公开(公告)号：CN106716598B

公开(公告)日：2020-08-14

申请号：CN201580051716.7

申请日：2015-09-17

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 园田主税 ,  宫原强 ,  大川胜宏 ,  宇都宫由典 ,  赤田光 ,  长谷部和久

IPC: H01L21/027 ,  B05C11/10 ,  G03F7/26

Abstract: 收纳多个存积有半导体制造用的处理液的容器的容器收纳装置包括：载置容器的载置台；根据载置在载置台的容器内的处理液的液量进行升降的支承板；和根据支承板的升降相对于容器的相对位置发生变化的阻挡件。阻挡件在容器内的液量低于规定值的情况下，上升至阻碍容器从载置台移动的位置。

公开(公告)号：CN107275259B

公开(公告)日：2021-11-30

申请号：CN201710201871.3

申请日：2017-03-30

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 稻富弘朗 ,  中村徹 ,  木本晃司 ,  清原康雄 ,  冈村聪 ,  枇杷聪 ,  山元伸矢 ,  大川胜宏 ,  矢羽田庆一 ,  中原哲郎

IPC: H01L21/67

Abstract: 本发明提供一种基板处理装置。防止处理液向干燥处理后的基板转移。在本发明中，具有：使用处理液来对基板进行液处理的液处理部；对由所述液处理部进行了液处理之后的湿润状态的所述基板进行干燥处理的干燥处理部；将处理前的所述基板向所述液处理部输送的第1输送部；从所述液处理部向所述干燥处理部输送湿润状态的所述基板的第2输送部；输送由所述液处理部进行液处理之前的所述基板、并且从所述干燥处理部输送干燥处理后的所述基板的第3输送部，在面对所述第3输送部的一侧配置有所述第1输送部、所述第2输送部以及所述干燥处理部，在面对所述第1输送部和所述第2输送部并与所述第3输送部相反的一侧配置有所述液处理部。

公开(公告)号：CN106716598A

公开(公告)日：2017-05-24

申请号：CN201580051716.7

申请日：2015-09-17

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 园田主税 ,  宫原强 ,  大川胜宏 ,  宇都宫由典 ,  赤田光 ,  长谷部和久

IPC: H01L21/027 ,  B05C11/10 ,  G03F7/26

Abstract: 收纳多个存积有半导体制造用的处理液的容器的容器收纳装置包括：载置容器的载置台；根据载置在载置台的容器内的处理液的液量进行升降的支承板；和根据支承板的升降相对于容器的相对位置发生变化的阻挡件。阻挡件在容器内的液量低于规定值的情况下，上升至阻碍容器从载置台移动的位置。

公开(公告)号：CN118366889A

公开(公告)日：2024-07-19

申请号：CN202410034476.0

申请日：2024-01-10

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 梅崎翔太 ,  森山茂 ,  大曲智隆 ,  矢羽田庆一 ,  大家修司 ,  田中雄一 ,  大川胜宏 ,  山中学 ,  板桥拓也

IPC: H01L21/67 ,  F26B5/00

Abstract: 本发明提供一种基板处理装置和基板处理装置的维护方法，能够顺利地进行干燥单元的维护。基板处理装置具备干燥单元和控制装置，该干燥单元将形成于水平的基板的上表面的液膜置换为超临界流体来对所述基板进行干燥。所述干燥单元具有壁板、电磁锁、压力传感器以及浓度传感器，所述壁板将内部空间与外部空间隔开，所述电磁锁在锁定状态与解锁状态之间切换，所述锁定状态是将所述壁板固定于限制从所述外部空间向所述内部空间的访问的位置的状态，所述解锁状态是允许所述壁板移动的状态。所述控制装置将所述电磁锁的状态从所述锁定状态切换为所述解锁状态的解锁条件包括：所述压力传感器的检测值为阈值以下；以及所述浓度传感器的检测值为阈值以下。

公开(公告)号：CN110010512A

公开(公告)日：2019-07-12

申请号：CN201811632949.8

申请日：2018-12-29

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 御所真高 ,  道木裕一 ,  枇杷聪 ,  冈村聪 ,  大川胜宏 ,  桾本裕一朗

IPC: H01L21/66 ,  H01L21/02

Abstract: 本发明涉及基片处理装置和基片处理方法，能够提高基片的成品率。实施方式的基片处理装置包括液量检测部和覆盖检测部。液量检测部检测形成于基片上的液膜的液量。覆盖检测部检测液膜对基片的覆盖状态。

公开(公告)号：CN107275259A

公开(公告)日：2017-10-20

申请号：CN201710201871.3

申请日：2017-03-30

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 稻富弘朗 ,  中村徹 ,  木本晃司 ,  清原康雄 ,  冈村聪 ,  枇杷聪 ,  山元伸矢 ,  大川胜宏 ,  矢羽田庆一 ,  中原哲郎

IPC: H01L21/67

CPC classification number: H01L21/67051 ,  B08B3/024 ,  B08B3/08 ,  B08B3/10 ,  H01L21/67161 ,  H01L21/67745 ,  H01L21/67023 ,  H01L21/67034

Abstract: 本发明提供一种基板处理装置。防止处理液向干燥处理后的基板转移。在本发明中，具有：使用处理液来对基板进行液处理的液处理部；对由所述液处理部进行了液处理之后的湿润状态的所述基板进行干燥处理的干燥处理部；将处理前的所述基板向所述液处理部输送的第1输送部；从所述液处理部向所述干燥处理部输送湿润状态的所述基板的第2输送部；输送由所述液处理部进行液处理之前的所述基板、并且从所述干燥处理部输送干燥处理后的所述基板的第3输送部，在面对所述第3输送部的一侧配置有所述第1输送部、所述第2输送部以及所述干燥处理部，在面对所述第1输送部和所述第2输送部并与所述第3输送部相反的一侧配置有所述液处理部。