大面积GaAs衬底腐蚀工艺
    1.
    发明授权

    公开(公告)号:CN101752241B

    公开(公告)日:2013-04-10

    申请号:CN200810204629.2

    申请日:2008-12-16

    IPC分类号: H01L21/308

    摘要: 本发明公开了一种快速获得大面积GaAs衬底上外延薄膜的简单腐蚀工艺。该工艺主要包括1、样品腐蚀阻挡层的设计;2、真空无气泡粘结工艺;3、GaAs衬底的背面腐蚀前处理;4、样品的放置;5、衬底腐蚀溶液的选择和配比保持;6、溶液的搅动;7、腐蚀阻挡层的去除。本发明可以广泛应用于III-V高效太阳电池、大功率AlGaInP LED器件、GaAs基薄膜电子学器件等。

    大面积GaAs衬底腐蚀工艺
    4.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101752241A

    公开(公告)日:2010-06-23

    申请号:CN200810204629.2

    申请日:2008-12-16

    IPC分类号: H01L21/308

    摘要: 本发明公开了一种快速获得大面积GaAs衬底上外延薄膜的简单腐蚀工艺。该工艺主要包括1、样品腐蚀阻挡层的设计;2、真空无气泡粘结工艺;3、GaAs衬底的背面腐蚀前处理;4、样品的放置;5、衬底腐蚀溶液的选择和配比保持;6、溶液的搅动;7、腐蚀阻挡层的去除。本发明可以广泛应用于III-V高效太阳电池、大功率AlGaInP LED器件、GaAs基薄膜电子学器件等。