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公开(公告)号:CN113284862A
公开(公告)日:2021-08-20
申请号:CN202110188275.2
申请日:2021-02-18
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: H01L23/31 , H01L23/498
Abstract: 公开了一种半导体封装,包括:芯构件,具有彼此相对的第一表面和第二表面、以及在第一表面与第二表面之间的外侧表面,芯构件具有将第一表面与第二表面连接的通孔,通孔具有从外侧表面突出的突出部分并且具有0.5μm或以上的表面粗糙度Ra;再分布衬底,在芯构件的第一表面上,并且包括再分布层;半导体芯片,在再分布衬底上在所述通孔中,并具有电连接至再分布层的接触焊盘;以及密封物,在再分布衬底上并且覆盖半导体芯片和芯构件,芯构件的突出部分具有暴露于密封物的侧表面的表面。
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公开(公告)号:CN113284862B
公开(公告)日:2024-11-19
申请号:CN202110188275.2
申请日:2021-02-18
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: H01L23/31 , H01L23/498
Abstract: 公开了一种半导体封装,包括:芯构件,具有彼此相对的第一表面和第二表面、以及在第一表面与第二表面之间的外侧表面,芯构件具有将第一表面与第二表面连接的通孔,通孔具有从外侧表面突出的突出部分并且具有0.5μm或以上的表面粗糙度Ra;再分布衬底,在芯构件的第一表面上,并且包括再分布层;半导体芯片,在再分布衬底上在所述通孔中,并具有电连接至再分布层的接触焊盘;以及密封物,在再分布衬底上并且覆盖半导体芯片和芯构件,芯构件的突出部分具有暴露于密封物的侧表面的表面。
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公开(公告)号:CN117320459A
公开(公告)日:2023-12-29
申请号:CN202310269766.9
申请日:2023-03-20
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: H10B80/00 , H01L23/48 , H01L23/528 , H01L23/367
Abstract: 半导体封装包括缓冲器管芯。一个或多个第一半导体管芯堆叠在缓冲器管芯上,使得有源表面面向缓冲器管芯。第二半导体管芯堆叠在第一半导体管芯上。第二半导体管芯包括第一层和设置在第一层上的第二层。第一层包括第一半导体衬底。第一存储器块设置在第一半导体衬底上。第一穿透电极竖直穿透第一半导体衬底并连接到第一存储器块。第二层包括第二半导体衬底和设置在第二半导体衬底上的计算块。第一层和第二层具有彼此接触的有源表面。第一存储器块和计算块分别具有彼此接触的第一焊盘和第二焊盘。
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公开(公告)号:CN116264767A
公开(公告)日:2023-06-16
申请号:CN202211082798.X
申请日:2022-09-06
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: H10B12/00
Abstract: 提供半导体存储器装置。所述半导体存储器装置包括:基底,包括有源区域,有源区域具有第一杂质区域和第二杂质区域;字线,在基底的第一表面上,字线在第一方向上延伸;第一位线,在字线上,第一位线在与第一方向交叉的第二方向上延伸,并且第一位线连接到第一杂质区域;第一接触塞,在第一位线之间,第一接触塞分别连接到第二杂质区域;第二位线,在基底的第二表面上,第二位线电连接到第一杂质区域;以及第一电容器,在第一接触塞上。
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公开(公告)号:CN114078830A
公开(公告)日:2022-02-22
申请号:CN202110754281.X
申请日:2021-07-01
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: H01L25/16 , H01L23/31 , H01L23/488
Abstract: 一种半导体封装包括:重分布基板,包括介电层和在介电层中的布线图案,布线图案包括:水平延伸的线部分及与线部分连接的通孔部分,通孔部分的宽度小于线部分的宽度;在重分布基板的顶表面上的钝化层,钝化层包括与介电层的材料不同的材料;导电柱,导电柱穿透钝化层,导电柱连接到通孔部分;以及连接端子,在导电柱的顶表面上,导电柱的顶表面与钝化层的顶表面之间的距离大于钝化层的厚度。
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