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公开(公告)号：CN108018558B
公开(公告)日：2022-01-07
申请号：CN201711043223.6
申请日：2017-10-31
摘要： 本发明的一实施例提供一种蚀刻液组合物以及有机发光显示装置的制造方法，所述蚀刻液组合物相对于总重量包括：磷酸，50至70重量％；硝酸，0.5至5重量％；氯化物，0.1至1重量％；磺酸化合物，0.5至5重量％；以及水，20至40重量％。
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公开(公告)号：CN104451681B
公开(公告)日：2019-08-16
申请号：CN201410497650.1
申请日：2014-09-25
摘要： 本发明提供一种蚀刻液组合物及利用该组合物的薄膜晶体管基板形成方法。本发明实施例的蚀刻液组合物包含第一蚀刻液组合物和第二蚀刻液组合物。所述第一蚀刻液组合物包含过二硫酸盐化合物、唑类化合物、水溶性胺化合物、磷酸盐化合物、氯化物、有机酸、氟化物、磺酸化合物及无机酸。所述第二蚀刻液组合物包含二硫酸化合物、唑类化合物、水溶性胺化合物、磷酸盐化合物、氯化物及有机酸。
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公开(公告)号：CN109097774A
公开(公告)日：2018-12-28
申请号：CN201810631619.0
申请日：2018-06-19
摘要： 提供蚀刻剂组合物、以及使用其制造金属图案和薄膜晶体管基板的方法。所述蚀刻剂组合物包括过硫酸盐、氟化物、基于四个氮的环状化合物、基于一个氮的环状化合物、含硫(S)原子的基于三个氮的环状化合物、和水，和所述蚀刻剂组合物可通过蚀刻包括铜和钛的金属膜而用于制造金属图案，或者可用于制造薄膜晶体管基板。
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公开(公告)号：CN108203827A
公开(公告)日：2018-06-26
申请号：CN201711373532.X
申请日：2017-12-19
IPC分类号： C23F1/18 , H01L21/3213 , H01L21/28 , H01L29/423
CPC分类号： C23F1/18 , H01L21/28008 , H01L21/32134 , H01L21/32139 , H01L29/4232
摘要： 本发明涉及一种蚀刻液组合物及使用它的薄膜晶体管显示面板的制造方法。一实施例所涉及的蚀刻液组合物包含8重量％至20重量％的过硫酸盐、0.1重量％至10重量％的磷酸或亚磷酸、0.1重量％至5重量％的磷酸盐化合物、0.1重量％至6重量％的单氮类环状化合物、0.1重量％至5重量％的磺酸类化合物、0.1重量％至2重量％的唑类化合物及余量的水，所述唑类化合物与所述单氮类环状化合物的含量比为1:1至1:2。
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公开(公告)号：CN105734570A
公开(公告)日：2016-07-06
申请号：CN201510994298.7
申请日：2015-12-25
IPC分类号： C23F1/18 , H01L21/768
摘要： 本文公开了蚀刻剂组合物，其包含：10重量％至20重量％的过硫酸盐；0.1重量％至10重量％的磷酸(H3PO4)或亚磷酸(H3PO3)；0.1重量％至2重量％的基于氮的环状化合物；0.1重量％至5重量％的磺酸化合物；0.1重量％至2重量％的铜腐蚀抑制剂；0.1重量％至2重量％的氟化合物；和使所有成份的总重量为100重量％的余量水。本文还公开了使用该蚀刻剂组合物制造金属接线的方法。
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公开(公告)号：CN101886266B
公开(公告)日：2014-08-20
申请号：CN201010183534.4
申请日：2010-05-14
CPC分类号： C23F1/26 , C23F1/18 , H01L21/32134 , H01L27/124 , H01L29/458
摘要： 本发明披露了一种蚀刻剂和使用蚀刻剂制造阵列基板的方法。该蚀刻剂包括按重量计大约0.1％至按重量计大约30％的过硫酸铵(NH4)2S2O8、按重量计大约0.1％至按重量计大约10％的无机酸、按重量计大约0.1％至按重量计大约10％的乙酸盐、按重量计大约0.01％至按重量计大约5％的含氟化合物、按重量计大约0.01％至按重量计大约5％的磺酸化合物、按重量计大约0.01％至按重量计大约2％的唑化合物、以及余量的水。这样，蚀刻剂可以具有高稳定性以保持蚀刻能力。因此，可以提高制造裕度，使得可以降低制造成本。
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公开(公告)号：CN102939407A
公开(公告)日：2013-02-20
申请号：CN201180014543.3
申请日：2011-02-17
CPC分类号： C09K13/08 , C23F1/18 , C23F1/26 , C23F1/44 , H01L21/28088 , H01L21/32134 , H01L27/1214 , H01L27/124 , H05K3/067
摘要： 本发明的示例性实施方式提供了金属线蚀刻剂。根据本发明的示例性实施方式的金属线蚀刻剂包含过硫酸铵、有机酸、铵盐、含氟化合物、二醇类化合物和唑类化合物。
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公开(公告)号：CN108251842A
公开(公告)日：2018-07-06
申请号：CN201711082676.X
申请日：2017-11-07
IPC分类号： C23F1/44
CPC分类号： C23F1/44
摘要： 根据本发明的一个实施例提供一种蚀刻液组合物及利用该组合物的金属布线的制造方法，蚀刻液组合物包含：8重量％至20重量％的过硫酸盐系化合物；从0.1重量％至5重量％的1‑氮系环型化合物、0.05重量％至1重量％的3‑氮系环型化合物及这些化合物的混合物中选择的1种以上的氮系环型化合物；0.1重量％至1重量％的氟系化合物；0.1重量％至1重量％的铜腐蚀防止化合物；以及余量的水。
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公开(公告)号：CN109097774B
公开(公告)日：2022-07-05
申请号：CN201810631619.0
申请日：2018-06-19
摘要： 提供蚀刻剂组合物、以及使用其制造金属图案和薄膜晶体管基板的方法。所述蚀刻剂组合物包括过硫酸盐、氟化物、基于四个氮的环状化合物、基于一个氮的环状化合物、含硫(S)原子的基于三个氮的环状化合物、和水，和所述蚀刻剂组合物可通过蚀刻包括铜和钛的金属膜而用于制造金属图案，或者可用于制造薄膜晶体管基板。
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