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公开(公告)号：CN115220304A
公开(公告)日：2022-10-21
申请号：CN202210414740.4
申请日：2022-04-15
Applicant: 东京应化工业株式会社
Inventor： 昆野健理 , 森梨纱子
IPC: G03F7/027 , G03F7/004 , G03F7/00
Abstract: 本发明涉及纳米压印用组合物及图案形成方法。一种纳米压印用组合物，其含有不饱和酸金属盐(R)、光聚合性化合物(B)、光自由基聚合引发剂、和与(R)及(B)具有相溶性的溶剂成分，相对于(R)与(B)的合计100质量份而言，(R)的含量为50质量份以上。
