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公开(公告)号:CN111575661B
公开(公告)日:2022-08-05
申请号:CN202010268505.1
申请日:2020-04-07
Applicant: 上海大学
Abstract: 本发明公开了一种提高SMR器件的回波损耗和Q值的方法,通过改变磁控溅射功率密度实现布拉格层中高声阻抗层钨薄膜的相变,从而提高钨薄膜的声阻抗,进而提高布拉格层反射器的声波反射率的方法;除此之外,钨薄膜的相变改变了布拉格层中的应力水平,经过应力的传递,优化了生长在布拉格层上的ZnO压电薄膜的(002)织构,从而得到了谐振特性优良的SMR器件,极大地提升了SMR器件的品质因子Q值。提供了一种通过布拉格层中薄膜的相变来优化SMR器件的谐振特性的新方法,本发明方法有望为提高SMR器件性能提供新的途径。本发明制备方法简便,易于操作,成本低。
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公开(公告)号:CN113582727A
公开(公告)日:2021-11-02
申请号:CN202110665214.0
申请日:2021-06-16
Applicant: 上海大学
IPC: C04B41/87
Abstract: 本发明公开了一种在石墨材料表面制备硬质金属碳化物涂层的方法,将石墨材料埋入以硼砂为基盐的混合盐浴中,并加热至熔融状态,进行涂层的制备反应。反应一段时间后,取出石墨样品,淬火至室温,洗净样品表面残盐后干燥,即可在石墨表面获得一层致密耐磨的金属碳化物涂层。本发明方法用于多种含碳材料表面致密化改性,制备工艺简单、设备要求低、成本低廉。所制备的金属碳化物涂层具有极高的硬度和极佳的耐磨性能,和优良的耐腐蚀性能;本发明方法广泛应用于各种复杂恶劣环境下及相关特种应用条件,包括航空航天工程和恶劣海洋环境。
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公开(公告)号:CN109666901A
公开(公告)日:2019-04-23
申请号:CN201910042621.9
申请日:2019-01-17
Applicant: 上海大学 , 苏州善柔真空科技有限公司
Abstract: 本发明提供一种用于提高石墨模具表面硬度和脱膜性的近净尺寸复合层的结构及其制备方法,在真空环境和一定的温度条件下,在石墨模具的表面采用电子束蒸发工艺,或金属离子注入,或二者相结合的方法,反应生成一定厚度的硬质过渡层TiC或CrC,然后采用PECVD工艺,在硬质过渡层的表面生长一层超硬薄膜DLC或SiC作为保护层。本发明通过制备一层硬质过渡层以提高膜基结合力,使得超硬薄膜可涂覆在石墨模具表面,提高石墨模具的表面硬度及脱膜性能。同时,该制备方法可实现石墨模具表面近净尺寸涂层的制备,确保了石墨模具在涂覆保护层之后依旧满足原有模具的尺寸和精度要求。
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公开(公告)号:CN103334080A
公开(公告)日:2013-10-02
申请号:CN201310223738.X
申请日:2013-06-04
Applicant: 上海大学
Abstract: 本发明涉及一种AlN膜表面的金属化层制备方法,适用于微电子工业中电路基板和封装领域。按照以下工艺步骤进行:在真空环境和一定的生长温度条件下,首先在基板表面用磁控溅射法生长所需厚度的AlN膜,然后在AlN膜表面溅射生长TiN1-x、AlN1-x或CrN1-x(x=0-1)梯度膜(x由0逐渐过渡到1,即由富氮相逐步过渡到纯金属相),最后在适当的温度下溅射生长纯Cu膜。另外,可以根据Cu膜使用厚度的需要用电镀法镀Cu,使Cu膜增厚以及在前述每一步膜生长过程后进行适当的退火处理以提高膜层之间的结合力。使用该方法获得的薄膜具有纯度高、粘附力强的优点,保证了封装过程中的焊接强度和可靠性。
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公开(公告)号:CN116607113A
公开(公告)日:2023-08-18
申请号:CN202310575373.0
申请日:2023-05-22
Applicant: 上海大学
Abstract: 本发明涉及一种耐腐蚀低接触电阻复合层及其制备方法,表面功能薄膜材料技术领域,制备方法包括:通过磁控溅射在基底(1)上依次沉积硬质层(2)和导电层(3);再通过电镀沉积耐腐蚀层(4);其中耐腐蚀层(4)为Ni/WS2层。与现有技术相比,本发明通过调节铜及铜合金表面涂层结构,获得了具有耐腐蚀和低接触电阻的复合涂层;通过调节膜层结构,可以提升复合涂层的硬度、耐腐蚀性能和降低接触电阻。
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公开(公告)号:CN113437270A
公开(公告)日:2021-09-24
申请号:CN202110666675.X
申请日:2021-06-16
Applicant: 上海大学
IPC: H01M4/36 , H01M4/505 , H01M4/525 , H01M4/62 , H01M10/0525 , C23C14/08 , C23C14/22 , C23C14/54 , C23C14/35
Abstract: 本发明公开了一种双层包覆层改性锂离子电池正极材料粉体及其制备方法,基体材料为镍钴锰酸锂三元正极,第一层包覆层为导电的碳纳米球涂层,第二层包覆层为金属氧化物涂层。其中,所述第一层碳纳米球涂层由湿法分散‑烧结法制备;所述第二层金属氧化物涂层由磁控溅射法制备,最终形成碳纳米球/金属氧化物双层涂层。本发明所述的双层包覆层有效的解决的单层金属氧化物涂层导电性不佳的问题,同时还阻止了循环中电解液中少量的HF对正极材料的腐蚀作用,因此双层包覆后的正极材料具有高的倍率性能、高比容量以及良好的循环性能;同时,本发明方法简单、易于操作适合大规模产业化生产。
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公开(公告)号:CN113235125A
公开(公告)日:2021-08-10
申请号:CN202110538721.8
申请日:2021-05-18
Applicant: 上海大学
IPC: C25B11/077 , C25B11/061 , C25B3/23 , C25B3/07 , C23C18/12
Abstract: 本发明公开了一种镍基NiCo2O4电催化剂及其在电催化甘油氧化中的应用。该电催化剂的制备方法包括:(1)将镍载体置于含有钴盐和沉淀剂的混合溶液中,采用溶剂热法或水热法使镍载体上生长NiCo(OH)x催化剂前驱体;(2)将该生长有NiCo(OH)x催化剂前驱体的镍载体置于焙烧气氛下进行焙烧,即得该镍基NiCo2O4电催化剂。该催化剂不仅电催化活性高(当将甘油氧化为甲酸时,获得的甲酸的法拉第效率可达98%,甲酸产率可达1300μmol·cm‑2·h‑1)、稳定性强;而且在100mA·cm‑2的电流密度下持续电解240小时后,其电位几乎无衰减,使用寿命长;同时其制备方法步骤简便、成本低廉。
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公开(公告)号:CN102899624A
公开(公告)日:2013-01-30
申请号:CN201210349412.7
申请日:2012-09-20
Applicant: 上海大学
Abstract: 本发明涉及一种透明导电氧化物复合薄膜的制备方法,属于功能薄膜材料(光电子信息材料)技术领域。该透明导电氧化物复合膜在超白玻璃基材上底层生长透明和导电性能优越的金属氧化物层、表面层生长高温下性能稳定的金属氧化物层。两种金属氧化物层所采用的制备条件和方法均是在室温条件下采用射频磁控溅射的方法进行生长。本发明方法的优点是所制成的导电基板的复合透明导电膜具有高电导率、高光学透过率、厚度均匀性好、高热稳定性,高温下光电性能稳定,与玻璃基材结合牢固。
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公开(公告)号:CN118307343A
公开(公告)日:2024-07-09
申请号:CN202410420858.7
申请日:2024-04-09
Applicant: 上海大学
IPC: C04B41/89
Abstract: 本发明涉及一种碳化钽多层涂层结构及其制备方法,所述结构主要包括碳化钽下层、碳化钽过渡层以及碳化钽上层;该制备方法包括碳化钽前驱体的制备,将碳化钽前驱体粉末、有机溶剂和粘结剂混合,球磨充分得到碳化钽浆料;将浆料均匀的涂覆在碳基体表面,干燥脱脂后,在惰性气氛条件下进行梯度高温烧结,得到碳化钽多层涂层。与现有技术相比,本发明采用料浆‑烧结法在碳基体表面制备厚膜,通过烧结随机取向的TaC预涂层,晶粒生长后形成无贯穿性裂纹TaC多层膜。该多层膜具有优异力学性能,解决现有TaC涂层与碳基体之间热膨胀系数不匹配的问题,防止开孔、裂纹和化学刻蚀对碳材料衬底的损坏。
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