大面积GaAs衬底腐蚀工艺
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101752241A

    公开(公告)日:2010-06-23

    申请号:CN200810204629.2

    申请日:2008-12-16

    Abstract: 本发明公开了一种快速获得大面积GaAs衬底上外延薄膜的简单腐蚀工艺。该工艺主要包括1、样品腐蚀阻挡层的设计;2、真空无气泡粘结工艺;3、GaAs衬底的背面腐蚀前处理;4、样品的放置;5、衬底腐蚀溶液的选择和配比保持;6、溶液的搅动;7、腐蚀阻挡层的去除。本发明可以广泛应用于III-V高效太阳电池、大功率AlGaInP LED器件、GaAs基薄膜电子学器件等。

    高效太阳电池新型圆角集成旁路二极管的制造方法

    公开(公告)号:CN101752302A

    公开(公告)日:2010-06-23

    申请号:CN200810204034.7

    申请日:2008-12-04

    Abstract: 本发明涉及太阳电池制造,公开了一种高效太阳电池新型圆角集成旁路二极管的制造方法,包括1、圆角集成旁路二极管图形光刻版设计与制作;2、圆角集成旁路二极管图形湿法化学腐蚀隔离槽;3、背面电极蒸发Pd/Ag/Au;4、集成二极管正面电极光刻版防短路设计与蒸发;5、减反射膜蒸发AlO/TiO;6、划片机电池分离;7、检测,本发明解决了这种太阳电池易受静电击穿和产量限制等问题,取得了成本低廉、实现十几层化合物半导体材料大面积均匀刻蚀、时间可控、可重复性高,以及器件可靠性改善等有益效果。

    大面积GaAs衬底腐蚀工艺
    3.
    发明授权

    公开(公告)号:CN101752241B

    公开(公告)日:2013-04-10

    申请号:CN200810204629.2

    申请日:2008-12-16

    Abstract: 本发明公开了一种快速获得大面积GaAs衬底上外延薄膜的简单腐蚀工艺。该工艺主要包括1、样品腐蚀阻挡层的设计;2、真空无气泡粘结工艺;3、GaAs衬底的背面腐蚀前处理;4、样品的放置;5、衬底腐蚀溶液的选择和配比保持;6、溶液的搅动;7、腐蚀阻挡层的去除。本发明可以广泛应用于III-V高效太阳电池、大功率AlGaInP LED器件、GaAs基薄膜电子学器件等。

    柔性薄膜太阳电池组件
    4.
    发明授权

    公开(公告)号:CN101419990B

    公开(公告)日:2012-10-17

    申请号:CN200710047428.1

    申请日:2007-10-25

    CPC classification number: Y02E10/50

    Abstract: 本发明公开了一种柔性薄膜太阳电池,包括:覆盖膜[110]、粘接剂层[120]与背面衬底膜[130]连接;粘接剂层[120]中具有若干由沉积在薄膜衬底上的太阳电池单元[100];衬底两端通过导电银浆[170]实现电池单元组件串联;背面衬底膜[130]的两端各有一个互联条[161],与最外端的太阳电池单元组件的电极相连;在太阳电池组件的一个引出端上设置有旁路二极管[140]。上述电池单元沉积在聚酯膜衬底或者金属箔衬底上。本发明取得了重量轻、适应环境温度宽、重量比功率大等有益效果。

    柔性薄膜太阳电池组件
    5.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101419990A

    公开(公告)日:2009-04-29

    申请号:CN200710047428.1

    申请日:2007-10-25

    CPC classification number: Y02E10/50

    Abstract: 本发明公开了一种柔性薄膜太阳电池,包括:覆盖膜[110]、粘接剂层[120]与背面衬底膜[130]连接;粘接剂层[120]中具有若干由沉积在薄膜衬底上的太阳电池单元[100];衬底两端通过导电银浆[170]实现电池单元组件串联;背面衬底膜[130]的两端各有一个互联条[161],与最外端的太阳电池单元组件的电极相连;在太阳电池组件的一个引出端上设置有旁路二极管[140]。上述电池单元沉积在聚酯膜衬底或者金属箔衬底上。本发明取得了重量轻、适应环境温度宽、重量比功率大等有益效果。

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