掩模组件及包括掩模组件的用于制造显示装置的设备

    公开(公告)号:CN111519134A

    公开(公告)日:2020-08-11

    申请号:CN202010070772.8

    申请日:2020-01-21

    Inventor: 金世一

    Abstract: 提供了一种用于制造显示装置的掩模组件和一种包括掩模组件的用于制造显示装置的设备,所述掩模组件包括:掩模框架,包括沿第一方向布置的一对第一边部分、沿与第一方向相交的第二方向布置的一对第二边部分以及由第一边部分和第二边部分限定的开口部分;掩模片,布置在掩模框架的开口部分上,固定在掩模框架上,并且包括多个开口;以及支撑构件,利用被施加的拉力附着到掩模框架的第一边部分和第二边部分中的至少一者。

    有机发光二极管显示器
    3.
    发明公开

    公开(公告)号:CN103247658A

    公开(公告)日:2013-08-14

    申请号:CN201210505813.7

    申请日:2012-11-30

    CPC classification number: H01L27/3213 H01L27/322 H01L27/3258

    Abstract: 一种有机发光二极管显示器,其包括衬底、白像素和彩色像素、彩色过滤层以及覆盖层,其中所述白像素和彩色像素中的每个包括发射区、非发射区、位于衬底上的薄膜晶体管以及有机发光元件,所述有机发光元件位于衬底上且电连接至薄膜晶体管并被配置为在发射区发射光;所述彩色过滤层位于彩色像素的发射区,且位于彩色像素的有机发光元件与衬底之间;所述覆盖层具有对应于白像素的发射区的覆盖开口,且在彩色像素的有机发光元件与彩色过滤层之间覆盖彩色过滤层。

    有机发光显示装置及其制造方法

    公开(公告)号:CN104716159B

    公开(公告)日:2019-08-09

    申请号:CN201410763866.8

    申请日:2014-12-11

    CPC classification number: H01L51/5268 H01L51/5253 H01L51/5275

    Abstract: 提供了一种有机发光显示(OLED)装置及其制造方法,所述装置包括:绝缘基底;第一电极,位于绝缘基底上;第二电极,位于第一电极上;发光层,位于第一电极和第二电极之间;空穴公共层,位于第一电极和发光层之间;电子公共层,位于第二电极和发光层之间;以及散射层,位于绝缘基底上,并具有非平面的表面,其中,散射层包括苯、萘、蒽、并四苯、并五苯、胺、联苯胺、联苯、咔唑、吡啶、联吡啶、咪唑、菲咯啉、苯基硼烷、嘧啶和三嗪中的至少一种,散射层的基体材料包括取代基,所述取代基包括苯甲酰基、羧基、氨基苯氧基、三碳酸酯基和苯乙烯基中的至少一种。

    显示装置的制造设备、掩模组件及显示装置的制造方法

    公开(公告)号:CN117070897A

    公开(公告)日:2023-11-17

    申请号:CN202310525985.9

    申请日:2023-05-11

    Inventor: 金世一 崔珉洲

    Abstract: 本发明一实施例公开了显示装置的制造设备,其包括:腔室;掩模组件,布置在所述腔室的内部,并且包括供沉积物质穿过的掩模片;以及沉积源,布置在所述腔室的内部,并且供应所述沉积物质,其中,所述掩模片包括:主体部,形成外观;一个以上的开口部,布置于所述主体部;以及一个以上的槽部,布置于所述主体部,以及其中,所述槽部中的至少一个与所述开口部中的至少一个的内表面重叠。

    掩模
    9.
    发明公开
    掩模 审中-实审

    公开(公告)号:CN113943917A

    公开(公告)日:2022-01-18

    申请号:CN202110807435.7

    申请日:2021-07-16

    Abstract: 一种掩模包括第一掩模,所述第一掩模包括在第一方向上延伸的第一长边和在与所述第一方向交叉的第二方向上延伸的第一短边,并且所述第一掩模包括在所述第一方向上顺序布置的第一边缘部分、第一中心部分和第一焊接部分。所述掩模进一步包括第二掩模,所述第二掩模包括在所述第一方向上延伸的第二长边和在所述第二方向上延伸的第二短边,并且所述第二掩模包括在所述第一方向上顺序布置的第二焊接部分、第二中心部分和第二边缘部分。所述第一焊接部分与所述第二焊接部分接触。

    掩模制造方法
    10.
    发明公开

    公开(公告)号:CN113359387A

    公开(公告)日:2021-09-07

    申请号:CN202010883215.8

    申请日:2020-08-28

    Abstract: 根据本发明的一实施例,掩模制造方法包括:将掩模片配置在彼此隔开的第一辊及第二辊上的步骤,所述掩模片包括限定有第一区域及第二区域的图案区域;通过使所述第一辊及所述第二辊旋转以将所述图案区域配置在曝光模块上的步骤;通过所述曝光模块对所述第一区域执行第一曝光工序以在所述第一区域上形成第一图案的步骤;以及通过所述曝光模块对所述第二区域执行第二曝光工序以在所述第二区域上形成第二图案的步骤。

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