制造太阳能级多晶硅的装置及其方法

    公开(公告)号:CN101377010A

    公开(公告)日:2009-03-04

    申请号:CN200710045392.3

    申请日:2007-08-30

    摘要: 本发明公开了一种制造太阳能级多晶硅的装置,包括:真空室[1],其上方设有加料器[3],其内设置有悬浮熔炼坩锅[2]。悬浮熔炼坩锅[2]的外围绕有感应线圈[5]、上方设有感应等离子发生器[4]、下方设有由定向凝固机构[8]控制的水冷底盘[6]及其升降装置。水冷底盘[6]下拉行程四周设有石墨加热套[7]。本发明还公开了一种太阳能级多晶硅的制造方法,其步骤为:1.原料选择;2.熔化;3.悬浮熔炼;4.等离子除杂;5.定向凝固成型;6.连续加料。本发明在一台设备中实现了等离子熔炼、悬浮熔炼和定向凝固工艺,取得了连续、快速、高效生产低成本太阳能级多晶硅的有益效果。

    薄膜太阳电池用复合背反射金属电极及其制备方法和应用

    公开(公告)号:CN102569433B

    公开(公告)日:2016-06-29

    申请号:CN201010597396.4

    申请日:2010-12-17

    CPC分类号: Y02P70/521

    摘要: 本发明公开了一种薄膜太阳电池用复合背反射金属电极,它是一种复合多层膜,在衬底上依次沉积过渡层金属、银膜和掺铝氧化锌。本发明还公开了该复合背反射金属电极的制备方法。本发明复合背反射金属电极由于过渡层金属与柔性衬底有优异的黏附力,使得所沉积的各层薄膜不易从衬底上脱落;同时,银膜具有明显的织构,形成陷光结构,增强了入射光的反射,使得入射光在电池吸收层中的吸收更充分,提高电池性能;掺铝氧化锌具有合适的厚度,不仅阻止银在电池制备过程中扩散进入电池,还可以起到覆盖银膜表面尖峰以及增强反射光的作用。因此,本发明提高了薄膜与衬底之间的结合力,显著提高电池性能和均匀性。

    大面积GaAs衬底腐蚀工艺
    9.
    发明授权

    公开(公告)号:CN101752241B

    公开(公告)日:2013-04-10

    申请号:CN200810204629.2

    申请日:2008-12-16

    IPC分类号: H01L21/308

    摘要: 本发明公开了一种快速获得大面积GaAs衬底上外延薄膜的简单腐蚀工艺。该工艺主要包括1、样品腐蚀阻挡层的设计;2、真空无气泡粘结工艺;3、GaAs衬底的背面腐蚀前处理;4、样品的放置;5、衬底腐蚀溶液的选择和配比保持;6、溶液的搅动;7、腐蚀阻挡层的去除。本发明可以广泛应用于III-V高效太阳电池、大功率AlGaInP LED器件、GaAs基薄膜电子学器件等。

    柔性薄膜太阳电池组件
    10.
    发明授权

    公开(公告)号:CN101419990B

    公开(公告)日:2012-10-17

    申请号:CN200710047428.1

    申请日:2007-10-25

    CPC分类号: Y02E10/50

    摘要: 本发明公开了一种柔性薄膜太阳电池,包括:覆盖膜[110]、粘接剂层[120]与背面衬底膜[130]连接;粘接剂层[120]中具有若干由沉积在薄膜衬底上的太阳电池单元[100];衬底两端通过导电银浆[170]实现电池单元组件串联;背面衬底膜[130]的两端各有一个互联条[161],与最外端的太阳电池单元组件的电极相连;在太阳电池组件的一个引出端上设置有旁路二极管[140]。上述电池单元沉积在聚酯膜衬底或者金属箔衬底上。本发明取得了重量轻、适应环境温度宽、重量比功率大等有益效果。