公开(公告)号：CN115337782A

公开(公告)日：2022-11-15

申请号：CN202210489388.0

申请日：2022-05-06

Applicant: 东京应化工业株式会社

Inventor： 昆野健理 ,  森莉纱子

IPC: B01D61/00

Abstract: 本发明涉及含金属纳米粒子的组合物纯化品的制造方法和金属纳米粒子分散液纯化品的制造方法，所述含金属纳米粒子的组合物纯化品的制造方法包括：利用差压使含金属纳米粒子的组合物在液体状态下从具有连通孔的聚酰亚胺以及/或者聚酰胺酰亚胺多孔质膜的一侧向另一侧通液，所述金属纳米粒子分散液纯化品的制造方法包括：利用差压使金属纳米粒子分散液从具有连通孔的聚酰亚胺以及/或者聚酰胺酰亚胺多孔质膜的一侧向另一侧通液。

公开(公告)号：CN108363272B

公开(公告)日：2022-02-25

申请号：CN201810078813.0

申请日：2018-01-26

Applicant: 东京应化工业株式会社

Inventor： 昆野健理

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/075

公开(公告)号：CN108363272A

公开(公告)日：2018-08-03

申请号：CN201810078813.0

申请日：2018-01-26

Applicant: 东京应化工业株式会社

Inventor： 昆野健理

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/075

Abstract: 本发明提供用于压印的下层膜形成用组合物以及使用了该下层膜形成用组合物的图案形成方法，所述下层膜形成用组合物适合用于利用蚀刻法的图案的形成，能够分别将下层膜与纳米压印用固化性树脂层的蚀刻选择比、下层膜与金属膜的蚀刻选择比控制在最适当的范围，而且向基板的涂布性良好。一种用于压印的下层膜形成用组合物，含有(A)二氧化硅粒子、(B)光聚合性化合物、(C)光聚合引发剂、(D)溶剂，其特征在于，所述(A)二氧化硅粒子以及所述(B)光聚合性化合物的总量100质量份中的所述(A)二氧化硅粒子的含量超过20质量份，且不足90质量份。

公开(公告)号：CN115469508A

公开(公告)日：2022-12-13

申请号：CN202210442088.7

申请日：2022-04-25

Applicant: 东京应化工业株式会社

Inventor： 岩井武 ,  昆野健理 ,  青山洋平 ,  森莉纱子

IPC: G03F7/00 ,  G03F7/20 ,  G03F7/027 ,  G03F7/004

Abstract: 本发明涉及图案形成方法及固化性组合物的制造方法。图案形成方法，其包括下述工序：使用含有金属氧化物纳米粒子的固化性组合物，在基板上形成固化性膜的工序；将具有线与间隔图案的模具按压于固化性膜，从而在固化性膜上转印线与间隔图案的工序；在将模具按压于固化性膜的同时，使转印有线与间隔图案的固化性膜进行固化，从而形成固化膜的工序；以及，将模具从固化膜剥离，从而在基板上形成线与间隔图案的工序，形成于基板上的线与间隔图案的基部的线宽度x、与金属氧化物纳米粒子的体积平均一次粒径φ满足：0.03x

公开(公告)号：CN113777884A

公开(公告)日：2021-12-10

申请号：CN202110624051.1

申请日：2021-06-04

Applicant: 东京应化工业株式会社

Inventor： 昆野健理

IPC: G03F7/027 ,  G03F7/004 ,  G03F7/00

Abstract: 本发明涉及光固化性组合物及图案形成方法。一种光固化性组合物，其含有：(X)成分：平均一次粒径为50nm以下的金属氧化物纳米粒子；(P)成分：磷酸(甲基)丙烯酸酯；和(C)成分：光聚合引发剂。

公开(公告)号：CN110034009A

公开(公告)日：2019-07-19

申请号：CN201811593567.9

申请日：2018-12-25

Applicant: 东京应化工业株式会社

Inventor： 平野勋 ,  濑下武广 ,  昆野健理

IPC: H01L21/02 ,  G03F7/42 ,  C11D7/34

Abstract: 提供一种返工方法与能够适合用于该返工方法的酸性清洗液，该返工方法在表面具备包含含硅材料的下层膜的基板中，除去形成在下层膜上的图案化的有机树脂膜从而进行返工时，能够抑制对下层膜的损伤，并且从下层膜上良好地剥离有机树脂膜。在表面具备包含含硅材料的下层膜的基板中，除去形成在下层膜上的图案化的有机树脂膜从而进行返工时，使用包含可卤代的烷基磺酸的酸性清洗液进行有机树脂膜的除去。

公开(公告)号：CN117083309A

公开(公告)日：2023-11-17

申请号：CN202280021329.9

申请日：2022-03-11

Applicant: 东京应化工业株式会社

Inventor： 昆野健理 ,  森莉纱子

IPC: C08F2/50

Abstract: 一种光固化性组合物，其含有金属氧化物纳米粒子(X)、光聚合性化合物(B)和光自由基聚合引发剂(C)，相对于前述金属氧化物纳米粒子(X)及前述光聚合性化合物(B)的合计含量100质量份而言，前述光自由基聚合引发剂(C)的含量为10质量份以上。

公开(公告)号：CN116981700A

公开(公告)日：2023-10-31

申请号：CN202280021336.9

申请日：2022-03-07

Applicant: 东京应化工业株式会社

Inventor： 昆野健理 ,  森莉纱子

IPC: C08F2/46

Abstract: 一种光固化性组合物，其含有金属氧化物纳米粒子(X)和光聚合性硫化合物(C)。

公开(公告)号：CN115220304A

公开(公告)日：2022-10-21

申请号：CN202210414740.4

申请日：2022-04-15

Applicant: 东京应化工业株式会社

Inventor： 昆野健理 ,  森梨纱子

IPC: G03F7/027 ,  G03F7/004 ,  G03F7/00

Abstract: 本发明涉及纳米压印用组合物及图案形成方法。一种纳米压印用组合物，其含有不饱和酸金属盐(R)、光聚合性化合物(B)、光自由基聚合引发剂、和与(R)及(B)具有相溶性的溶剂成分，相对于(R)与(B)的合计100质量份而言，(R)的含量为50质量份以上。

公开(公告)号：CN113777883A

公开(公告)日：2021-12-10

申请号：CN202110555060.X

申请日：2021-05-20

Applicant: 东京应化工业株式会社

Inventor： 昆野健理 ,  平野勋

IPC: G03F7/027 ,  G03F7/004 ,  G03F7/00

Abstract: 本发明涉及光固化性组合物及图案形成方法。本发明的课题在于提供与基板的密合性良好的光固化性组合物及图案形成方法。解决手段为含有下述成分的光固化性组合物，即，(A)成分：含羧基的(甲基)丙烯酸酯、(B)成分：酸酐、和(D)成分：光聚合引发剂。