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公开(公告)号：CN106064339B
公开(公告)日：2020-01-10
申请号：CN201610244328.7
申请日：2016-04-19
Applicant: 不二越机械工业株式会社
Abstract: 提供了一种双面抛光设备和抛光方法，该双面抛光设备能够令人满意地执行高硬度材料的抛光。使上表面板旋转的第一旋转轴具有筒形，竖直地延伸，并且具有固定至其上端的卡箍；使太阳齿轮旋转的第二旋转轴可旋转地插入穿过筒形的第一旋转轴并竖直地延伸，并且具有固定至其上端的小齿轮；太阳齿轮具有筒形并且可旋转地支撑在第一旋转轴的上端部分的外侧，并具有形成在内周部上的内齿和与托架啮合的形成在外周部上的外齿；并且空隙部形成在第一旋转轴的上部处，并且在该空隙部中布置有行星齿轮，该行星齿轮与设置在用于驱动太阳齿轮的第二旋转轴上的小齿轮和太阳齿轮的内齿啮合，并且将第二旋转轴的旋转传递至太阳齿轮。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN106335004B
公开(公告)日：2019-10-25
申请号：CN201610531125.6
申请日：2016-07-07
Applicant: 不二越机械工业株式会社
IPC: B24B53/12 , B24B53/017
Abstract: 本发明涉及供双面研磨装置的研磨垫用的修整装置和修整方法，以便提供能够均匀修整研磨垫的修整装置的修整方法。修整装置包括第一修整磨石(51)和第二修整磨石(52)，它们通过在抵靠在对应的研磨垫(17)和(18)上的同时沿上研磨板(12)和下研磨板(14)的径向移动来磨削研磨垫(17)和(18)，其中，第一修整磨石(51)和第二修整磨石(52)被设置为具有：内侧区域部(P)；外侧区域部(Q)；以及中间区域部(R)，其中，内侧区域部(P)和外侧区域部(Q)中的每一个沿研磨板(12)和(14)的周向延伸的长度比中间区域部(R)沿研磨板的周向延伸的长度长。
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公开(公告)号：CN107073675B
公开(公告)日：2019-06-07
申请号：CN201580057515.8
申请日：2015-09-25
Applicant: 信越半导体股份有限公司 , 不二越机械工业株式会社
IPC: B24B37/10 , B24B37/34 , B24B53/017 , H01L21/304
Abstract: 本发明提供一种研磨装置，其是分度方式的研磨装置，所述研磨装置具备：研磨头，其用以保持晶片；多数个平台，其贴附有研磨布且所述研磨布用以研磨前述晶片；以及，装载和卸载台，其用以将前述晶片安装至前述研磨头上、或从前述研磨头剥离；并且，根据使前述研磨头回转移动，来切换在前述研磨头上所保持的用于前述晶片的研磨的前述平台，并进行前述晶片的研磨；其中，所述研磨装置的特征在于：具有平台上下移动机构，所述平台上下移动机构能够使前述平台上下移动。由此，提供一种研磨装置，其能够使在研磨中将力矩荷重施加至研磨头上时所产生的位移量变小。
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公开(公告)号：CN107073675A
公开(公告)日：2017-08-18
申请号：CN201580057515.8
申请日：2015-09-25
Applicant: 信越半导体股份有限公司 , 不二越机械工业株式会社
IPC: B24B37/10 , B24B37/34 , B24B53/017 , H01L21/304
Abstract: 本发明提供一种研磨装置，其是分度方式的研磨装置，所述研磨装置具备：研磨头，其用以保持晶片；多数个平台，其贴附有研磨布且所述研磨布用以研磨前述晶片；以及，装载和卸载台，其用以将前述晶片安装至前述研磨头上、或从前述研磨头剥离；并且，根据使前述研磨头回转移动，来切换在前述研磨头上所保持的用于前述晶片的研磨的前述平台，并进行前述晶片的研磨；其中，所述研磨装置的特征在于：具有平台上下移动机构，所述平台上下移动机构能够使前述平台上下移动。由此，提供一种研磨装置，其能够使在研磨中将力矩荷重施加至研磨头上时所产生的位移量变小。
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公开(公告)号：CN106335004A
公开(公告)日：2017-01-18
申请号：CN201610531125.6
申请日：2016-07-07
Applicant: 不二越机械工业株式会社
IPC: B24B53/12 , B24B53/017
Abstract: 本发明涉及供双面研磨装置的研磨垫用的修整装置和修整方法，以便提供能够均匀修整研磨垫的修整装置的修整方法。修整装置包括第一修整磨石(51)和第二修整磨石(52)，它们通过在抵靠在对应的研磨垫(17)和(18)上的同时沿上研磨板(12)和下研磨板(14)的径向移动来磨削研磨垫(17)和(18)，其中，第一修整磨石(51)和第二修整磨石(52)被设置为具有：内侧区域部(P)；外侧区域部(Q)；以及中间区域部(R)，其中，内侧区域部(P)和外侧区域部(Q)中的每一个沿研磨板(12)和(14)的周向延伸的长度比中间区域部(R)沿研磨板的周向延伸的长度长。
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公开(公告)号：CN106064339A
公开(公告)日：2016-11-02
申请号：CN201610244328.7
申请日：2016-04-19
Applicant: 不二越机械工业株式会社
Abstract: 提供了一种双面抛光设备和抛光方法，该双面抛光设备能够令人满意地执行高硬度材料的抛光。使上表面板旋转的第一旋转轴具有筒形，竖直地延伸，并且具有固定至其上端的卡箍；使太阳齿轮旋转的第二旋转轴可旋转地插入穿过筒形的第一旋转轴并竖直地延伸，并且具有固定至其上端的小齿轮；太阳齿轮具有筒形并且可旋转地支撑在第一旋转轴的上端部分的外侧，并具有形成在内周部上的内齿和与托架啮合的形成在外周部上的外齿；并且空隙部形成在第一旋转轴的上部处，并且在该空隙部中布置有行星齿轮，该行星齿轮与设置在用于驱动太阳齿轮的第二旋转轴上的小齿轮和太阳齿轮的内齿啮合，并且将第二旋转轴的旋转传递至太阳齿轮。
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