一种耐腐蚀低接触电阻复合层及其制备方法

    公开(公告)号:CN116607113A

    公开(公告)日:2023-08-18

    申请号:CN202310575373.0

    申请日:2023-05-22

    Applicant: 上海大学

    Abstract: 本发明涉及一种耐腐蚀低接触电阻复合层及其制备方法,表面功能薄膜材料技术领域,制备方法包括:通过磁控溅射在基底(1)上依次沉积硬质层(2)和导电层(3);再通过电镀沉积耐腐蚀层(4);其中耐腐蚀层(4)为Ni/WS2层。与现有技术相比,本发明通过调节铜及铜合金表面涂层结构,获得了具有耐腐蚀和低接触电阻的复合涂层;通过调节膜层结构,可以提升复合涂层的硬度、耐腐蚀性能和降低接触电阻。

    一种碳化钽多层涂层结构及其制备方法

    公开(公告)号:CN118307343A

    公开(公告)日:2024-07-09

    申请号:CN202410420858.7

    申请日:2024-04-09

    Applicant: 上海大学

    Abstract: 本发明涉及一种碳化钽多层涂层结构及其制备方法,所述结构主要包括碳化钽下层、碳化钽过渡层以及碳化钽上层;该制备方法包括碳化钽前驱体的制备,将碳化钽前驱体粉末、有机溶剂和粘结剂混合,球磨充分得到碳化钽浆料;将浆料均匀的涂覆在碳基体表面,干燥脱脂后,在惰性气氛条件下进行梯度高温烧结,得到碳化钽多层涂层。与现有技术相比,本发明采用料浆‑烧结法在碳基体表面制备厚膜,通过烧结随机取向的TaC预涂层,晶粒生长后形成无贯穿性裂纹TaC多层膜。该多层膜具有优异力学性能,解决现有TaC涂层与碳基体之间热膨胀系数不匹配的问题,防止开孔、裂纹和化学刻蚀对碳材料衬底的损坏。

    一种金属氮化物/金属交替纳米复合涂层及其制备方法

    公开(公告)号:CN116590670A

    公开(公告)日:2023-08-15

    申请号:CN202310575369.4

    申请日:2023-05-22

    Applicant: 上海大学

    Abstract: 本发明涉及一种金属氮化物/金属交替纳米复合涂层及其制备方法,复合涂层包括:设于衬底上的金属过渡层,以及依次交替堆叠设于金属过渡层上的中间金属层与软金属掺杂金属氮化物层;其中软金属掺杂金属氮化物层作为复合涂层的表层;金属过渡层中所用金属为Cr、Ti或Zr中的一种;中间金属层中所用金属元素为Au、Ag或Cu中的一种;软金属掺杂金属氮化物层中所用金属元素与金属过渡层中所用金属相同。制备方法包括:采用多弧离子镀法在衬底上依次沉积各层。与现有技术相比,本发明制备的多层结构涂层具有优异的抗粘连性能,可有效减少烟雾的产生,并且生物相容性极好。

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