公开(公告)号：CN102084459A

公开(公告)日：2011-06-01

申请号：CN200980122479.3

申请日：2009-04-09

Applicant: 硅石技术责任有限公司

Inventor： C·德卢卡 ,  武韬 ,  M·阿斯拉米

IPC: H01L21/00 ,  H01L25/00

CPC classification number: C23C16/513 ,  C23C16/54 ,  H01L31/035281 ,  H01L31/0547 ,  H01L31/076 ,  H01L31/202 ,  H01L31/204 ,  H02S40/44 ,  Y02E10/52 ,  Y02E10/548 ,  Y02E10/60 ,  Y02P70/521

Abstract: 用于制造硅薄膜太阳能电池模块的等离子内侧气相沉积装置包括：支撑衬底的构件，衬底具有外表面和内表面；位置靠近内表面用于在衬底内表面上沉积至少一个薄膜层的等离子炬构件，等离子炬构件位于距离衬底一定距离处；和用以供应反应物化学物质到等离子炬构件的构件，其中所述至少一个薄膜层形成硅薄膜太阳能电池模块。

公开(公告)号：CN101389573A

公开(公告)日：2009-03-18

申请号：CN200680053498.1

申请日：2006-12-28

Applicant: 硅石技术责任有限公司

Inventor： M·I·古斯科夫 ,  M·A·阿斯拉米 ,  武韬

IPC: C03B37/014 ,  H05H1/34

CPC classification number: C03B37/01426 ,  C03B2207/81 ,  H05H1/30 ,  H05H1/42 ,  Y02P40/57

Abstract: 用于制作合成二氧化硅的等离子喷灯(40)包括使用来自外部石英管(53)的氮气屏蔽气体来提供主动环境隔离。此外，本发明电感等离子喷灯(40)包括环盘(66、70)来实现更紧凑但是更完整的环境保护(360度覆盖)。它还包括偏离并交换化学物质喷嘴(68)的位置，以便在水平模式中工作时能够实现两个方向上的改进的沉积。而且，本发明电感等离子喷灯(40)保持喷射的化学物质的层流，中间石英管(154)设有凹形部分(157)，以用于增加等离子喷流的平均热含量，从而提高等离子喷灯的效率。此外，它还可以利用更多的等离子气体进口(76)。它还包括具有向下角度倾斜的化学物质喷嘴(68)。

公开(公告)号：CN101512042B

公开(公告)日：2012-10-31

申请号：CN200780033206.2

申请日：2007-03-06

Applicant: 硅石技术责任有限公司

Inventor： M·A·阿斯拉米 ,  武韬 ,  C·徳卢卡

IPC: C23C16/24 ,  C23C16/513

CPC classification number: C23C16/24 ,  C23C16/513 ,  H05H1/30

Abstract: 用于制造多晶硅的等离子体沉积装置(100)，包括用于沉积所述多晶硅的室，该室具有用于回收未沉积气体的排放系统；位于沉积室内的用于支承具有沉积表面(106)的靶基底(104)的载体(103)，该沉积表面划定了沉积区(105)；位于沉积室内并与该载体(103)隔开的至少一个电感耦合等离子体炬(107)，该至少一个电感耦合等离子体炬(102)产生基本垂直于沉积表面(106)的等离子体火焰，该等离子体火焰划定了用于使至少一种前体气体源反应产生多晶硅的反应区(126)，从而在沉积表面(106)上沉积多晶硅层。

公开(公告)号：CN101389573B

公开(公告)日：2011-11-16

申请号：CN200680053498.1

申请日：2006-12-28

Applicant: 硅石技术责任有限公司

Inventor： M·I·古斯科夫 ,  M·A·阿斯拉米 ,  武韬

IPC: C03B37/014 ,  H05H1/34

CPC classification number: C03B37/01426 ,  C03B2207/81 ,  H05H1/30 ,  H05H1/42 ,  Y02P40/57

Abstract: 用于制作合成二氧化硅的等离子喷灯(40)包括使用来自外部石英管(53)的氮气屏蔽气体来提供主动环境隔离。此外，本发明电感等离子喷灯(40)包括环盘(66、70)来实现更紧凑但是更完整的环境保护(360度覆盖)。它还包括偏离并交换化学物质喷嘴(68)的位置，以便在水平模式中工作时能够实现两个方向上的改进的沉积。而且，本发明电感等离子喷灯(40)保持喷射的化学物质的层流，中间石英管(154)设有凹形部分(157)，以用于增加等离子喷流的平均热含量，从而提高等离子喷灯的效率。此外，它还可以利用更多的等离子气体进口(76)。它还包括具有向下角度倾斜的化学物质喷嘴(68)。

公开(公告)号：CN101679102A

公开(公告)日：2010-03-24

申请号：CN200780051789.1

申请日：2007-12-07

Applicant: 硅石技术责任有限公司

Inventor： M·I·古斯科夫 ,  M·A·阿斯拉米 ,  E·B·达尼洛夫 ,  武韬

IPC: C03B37/018

CPC classification number: C03B37/01884 ,  C03B37/0183 ,  H05H1/30

Abstract: 用于制备光纤预制棒的方法和装置，所述方法包括将等离子气体源注入管状元件的第一末端内；通过等离子气体源流过等离子气体进料器喷嘴产生环形等离子火焰，所述等离子气体进料器喷嘴包括：内管和外管，其中所述等离子气体源注入内管和外管之间，以产生环形等离子火焰，以便至少一部分环形等离子火焰辐射状朝向管状元件的内表面；相对于等离子火焰沿纵轴穿越管状元件；通过将化学试剂引入等离子火焰中，将至少一个灰层沉积在管状元件的内表面上；并将所有的灰层在管状元件内表面上熔合成玻璃材料。

公开(公告)号：CN101512042A

公开(公告)日：2009-08-19

申请号：CN200780033206.2

申请日：2007-03-06

Applicant: 硅石技术责任有限公司

Inventor： M·A·阿斯拉米 ,  武韬 ,  C·徳卢卡

IPC: C23C16/24 ,  C23C16/513

CPC classification number: C23C16/24 ,  C23C16/513 ,  H05H1/30

Abstract: 用于制造多晶硅的等离子体沉积装置(100)，包括用于沉积所述多晶硅的室，该室具有用于回收未沉积气体的排放系统；位于沉积室内的用于支承具有沉积表面(106)的靶基底(104)的载体(103)，该沉积表面划定了沉积区(105)；位于沉积室内并与该载体(103)隔开的至少一个电感耦合等离子体炬(107)，该至少一个电感耦合等离子体炬(102)产生基本垂直于沉积表面(106)的等离子体火焰，该等离子体火焰划定了用于使至少一种前体气体源反应产生多晶硅的反应区(126)，从而在沉积表面(106)上沉积多晶硅层。

公开(公告)号：CN101479403A

公开(公告)日：2009-07-08

申请号：CN200780021473.8

申请日：2007-04-13

Applicant: 硅石技术责任有限公司 ,  吴道

Inventor： 吴道 ,  M·A·阿斯拉米

IPC: C23C16/507 ,  C23C16/54 ,  H01L31/20

Abstract: 一种用于制作太阳能电池的等离子沉积设备包括：具有用于支撑至少一个衬底的纵轴线的输送机；至少两个模块，每个模块具有用于在至少一个衬底上沉积反应产物层的至少一个等离子炬，至少一个等离子炬位于离至少一个衬底一段距离的位置；用于容纳输送机和该至少两个模块的室；以及排气系统。在另一实施例中，用于制作太阳能电池的等离子沉积设备包括：用于支撑衬底的部件；用于供应反应物的部件；用于在衬底上沉积产物的等离子炬部件，等离子炬部件位于离衬底一段距离的位置；以及用于相对于衬底振荡等离子炬部件的部件。