-
公开(公告)号:CN113192857B
公开(公告)日:2023-05-12
申请号:CN202110422772.4
申请日:2021-04-20
申请人: 山西潞安太阳能科技有限责任公司
IPC分类号: H01L21/66
摘要: 本发明涉及太阳能电池生产领域。一种判断晶硅太阳能电池片失效的方法,该晶硅太阳能电池片采用SE+PERC生产,如果能全部满足以下条件说明该该晶硅太阳能电池片为良好电池片,否则该晶硅太阳能电池片为失效的电池片,条件一、电池片外观不存在明显清晰SE细栅线;条件二、将电池片放置在二次元显微镜镜头下,选取光源亮度30%,倍镜选取96X,观察栅线以外的区域不存在明显的亮点、亮斑;条件三、将镀膜后蓝膜片放置在二次元显微镜镜头下,选取光源亮度50%,倍镜选取96X,观察栅线光斑是饱满的不存在缺角的。
-
公开(公告)号:CN115312622A
公开(公告)日:2022-11-08
申请号:CN202210916731.5
申请日:2022-08-01
申请人: 山西潞安太阳能科技有限责任公司
IPC分类号: H01L31/18 , H01L21/02 , H01L21/223 , H01L31/0216 , C30B33/00
摘要: 本发明涉及太阳能电池生产领域。一种太阳能电池生产工艺,硅锭被切割成硅片后,经过预清洗后烘干;在硅片表面形成一层保护膜;采用碱液对硅片表面进行抛光;在硅片表面制绒;进行扩散工艺制备PN结;对硅片表面抛光,去磷硅玻璃;使用氧气对硅片表面进行钝化;采用PECVD设备镀膜;丝网印刷。本发明在减重最少情况下实现了对硅片表面的抛光。本发明可以形成较深的P‑N结,最终形成效率高的太阳能电池。
-
公开(公告)号:CN113283053B
公开(公告)日:2022-09-30
申请号:CN202110414857.8
申请日:2021-04-17
申请人: 山西潞安太阳能科技有限责任公司
IPC分类号: G06F30/20 , C23C16/52 , C23C16/50 , G06F111/10 , G06F113/08
摘要: 本发明涉及太阳能电池生产领域。一种晶硅电池pecvd镀膜工艺参数建立的方法,包括设备初始参数建立方法和设备工艺参数优化方法,设备初始参数建立方法,工艺气体总流量初始值的确定,工艺腔体压力初始值的确定,工艺气体沉积功率初始值的确定;设备工艺参数优化方法,工艺腔体气体总流量优化值的确定,工艺腔体压力优化值的确定。本发明可有效降低新设备工艺参数建立的难度,同时保证参数优化的合理性,为工艺参数的优化调整提供便利。
-
公开(公告)号:CN114765234A
公开(公告)日:2022-07-19
申请号:CN202210286211.0
申请日:2022-03-23
申请人: 山西潞安太阳能科技有限责任公司
摘要: 本发明涉及P型晶硅双面太阳能电池背钝化领域。一种P型晶硅双面电池退火增强背钝化方法,按如下步骤进行步骤一、第一次SiON膜层沉积+第一次退火,步骤二、第二次SiON膜层沉积+第二次退火,步骤三、第二次SiON膜层沉积+第三次退火,步骤四、SiN膜层沉积构,SiN膜层采用三层沉积,步骤五、第四次退火。本发明将SiON膜层进行合理的拆分,并与退火工艺拼接,可减少SiON膜层过厚时内部缺陷。
-
公开(公告)号:CN112382696B
公开(公告)日:2022-05-10
申请号:CN202011100277.3
申请日:2020-10-15
申请人: 山西潞安太阳能科技有限责任公司
IPC分类号: H01L31/18 , H01L31/068 , H01L31/0216 , C23C16/30 , C23C16/515 , C23C16/52 , C23C16/56
摘要: 本发明涉及太阳能电池生产领域,特别涉及双面太阳能电池生产领域。一种新型晶硅SiON双面电池背钝化工艺,在背面晶硅基体上直接制备氮氧化硅层,然后在进行退火,最后再制备氮化硅层;氮氧化硅层为单层膜,采用PECVD的方式沉积,工艺参数为,压力1500‑2000mTorr,温度450‑500℃,功率为8500‑12000W,脉冲开关比为1:10至1:16,所通SiH4/NH3/N2O=1.65/1/4至2.5/1/5,且三种气体SiH4、NH3、N2O总流量需大于7000sccm,时间40‑60s。本发明不仅有效降低了双面电池的背面钝化制造成本,同时创造性的解决钝化SiON膜层变薄后钝化效果变差的问题。
-
公开(公告)号:CN112510112B
公开(公告)日:2022-03-15
申请号:CN202011218485.3
申请日:2020-11-04
申请人: 山西潞安太阳能科技有限责任公司
IPC分类号: H01L31/18 , H01L21/225
摘要: 本发明涉及太阳能电池生产领域。一种高致密性氧化层的扩散工艺方法,按如下的步骤进行前氧化、第一步沉积、第一步推进、第二步沉积、第二步推进、第三步沉积、第三步推进、后氧化。通过前氧化及多次分布式沉积推进,有效改善PN结深,降低死层,减少复合;通过后氧化,使用低温,高浓度进行沉积,即增加了氧化层厚度,又不会使磷源近一步的扩散进电池片,减少了扩散半成品控制难度。
-
公开(公告)号:CN111063763B
公开(公告)日:2021-11-09
申请号:CN201911221900.8
申请日:2019-12-03
申请人: 山西潞安太阳能科技有限责任公司
IPC分类号: H01L31/18 , H01L31/0236 , H01L21/66 , H01L21/677 , H01L21/683
摘要: 本发明涉及光伏太阳能硅片检测湿法制绒领域,一种提高光伏湿法制绒设备产能方法,对JJC‑SC‑CSZ600E‑15F光伏湿法制绒设备进行改进,降低机械手对硅片的感应时间,提高机械手的抓片频率,提高导轨传送速率,增大TTV上探头与硅片之间的距离,在开始检测点与结束点过滤掉40ms的检测时间,同时减少检测数据点,传感器感应到硅片后,导轨停顿360ms,相机的破片感应时间由原来的200ms降低为现在的100ms,改进六、对机械手的真空吸盘的改造,由原来的橡胶垫片,更换为同样形状的塑料垫片。发明的有益效果是:产能提升10%以上。
-
公开(公告)号:CN113283053A
公开(公告)日:2021-08-20
申请号:CN202110414857.8
申请日:2021-04-17
申请人: 山西潞安太阳能科技有限责任公司
IPC分类号: G06F30/20 , C23C16/52 , C23C16/50 , G06F111/10 , G06F113/08
摘要: 本发明涉及太阳能电池生产领域。一种晶硅电池pecvd镀膜工艺参数建立的方法,包括设备初始参数建立方法和设备工艺参数优化方法,设备初始参数建立方法,工艺气体总流量初始值的确定,工艺腔体压力初始值的确定,工艺气体沉积功率初始值的确定;设备工艺参数优化方法,工艺腔体气体总流量优化值的确定,工艺腔体压力优化值的确定。本发明可有效降低新设备工艺参数建立的难度,同时保证参数优化的合理性,为工艺参数的优化调整提供便利。
-
公开(公告)号:CN113257954A
公开(公告)日:2021-08-13
申请号:CN202110422738.7
申请日:2021-04-20
申请人: 山西潞安太阳能科技有限责任公司
IPC分类号: H01L31/18 , H01L31/068
摘要: 本发明涉及太阳能电池生产领域。种解决碱抛SE‑PERC电池EL不良的方法,扩散过程按如下步骤进行,入舟排空,制绒后的硅片放入石英舟,然后将石英舟放入扩散炉中,通入氮气排除空气;前氧化,前氧化分两步,分别通入不同浓度的氮气和氧气,第一步在硅片表面形成深而疏的氧化层,第二步在第一步的基础上形成密而薄的氧化层;多步扩散和推进;后氧化,后氧化分三步,第一步采用恒温氧化,第二步采用恒温补源氧化,第三步采用低温氧化;出管,测试。
-
公开(公告)号:CN112510112A
公开(公告)日:2021-03-16
申请号:CN202011218485.3
申请日:2020-11-04
申请人: 山西潞安太阳能科技有限责任公司
IPC分类号: H01L31/18 , H01L21/225
摘要: 本发明涉及太阳能电池生产领域。一种高致密性氧化层的扩散工艺方法,按如下的步骤进行前氧化、第一步沉积、第一步推进、第二步沉积、第二步推进、第三步沉积、第三步推进、后氧化。通过前氧化及多次分布式沉积推进,有效改善PN结深,降低死层,减少复合;通过后氧化,使用低温,高浓度进行沉积,即增加了氧化层厚度,又不会使磷源近一步的扩散进电池片,减少了扩散半成品控制难度。
-
-
-
-
-
-
-
-
-