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    蚀刻液
    1.
    发明授权
    蚀刻液 有权

    公开(公告)号：CN115613032B

    公开(公告)日：2024-09-20

    申请号：CN202211240753.0

    申请日：2022-10-11

    申请人： 苏州华星光电技术有限公司

    发明人： 吴鉴

    IPC分类号： C23F1/16 ,  C23F1/18 ,  C23F1/26 ,  C09K13/10 ,  H01L21/306 ,  H01L21/3213

    摘要： 本发明实施例公开了一种蚀刻液；该蚀刻液用于同时蚀刻金属层和半导体层，该蚀刻液包括过硫酸化合物、无机酸、含氟化合物、唑类化合物、有机酸、及水，以质量百分比计，蚀刻液的各组分含量如下：过硫酸化合物5wt％至15wt％，无机酸0.1wt％至5wt％，含氟化合物0.1wt％至4wt％，唑类化合物0.1wt％至6wt％，有机酸0.1wt％至6wt％；本发明通过利用过硫酸化合物中过硫酸根离子的氧化作用，加强对于半导体层的蚀刻，实现同时对于金属层和半导体层的蚀刻，一次性湿蚀刻金属线层和置于金属线下方的半导体层，将传统的两次干蚀刻和两次湿蚀刻制程缩减成一次干蚀刻和两次湿蚀刻，提高了制造的生产节拍和效率。

    一种服役后热部件粘接层的去除方法
    5.
    发明授权
    一种服役后热部件粘接层的去除方法 有权

    公开(公告)号：CN115595581B

    公开(公告)日：2024-04-26

    申请号：CN202211408014.8

    申请日：2022-11-10

    申请人： 上海电气燃气轮机有限公司

    发明人： 何磊 ,  梁云飞 ,  汪超

    IPC分类号： C23F1/02 ,  C23F1/16 ,  B24B1/00 ,  B24C1/04 ,  G01N21/84 ,  G01N21/64

    摘要： 本发明涉及一种服役后热部件粘接层的去除方法，包括以下步骤：S1、使服役后的热部件的MCrAlY粘结层暴露出来；S2、确定热部件是否需要酸洗前防护处理；S3、在多个相同热部件中选取若干数量的热部件作为参考零件，对参考零件进行酸洗处理；S4、对酸洗后的参考零件进行热染处理，并且若热部件上具有遮蔽涂层时先去除遮蔽涂层；S5、确定MCrAlY粘结层残留区域，作为热部件的减薄区域；对参考零件上的减薄区域进行减薄处理，并且检测减薄情况，直到待减薄区域处的贫铝高铬层被去除，并确定减薄深度；S6、根据参考零件上的减薄区域和减薄深度，对相同热部件上进行减薄处理，将其上贫铝高铬层都去除掉；S7、对步骤S6中减薄处理后的热部件进行酸洗处理。

    电子设备及金属工件的制备方法
    6.
    发明授权
    电子设备及金属工件的制备方法 有权

    公开(公告)号：CN114554754B

    公开(公告)日：2024-02-27

    申请号：CN202210134304.1

    申请日：2022-02-14

    申请人： 联想(北京)有限公司

    发明人： 辛志峰 ,  郝宁 ,  黄巍

    IPC分类号： H05K5/02 ,  C23F1/02 ,  C23F1/16 ,  C25D11/02

    摘要： 本申请实施例提供一种电子设备及金属工件的制备方法，所述电子设备包括：金属壳体；所述金属壳体的外表面包括至少两个区域；所述至少两个区域构图构成所述外表面的图案，所述至少两个区域包括的第一区域与所述至少两个区域包括的第二区域在光线照射时形成对光的反射角度和/或折射角度不同，以使得所述图案形成三维视觉效果。

    一种用于金属流线检测的腐蚀剂、制备方法及腐蚀方法
    7.
    发明公开
    一种用于金属流线检测的腐蚀剂、制备方法及腐蚀方法 审中-实审

    公开(公告)号：CN117364083A

    公开(公告)日：2024-01-09

    申请号：CN202311247522.7

    申请日：2023-09-25

    申请人： 西安法士特汽车传动有限公司

    发明人： 高占盛 ,  马旭耀 ,  寇植达 ,  张晓菊 ,  陈有锋 ,  桂伟民

    IPC分类号： C23F1/16 ,  G01N1/32

    摘要： 本发明涉及轴承检测技术领域，具体为一种用于金属流线检测的腐蚀剂、制备方法及腐蚀方法。该腐蚀剂包括水、浓盐酸、氯化铁、氯化铜、柠檬酸和十二烷基苯磺酸钠；所述水和浓盐酸的体积比为(12～20):(1～3)；所述氯化铁、氯化铜、柠檬酸和十二烷基苯磺酸钠的质量比为(5～10):(5～10):(2～6):(5～15)，氯化铁与水的质量比为(1～2):(12～20)。通过原料的协同作用控制腐蚀速度，相比较现有的盐酸水溶液酸蚀法，本申请的腐蚀剂加热温度、保温时间固定，金属流线的显示不受轴承尺寸的影响，均能清晰、完整地显示出轴承套圈的流线，且效果稳定；解决金属流线腐蚀过程中，腐蚀程度难以掌控，轴承套圈流线显示不清的问题。

    蒸镀掩模的制造方法
    8.
    发明公开
    蒸镀掩模的制造方法 审中-实审

    公开(公告)号：CN116356321A

    公开(公告)日：2023-06-30

    申请号：CN202211681072.8

    申请日：2022-12-26

    申请人： 富士胶片株式会社

    发明人： 石坂壮二 ,  藤本进二

    IPC分类号： C23F1/02 ,  G03F7/00 ,  C23C14/04 ,  C23C14/24 ,  C23F1/16 ,  C23F1/28 ,  H10K71/16

    摘要： 本发明的课题在于提供一种分辨性优异的蒸镀掩模的制造方法。所述蒸镀掩模的制造方法依次包括如下工序：准备具有第1面且在与上述第1面相反的位置具有第2面的金属层；将包括伪支撑体和转印层的感光性转印材料与上述金属层进行贴合而在上述金属层的上述第1面上依次配置上述转印层及上述伪支撑体；剥离上述伪支撑体；对上述转印层进行图案曝光；对上述转印层实施显影处理而形成抗蚀图案；对未被上述抗蚀图案覆盖的上述金属层实施蚀刻处理而形成从上述金属层的上述第1面延伸至上述金属层的上述第2面的贯穿孔；及去除上述抗蚀图案。

    一种金属蚀刻液
    9.
    发明公开
    一种金属蚀刻液 审中-实审

    公开(公告)号：CN115679321A

    公开(公告)日：2023-02-03

    申请号：CN202211235091.8

    申请日：2022-10-10

    申请人： 深圳新宙邦科技股份有限公司

    发明人： 鄢艳华 ,  郭启祯 ,  赵大成

    IPC分类号： C23F1/16 ,  C23F1/02

    摘要： 为克服现有技术中蚀刻液中醇胺类化合物变性使得残留去除效果弱的问题，本申请提供一种金属蚀刻液；所述蚀刻液包括以下组分：过氧化氢、辅助氧化剂、金属螯合剂、增溶剂、残留去除剂和水，所述残留去除剂包含结构式Ⅰ所示化合物和结构式Ⅱ所示醇胺类化合物；本申请提供的蚀刻液，结构式Ⅰ所示化合物抑制结构式Ⅱ所示醇胺类化合物与过氧化氢反应分解，保证了蚀刻过程中的残留去除效果，蚀刻无残留，保证蚀刻液的信赖性和寿命。