 东京毅力科创株式会社
CPC classification number: H01L21/67288
Abstract: 本发明提供基板处理装置和基板处理方法。在具有包括按照与基板的批次对应的处理液的每个种类准备的多个喷嘴的液体处理部的液体处理装置中，提供对于在液体处理部发生的故障能够抑制处理效率降低的技术。在一个批次的晶片的液体处理中使用的药液喷嘴发生故障时，停止使用与该一个批次对应的药液喷嘴，使用与该药液喷嘴不同的药液喷嘴进行处理的下一个批次的晶片进行处理。关于药液喷嘴有无故障发生的判断，依次检查已处理的各个晶片的液体处理状态以判断其是否良好，在使用相同药液喷嘴在不同的液体处理部中被处理的晶片，例如连续三次被判断为不良品时，判断为药液喷嘴发生故障。
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公开(公告)号：CN1225007C
公开(公告)日：2005-10-26
申请号：CN01123126.2
申请日：2001-07-12
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/00
CPC classification number: H01L21/67161 , G01N21/9501 , H01L21/67178 , H01L21/67184 , H01L21/67778 , H01L21/67781 , Y10S414/136 , Y10S414/137 , Y10S414/141
Abstract: 一种基板处理装置及基板处理方法，将收容盒工作站、具有涂布单元和显影单元的处理工作站、具有膜厚检查装置和缺陷检查装置的检查工作站配置成在与收容盒工作站的收容盒的排列方向大约垂直的方向上检查工作站设置在收容盒工作站与处理工作站之间。在这种结构中，由于是将检查工作站连接在处理工作站上，它们之间晶片的输送自动进行，因此能够简化从基板处理到检查的作业，缩短作业时间。
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公开(公告)号：CN102386119B
公开(公告)日：2015-03-25
申请号：CN201110267994.X
申请日：2011-09-06
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/67 , H01L21/677
CPC classification number: H01L21/67126 , B05D5/12 , H01L21/6715 , H01L21/67225 , H01L21/6723
Abstract: 本发明提供一种基板处理装置和基板处理方法。在构成多组件的组件成为不可使用组件时，抑制生产率的降低。产生了不可使用组件之后，将基板交付到在多个单区之中的最先成为能够载置的状态的输入组件中，在上述多个单区的每一个中，按照基板被交付到输入组件中的顺序，利用输送部件将基板依次输送到组件组中，交接到输出组件中。然后，按照基板被交付到输入组件中的顺序将基板从输出组件中取出，输送到后续组件或者基板载置部。此后，按照通常时基板被交付到输入组件中的恒定的顺序将基板从输出组件或者基板载置部输送到后续组件中。
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公开(公告)号：CN102386119A
公开(公告)日：2012-03-21
申请号：CN201110267994.X
申请日：2011-09-06
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/67 , H01L21/677
CPC classification number: H01L21/67126 , B05D5/12 , H01L21/6715 , H01L21/67225 , H01L21/6723
Abstract: 本发明提供一种基板处理装置和基板处理方法。在构成多组件的组件成为不可使用组件时，抑制生产率的降低。产生了不可使用组件之后，将基板交付到在多个单区之中的最先成为能够载置的状态的输入组件中，在上述多个单区的每一个中，按照基板被交付到输入组件中的顺序，利用输送部件将基板依次输送到组件组中，交接到输出组件中。然后，按照基板被交付到输入组件中的顺序将基板从输出组件中取出，输送到后续组件或者基板载置部。此后，按照通常时基板被交付到输入组件中的恒定的顺序将基板从输出组件或者基板载置部输送到后续组件中。
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公开(公告)号：CN1333552A
公开(公告)日：2002-01-30
申请号：CN01123126.2
申请日：2001-07-12
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/00
CPC classification number: H01L21/67161 , G01N21/9501 , H01L21/67178 , H01L21/67184 , H01L21/67778 , H01L21/67781 , Y10S414/136 , Y10S414/137 , Y10S414/141
Abstract: 一种基板处理装置及基板处理方法,将收容盒工作站、具有涂布单元和显影单元的处理工作站、具有膜厚检查装置和缺陷检查装置的检查工作站配置成在与收容盒工作站的收容盒的排列方向大约垂直的方向上检查工作站设置在收容盒工作站与处理工作站之间。在这种结构中,由于是将检查工作站连接在处理工作站上,它们之间晶片的输送自动进行,因此能够简化从基板处理到检查的作业,缩短作业时间。
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