竖直型存储器件
    3.
    发明授权

    公开(公告)号:CN110391245B

    公开(公告)日:2024-12-10

    申请号:CN201910322332.4

    申请日:2019-04-19

    Inventor: 郑光泳 金东垣

    Abstract: 一种竖直型存储器件包括:衬底,包括第一区域以及与所述第一区域相邻的第二区域;在所述第一区域和所述第二区域上延伸的第一导电层;在所述第一区域和所述第二区域上延伸的第二导电层,所述第二导电层堆叠在所述第一导电层上。所述衬底的上表面在所述第一区域与所述第二区域之间的边界处具有台阶部分,并且所述第一区域中的所述衬底的上表面低于所述第二区域中的所述衬底的上表面。

    竖直型存储器件
    5.
    发明公开

    公开(公告)号:CN110391245A

    公开(公告)日:2019-10-29

    申请号:CN201910322332.4

    申请日:2019-04-19

    Inventor: 郑光泳 金东垣

    Abstract: 一种竖直型存储器件包括:衬底,包括第一区域以及与所述第一区域相邻的第二区域;在所述第一区域和所述第二区域上延伸的第一导电层;在所述第一区域和所述第二区域上延伸的第二导电层,所述第二导电层堆叠在所述第一导电层上。所述衬底的上表面在所述第一区域与所述第二区域之间的边界处具有台阶部分,并且所述第一区域中的所述衬底的上表面低于所述第二区域中的所述衬底的上表面。

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