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公开(公告)号：CN105845603A
公开(公告)日：2016-08-10
申请号：CN201610069114.0
申请日：2016-02-01
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/67
Abstract: 本发明提供一种基板液处理装置、基板液处理方法以及基板处理装置。不阻碍在对基板进行液处理时产生的气流而能够良好地对基板进行液处理。在本发明中，具有：基板旋转保持部(1013)，其用于保持基板(1004)并使基板旋转；处理液供给部(1014)，其向由基板旋转保持部保持着的基板的下表面供给处理液，基板旋转保持部具有：底板(1025)，其以与基板隔开间隔地配置在基板的下方；罩体(1026)，其由底板支承，配置于基板的外周外侧；排出口(1043)，其形成于底板和罩体之间，用于将在基板的下方产生的气流排出，底板和罩体之间的支承部分(1037)相对于底板的上表面向外侧突并与罩体连接。
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公开(公告)号：CN115349163B
公开(公告)日：2023-10-17
申请号：CN202180025344.6
申请日：2021-04-01
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/304
Abstract: 基板处理方法具有下述(A)～(C)。(A)在水平地保持基板并使其旋转的状态下，从包括与所述基板的下表面中央相对配置的多个喷嘴的喷嘴单元，向所述基板的下表面依次供给酸性或碱性的第1化学溶液、和纯水。(B)水平地保持所述基板并使其旋转，使所述基板干燥。(C)在供给所述第1化学溶液后且所述基板干燥前，从所述喷嘴单元的一所述喷嘴喷出纯水，在所述喷嘴单元之上形成覆盖所述喷嘴单元的全部的所述喷嘴的纯水的清洗膜。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN105845603B
公开(公告)日：2020-01-03
申请号：CN201610069114.0
申请日：2016-02-01
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/67
Abstract: 本发明提供一种基板液处理装置、基板液处理方法以及基板处理装置。不阻碍在对基板进行液处理时产生的气流而能够良好地对基板进行液处理。在本发明中，具有：基板旋转保持部(1013)，其用于保持基板(1004)并使基板旋转；处理液供给部(1014)，其向由基板旋转保持部保持着的基板的下表面供给处理液，基板旋转保持部具有：底板(1025)，其以与基板隔开间隔地配置在基板的下方；罩体(1026)，其由底板支承，配置于基板的外周外侧；排出口(1043)，其形成于底板和罩体之间，用于将在基板的下方产生的气流排出，底板和罩体之间的支承部分(1037)相对于底板的上表面向外侧突并与罩体连接。
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公开(公告)号：CN105632976B
公开(公告)日：2019-09-17
申请号：CN201510846534.0
申请日：2015-11-26
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/67
Abstract: 提供一种测量处理装置及方法、基板处理系统、测量用工具。能够不导致系统的大型化地在短时间内确认基板的膜去除的状态和包围构件的保持状态。利用设置于包围构件(302)的上方的第一摄像机～第三摄像机(601～603)来拍摄被去除了周缘部的处理膜的晶圆(W)和包围构件(302)，在测量处理装置(800)中，通过对由这些摄像机得到的摄像图像进行处理来测量晶圆(W)的周缘部中不存在上述处理膜的切割宽度以及晶圆(W)的周缘端与包围构件(302)之间的间隙宽度。
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公开(公告)号：CN105632976A
公开(公告)日：2016-06-01
申请号：CN201510846534.0
申请日：2015-11-26
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/67
Abstract: 提供一种测量处理装置及方法、基板处理系统、测量用工具。能够不导致系统的大型化地在短时间内确认基板的膜去除的状态和包围构件的保持状态。利用设置于包围构件(302)的上方的第一摄像机～第三摄像机(601～603)来拍摄被去除了周缘部的处理膜的晶圆(W)和包围构件(302)，在测量处理装置(800)中，通过对由这些摄像机得到的摄像图像进行处理来测量晶圆(W)的周缘部中不存在上述处理膜的切割宽度以及晶圆(W)的周缘端与包围构件(302)之间的间隙宽度。
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公开(公告)号：CN115349163A
公开(公告)日：2022-11-15
申请号：CN202180025344.6
申请日：2021-04-01
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/304
Abstract: 基板处理方法具有下述(A)～(C)。(A)在水平地保持基板并使其旋转的状态下，从包括与所述基板的下表面中央相对配置的多个喷嘴的喷嘴单元，向所述基板的下表面依次供给酸性或碱性的第1化学溶液、和纯水。(B)水平地保持所述基板并使其旋转，使所述基板干燥。(C)在供给所述第1化学溶液后且所述基板干燥前，从所述喷嘴单元的一所述喷嘴喷出纯水，在所述喷嘴单元之上形成覆盖所述喷嘴单元的全部的所述喷嘴的纯水的清洗膜。
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公开(公告)号：CN209804606U
公开(公告)日：2019-12-17
申请号：CN201920580555.6
申请日：2019-04-25
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/67
Abstract: 本实用新型提供一种基板处理装置，其能够减少对杯体进行抽吸的排气装置的负担，并有效地防止供给到基板的处理液从基板飞散后再次附着于基板的情况。该基板处理装置中，环状的覆盖部件(5)覆盖基板保持部(3)所保持的基板(W)的上表面的边缘部，比该边缘部靠径向内侧的基板(W)中央部未被覆盖部件(5)覆盖而显露。覆盖部件(5)的下表面(52)与基板(W)的上表面的边缘部之间形成有间隙(G)，在对杯体(2)的内部空间进行排气时，在杯体(2)的内部空间的上方所存在的气体，从覆盖部件(5)的内周面(51)所包围的空间，穿过该间隙(G)被导入至杯体(2)的内部空间。
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