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公开(公告)号:CN102317511A
公开(公告)日:2012-01-11
申请号:CN201080007369.5
申请日:2010-02-09
Applicant: 株式会社仓元制作所
CPC classification number: C03B19/095 , C30B15/10 , C30B29/06 , Y02P40/57 , Y10T117/1032
Abstract: 本发明提供一种硅单结晶拉升用石英玻璃坩埚及使用该石英玻璃坩埚的硅单结晶的制造方法,其不会发生散布地产生于内表面的结晶化物质的剥离,且不会如在将结晶层形成在内表面全面时结晶层的一部分略微剥离而形成气体释出孔,熔解硅亦不会从因略微剥离而产生的气体释出孔进入结晶层与其下的玻璃层之间,由此可获得高的成品率。本发明的石英玻璃坩埚在内表面具有结晶化促进剂含有层,在进行硅单结晶的拉升时,通过结晶化促进剂在内表面形成有斑状的结晶化区域。
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公开(公告)号:CN103846782A
公开(公告)日:2014-06-11
申请号:CN201310651957.8
申请日:2013-12-05
Applicant: 株式会社仓元制作所
IPC: B24B37/10
CPC classification number: B24B37/10 , G02F1/1333
Abstract: 提供可减少大型液晶面板缺损或破损的发生,进而大幅抑制与凹坑的产生相伴的显示不良的液晶面板研磨方法。液晶面板研磨方法的特征在于,具有对在形成有薄膜晶体管层的第一玻璃基板与形成有滤色器层的第二玻璃基板之间夹持液晶构件而成的液晶面板的表面实施化学研磨的化学研磨工序,其中,具有:上述化学研磨工序前进行上述液晶面板的上述第一及第二玻璃基板的倒角的倒角工序;以上述化学研磨工序后的上述第一玻璃基板表面存在的凹坑的平均直径为200μm以下的方式进行上述第一玻璃基板的机械研磨的第一玻璃基板机械研磨工序;除去上述液晶面板表面的残渣的第一残渣处理工序;及上述化学研磨工序后除去化学研磨工序中产生的反应产物的反应产物除去工序。
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公开(公告)号:CN108296982A
公开(公告)日:2018-07-20
申请号:CN201810094236.4
申请日:2018-01-31
Abstract: 本发明的主要目的在于提供一种高效的显示用研磨玻璃板的制造方法及其制造装置。该显示用研磨玻璃板的制造方法的特征在于,在沿第一方向配置的输送路上,输送多个玻璃板,分别将所述输送路上的多个玻璃板向与所述输送路并列设置的多个研磨机供给,利用所述多个研磨机中的任一个研磨机分别研磨所述多个玻璃板,将由所述多个研磨机中的任一个研磨机研磨后的多个玻璃板分别向所述输送路回收。
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公开(公告)号:CN208358551U
公开(公告)日:2019-01-11
申请号:CN201820171734.X
申请日:2018-01-31
Abstract: 本实用新型的主要目的在于提供一种高效的显示用研磨玻璃板的制造装置。该显示用研磨玻璃板的制造装置的特征在于,具备:输送路,沿第一方向配置并输送多个玻璃板;多个研磨机,与所述输送路并列设置;及多个移载机,将所述多个玻璃板从所述输送路向所述多个研磨机中的任一个研磨机供给及从所述多个研磨机中的任一个研磨机向所述输送路回收。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利
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公开(公告)号:CN204714702U
公开(公告)日:2015-10-21
申请号:CN201520384165.3
申请日:2015-06-04
Applicant: 株式会社仓元制作所
IPC: C03B33/027
Abstract: 本实用新型提供一种能够抑制刻线不均匀的具有简易结构的推刀装置以及包括该推刀装置的刻线形成装置。推刀装置(50)包括:刻刀(90),其用于在玻璃基板的表面上形成刻线;加压机构部(60),其用于保持刻刀(90),且相对于玻璃基板的表面使刻刀(90)在进退方向上移动;移动机构部,其用于保持所述加压机构部(60),且相对于玻璃基板的表面使加压机构部(60)在进退方向上移动。此外,移动机构部(80)使加压机构部(60)向靠近玻璃基板的方向移动,加压机构部(60)使刻刀(90)向靠近玻璃基板的方向移动,从而推刀装置(50)将刻刀(90)推向玻璃基板的表面。
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公开(公告)号:CN204893635U
公开(公告)日:2015-12-23
申请号:CN201520383171.7
申请日:2015-06-04
Applicant: 株式会社仓元制作所
Abstract: 本实用新型提供一种研削加工装置,其可以抑制研削屑残留在玻璃基板上。所述研削加工装置(1),包括:砂轮部件(20),其用于研削玻璃基板(G)的端面(Gt);清洗用水排放部(30),其朝向玻璃基板(G)的表面(Ga)排放清洗用水(L)。清洗用水排放部(30)朝向玻璃基板(G)的表面(Ga)中被砂轮部件(20)研削的部位和玻璃基板(G)的中心之间的部位排放清洗用水(L)。
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