操作磁存储器设备的方法
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN119339756A

    公开(公告)日:2025-01-21

    申请号:CN202410956774.5

    申请日:2024-07-17

    Abstract: 一种操作磁存储器设备的方法包括:(i)将第一电流施加到磁隧道结结构的自由层,所述磁隧道结结构包括在第一磁垫与第二磁垫之间延伸的磁转换单元(MTU)以及堆叠在所述MTU上的隧道势垒层和钉扎层,使得在所述MTU内建立多畴,(ii)向自由层施加磁场,使得MTU的磁化方向切换为变得与第一磁垫和第二磁垫的磁化方向反平行,(iii)向自由层施加第二电流,使得多畴的一部分渗透到第一磁垫中,以及(iv)向自由层施加另一磁场,使得第一磁垫的磁化方向切换为变得与第二磁垫的磁化方向反平行。

    磁存储器件
    3.
    发明公开
    磁存储器件 审中-实审

    公开(公告)号:CN116782750A

    公开(公告)日:2023-09-19

    申请号:CN202310269236.4

    申请日:2023-03-17

    Abstract: 一种磁存储器件包括在第一方向上延伸的导电线以及在导电线的顶表面上在第一方向上延伸的磁轨线。导电线可以包括在第二方向上具有第一宽度的第一区域以及在第二方向上具有第二宽度的第二区域。第一方向和第二方向平行于导电线的顶表面并且彼此垂直。第二宽度可以大于第一宽度。磁轨线包括在导电线的第一区域上在第一方向上排列的第一畴以及在导电线的第二区域上在第一方向上排列的第二畴。每个第二畴的尺寸可以小于每个第一畴的尺寸。

    磁存储器件
    4.
    发明公开
    磁存储器件 审中-实审

    公开(公告)号:CN116171052A

    公开(公告)日:2023-05-26

    申请号:CN202211477599.9

    申请日:2022-11-23

    Abstract: 一种磁存储器件包括在第一方向上延伸的导线以及在导线上在第一方向上延伸的磁道。磁道包括:顺序堆叠于导线上的下磁层、间隔层和上磁层,以及在间隔层上且邻近上磁层的侧面的非磁图案。非磁图案与下磁层的一部分垂直重叠。下磁层和上磁层通过间隔层彼此反铁磁耦合。

    磁存储器件
    5.
    发明公开
    磁存储器件 审中-实审

    公开(公告)号:CN116168740A

    公开(公告)日:2023-05-26

    申请号:CN202211471280.5

    申请日:2022-11-23

    Abstract: 一种磁存储器件包括在第一方向上延伸的磁道。磁道包括下磁性层、在下磁性层上的上磁性层、在下磁性层上并且在上磁性层的一侧的非磁性图案、以及在下磁性层和上磁性层之间并且在下磁性层和非磁性图案之间延伸的间隔物层。下磁性层和上磁性层通过间隔物层彼此反铁磁耦合。非磁性图案具有在垂直于第一方向的第二方向上彼此相反的第一表面和第二表面。非磁性图案和上磁性层之间的接合表面相对于与第一表面和第二表面垂直的参考表面倾斜。

    磁存储器件
    7.
    发明公开
    磁存储器件 审中-实审

    公开(公告)号:CN116171051A

    公开(公告)日:2023-05-26

    申请号:CN202211474372.9

    申请日:2022-11-23

    Abstract: 本公开提供了磁存储器件。一种磁存储器件可以包括在第一方向上延伸的磁轨。磁轨可以包括在第一方向上延伸的下磁性层、在下磁性层上在第一方向上延伸的上磁性层、在下磁性层和上磁性之间在第一方向上延伸的间隔物层以及穿透上磁性层并在间隔物层上的非磁性图案。非磁性图案具有与上磁性层的第一部分接触的第一结表面以及与上磁性层的第二部分接触的第二结表面。下磁性层和上磁性层通过间隔物层而彼此反铁磁耦合。

    磁存储器件
    9.
    发明公开

    公开(公告)号:CN112599657A

    公开(公告)日:2021-04-02

    申请号:CN202011037720.7

    申请日:2020-09-28

    Inventor: 皮雄焕 李同规

    Abstract: 一种磁存储器件包括:在第一方向上延伸的导电线;在导电线上在与第一方向交叉的第二方向上延伸的磁性线,磁性线与导电线交叉;以及设置在导电线和磁性线之间的磁性图案。磁性图案具有在第一方向上彼此相反的第一侧壁和在第二方向上彼此相反的第二侧壁。磁性图案的第二侧壁分别与导电线的彼此相反的侧壁对准。

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