一种碳化钽多层涂层结构及其制备方法

    公开(公告)号:CN118307343A

    公开(公告)日:2024-07-09

    申请号:CN202410420858.7

    申请日:2024-04-09

    Applicant: 上海大学

    Abstract: 本发明涉及一种碳化钽多层涂层结构及其制备方法,所述结构主要包括碳化钽下层、碳化钽过渡层以及碳化钽上层;该制备方法包括碳化钽前驱体的制备,将碳化钽前驱体粉末、有机溶剂和粘结剂混合,球磨充分得到碳化钽浆料;将浆料均匀的涂覆在碳基体表面,干燥脱脂后,在惰性气氛条件下进行梯度高温烧结,得到碳化钽多层涂层。与现有技术相比,本发明采用料浆‑烧结法在碳基体表面制备厚膜,通过烧结随机取向的TaC预涂层,晶粒生长后形成无贯穿性裂纹TaC多层膜。该多层膜具有优异力学性能,解决现有TaC涂层与碳基体之间热膨胀系数不匹配的问题,防止开孔、裂纹和化学刻蚀对碳材料衬底的损坏。

Patent Agency Ranking