公开(公告)号：CN204714702U

公开(公告)日：2015-10-21

申请号：CN201520384165.3

申请日：2015-06-04

Applicant: 株式会社仓元制作所

Inventor： 铃木聪 ,  佐藤昭则 ,  小南敏弘 ,  高桥克俊

IPC: C03B33/027

Abstract: 本实用新型提供一种能够抑制刻线不均匀的具有简易结构的推刀装置以及包括该推刀装置的刻线形成装置。推刀装置(50)包括：刻刀(90)，其用于在玻璃基板的表面上形成刻线；加压机构部(60)，其用于保持刻刀(90)，且相对于玻璃基板的表面使刻刀(90)在进退方向上移动；移动机构部，其用于保持所述加压机构部(60)，且相对于玻璃基板的表面使加压机构部(60)在进退方向上移动。此外，移动机构部(80)使加压机构部(60)向靠近玻璃基板的方向移动，加压机构部(60)使刻刀(90)向靠近玻璃基板的方向移动，从而推刀装置(50)将刻刀(90)推向玻璃基板的表面。

公开(公告)号：CN204893635U

公开(公告)日：2015-12-23

申请号：CN201520383171.7

申请日：2015-06-04

Applicant: 株式会社仓元制作所

Inventor： 铃木聪 ,  佐藤昭则 ,  小南敏弘 ,  高桥克俊

IPC: B24B9/10 ,  B24B55/06

Abstract: 本实用新型提供一种研削加工装置，其可以抑制研削屑残留在玻璃基板上。所述研削加工装置(1)，包括：砂轮部件(20)，其用于研削玻璃基板(G)的端面(Gt)；清洗用水排放部(30)，其朝向玻璃基板(G)的表面(Ga)排放清洗用水(L)。清洗用水排放部(30)朝向玻璃基板(G)的表面(Ga)中被砂轮部件(20)研削的部位和玻璃基板(G)的中心之间的部位排放清洗用水(L)。