Invention Publication
- Patent Title: 掩模制造方法
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Application No.: CN202010883215.8Application Date: 2020-08-28
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Publication No.: CN113359387APublication Date: 2021-09-07
- Inventor: 金世一 , 李尚玟 , 金义圭 , 白大源
- Applicant: 三星显示有限公司
- Applicant Address: 韩国京畿道
- Assignee: 三星显示有限公司
- Current Assignee: 三星显示有限公司
- Current Assignee Address: 韩国京畿道
- Agency: 北京德琦知识产权代理有限公司
- Agent 崔今花; 周艳玲
- Priority: 10-2020-0028142 20200306 KR
- Main IPC: G03F1/80
- IPC: G03F1/80 ; G03F1/76 ; G03F1/62 ; H01L21/033
Abstract:
根据本发明的一实施例，掩模制造方法包括：将掩模片配置在彼此隔开的第一辊及第二辊上的步骤，所述掩模片包括限定有第一区域及第二区域的图案区域；通过使所述第一辊及所述第二辊旋转以将所述图案区域配置在曝光模块上的步骤；通过所述曝光模块对所述第一区域执行第一曝光工序以在所述第一区域上形成第一图案的步骤；以及通过所述曝光模块对所述第二区域执行第二曝光工序以在所述第二区域上形成第二图案的步骤。
Public/Granted literature
- CN113359387B 掩模制造方法 Public/Granted day:2024-12-13
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