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公开(公告)号:CN117467307A
公开(公告)日:2024-01-30
申请号:CN202310908049.6
申请日:2023-07-24
Applicant: 东京应化工业株式会社
Abstract: 本发明涉及固化性组合物。提供良好地固化并且基于喷墨涂布的成膜性也良好的固化性组合物、该固化性组合物的固化物、和使用前述固化性组合物的固化膜的形成方法。在固化性组合物中,含有多官能乙烯基醚化合物(A)、多官能硫醇化合物(B)、固化剂(C)、光敏化剂(D)、和稳定剂(E),作为固化剂(C),使用光自由基聚合引发剂(C1)、和光产酸剂(C2),作为光敏化剂(D),使用咔唑化合物,作为稳定剂(E),使用咪唑化合物。
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公开(公告)号:CN119472166A
公开(公告)日:2025-02-18
申请号:CN202411061876.7
申请日:2024-08-05
Applicant: 东京应化工业株式会社
Abstract: 本发明涉及低折射率膜形成用固化性组合物、低折射率膜、光学器件及低折射率膜的制造方法。本发明的课题是提供能够形成耐热性优异的固化膜的低折射率膜形成用固化性组合物。本发明的解决手段为低折射率膜形成用固化性组合物,其含有中空填料(A)、聚合性化合物(B)和聚合引发剂(C)而不含有碱溶性树脂,前述聚合性化合物(B)包含具有5个以上的聚合性官能团的化合物(B1)、和具有1个以上3个以下的聚合性官能团的化合物(B2),前述化合物(B1)的质量与前述化合物(B2)的质量之比(B1/B2)为0.25以上3以下。
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公开(公告)号:CN115469508A
公开(公告)日:2022-12-13
申请号:CN202210442088.7
申请日:2022-04-25
Applicant: 东京应化工业株式会社
Abstract: 本发明涉及图案形成方法及固化性组合物的制造方法。图案形成方法,其包括下述工序:使用含有金属氧化物纳米粒子的固化性组合物,在基板上形成固化性膜的工序;将具有线与间隔图案的模具按压于固化性膜,从而在固化性膜上转印线与间隔图案的工序;在将模具按压于固化性膜的同时,使转印有线与间隔图案的固化性膜进行固化,从而形成固化膜的工序;以及,将模具从固化膜剥离,从而在基板上形成线与间隔图案的工序,形成于基板上的线与间隔图案的基部的线宽度x、与金属氧化物纳米粒子的体积平均一次粒径φ满足:0.03x
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