连续生长大尺寸钙钛矿单晶的装置及方法

    公开(公告)号:CN106283195B

    公开(公告)日:2018-12-07

    申请号:CN201610805277.0

    申请日:2016-09-07

    Applicant: 上海大学

    Abstract: 本发明公开了一种连续生长大尺寸钙钛矿单晶的装置及方法,基于环流和逆温结晶来连续生长具有高结晶质量的钙钛矿单晶,属于新型材料器件制造工艺领域。本发明装置利用钙钛矿晶体生长瓶和原料驱动瓶中的温度差使装置中的钙钛矿溶液环流,将原料驱动瓶中的过饱和的钙钛矿溶液源源不断的输运到钙钛矿晶体生长瓶中参与逆温结晶。并通过控制钙钛矿晶体生长瓶和原料驱动瓶的各自的温度T1、T2和相应的温度差T,整体钙钛矿单晶的生长时间t,以及通过原料驱动瓶加入装置的原料m来控制钙钛矿单晶的生长速度和生长大小。本发明可以连续并且快速的生长钙钛矿单晶,易于大规模生产。通过本发明晶体制备方法,可生长得到对角线长度为钙钛矿晶体生长瓶尺寸大小的钙钛矿单晶,最大生长速度为1厘米/天,具有显著的产业化推广价值。

    单步闪蒸法生长大尺寸晶粒的钙钛矿薄膜及平面型太阳能电池的制备方法

    公开(公告)号:CN106098948A

    公开(公告)日:2016-11-09

    申请号:CN201610408763.9

    申请日:2016-06-13

    Applicant: 上海大学

    CPC classification number: Y02E10/549 H01L51/0008

    Abstract: 本发明公开了一种单步闪蒸法生长大尺寸晶粒的钙钛矿薄膜及平面型太阳能电池的制备方法,其中钙钛矿薄膜制备方法是用钙钛矿材料的溶液做单一蒸发源,采用瞬间快速将电流迅速加至200A,使蒸发舟温度瞬间达到1000℃以上,材料瞬间升华,通过调整不同溶液配比,制备出成份可控以及大晶粒尺寸的钙钛矿薄膜。采用一步闪蒸法制备的钙钛矿薄膜具有能耗低,蒸发速率快,时间短,薄膜无空洞且大面积均匀,衬底选择范围广,适合做平面型器件的特点。同时采用PCBM为n型材料,Spiro‑OMeTAD为p型材料与i型的钙钛矿薄膜一起构成p‑i‑n型平面太阳能电池器件,优化制备条件后可获得效率大于10.01%的器件。

    连续生长大尺寸钙钛矿单晶的装置及方法

    公开(公告)号:CN106283195A

    公开(公告)日:2017-01-04

    申请号:CN201610805277.0

    申请日:2016-09-07

    Applicant: 上海大学

    CPC classification number: C30B29/54 C30B7/14 C30B29/66

    Abstract: 本发明公开了一种连续生长大尺寸钙钛矿单晶的装置及方法,基于环流和逆温结晶来连续生长具有高结晶质量的钙钛矿单晶,属于新型材料器件制造工艺领域。本发明装置利用钙钛矿晶体生长瓶和原料驱动瓶中的温度差使装置中的钙钛矿溶液环流,将原料驱动瓶中的过饱和的钙钛矿溶液源源不断的输运到钙钛矿晶体生长瓶中参与逆温结晶。并通过控制钙钛矿晶体生长瓶和原料驱动瓶的各自的温度T1、T2和相应的温度差T,整体钙钛矿单晶的生长时间t,以及通过原料驱动瓶加入装置的原料m来控制钙钛矿单晶的生长速度和生长大小。本发明可以连续并且快速的生长钙钛矿单晶,易于大规模生产。通过本发明晶体制备方法,可生长得到对角线长度为钙钛矿晶体生长瓶尺寸大小的钙钛矿单晶,最大生长速度为1厘米/天,具有显著的产业化推广价值。

    自支撑CdZnTe薄膜的制备方法

    公开(公告)号:CN104952972B

    公开(公告)日:2017-01-25

    申请号:CN201510174196.0

    申请日:2015-04-14

    Applicant: 上海大学

    Abstract: 本发明公开了一种自支撑CdZnTe薄膜的制备方法,采用近空间升华方法,通过对沉积后的薄膜进行后处理,来分离薄膜与衬底,获取连续平整的样品。本发明工艺以CdZnTe单晶切片为升华源,通过表面处理获得理想的欧姆电极接触。该方法具有工艺简单、成本更低、可重复性高等特点,可以制备不受衬底尺寸限制,灵活应用于大面积、低漏电流的辐射探测器的薄膜,有望使得辐射探测器的制造技术更加简便。

    自支撑CdZnTe薄膜的制备方法

    公开(公告)号:CN104952972A

    公开(公告)日:2015-09-30

    申请号:CN201510174196.0

    申请日:2015-04-14

    Applicant: 上海大学

    CPC classification number: H01L31/1832

    Abstract: 本发明公开了一种自支撑CdZnTe薄膜的制备方法,采用近空间升华方法,通过对沉积后的薄膜进行后处理,来分离薄膜与衬底,获取连续平整的样品。本发明工艺以CdZnTe单晶切片为升华源,通过表面处理获得理想的欧姆电极接触。该方法具有工艺简单、成本更低、可重复性高等特点,可以制备不受衬底尺寸限制,灵活应用于大面积、低漏电流的辐射探测器的薄膜,有望使得辐射探测器的制造技术更加简便。

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