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公开(公告)号：CN118939030A
公开(公告)日：2024-11-12
申请号：CN202410998491.7
申请日：2024-07-24
申请人： 大连皓宇电子科技有限公司
IPC分类号： G05D23/20
摘要： 本发明公开了一种半导体设备加热盘上升温度速率控制的方法，通过将完整加热过程分为多个加热的子过程，通过获取每个加热子过程的实际温度曲线，得到完整的实际温度曲线，进而根据期望温度曲线，获取期望温度曲线上的趋势变化点，当趋势变化点的数量大于TS/T个时，确定PID控制器的调节区间，并在每个PID控制器的调节区间内对PID控制参数进行调节，并根据最后的调整后的PID控制器加热盘的当前温度以及加热目标温度，对半导体加热盘进行加热，以实现对半导体设备加热盘的上升温度速率的控制。本发明通过引入多组PID参数在不同的温度条件下进行切换来控制加热速率，能够明显的提高加热期望曲线和加热实际曲线的拟合度。
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公开(公告)号：CN118403855A
公开(公告)日：2024-07-30
申请号：CN202410490619.9
申请日：2024-04-23
申请人： 大连皓宇电子科技有限公司
摘要： 本发明公开了利用等离子体技术对工艺腔体末端管路及阀门进行清洁的方法，涉及管道清洁技术领域，包括：当管路及阀门需要清洁时，清洁系统控制器接收到氮气进气气动隔膜阀、氮气出气气动隔膜阀打开信号后，使信号选择器接收设备端控制器的管路清洁参数，该工艺腔体清洁参数传输至清洁系统反应发射器；清洁系统反应发射器将气柜内的清洁气体以高压喷射方式送入管路内进行清洁。通过本发明的清洁方法直接对设备端清洁不完善的气体管路和阀门执行清洁功能，解决气体管路堵塞、阀门卡顿问题，从而增加机台的使用周期，增加产能。可以减少半导体设备停机次数和维护周期，能够大幅提高半导体管道的清洁效率，减少人工清洁所需的时间和人力成本。
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公开(公告)号：CN116936430A
公开(公告)日：2023-10-24
申请号：CN202310940081.2
申请日：2023-07-28
申请人： 大连皓宇电子科技有限公司
IPC分类号： H01L21/677 , C23C14/56 , C23C16/458
摘要： 本发明公开了一种智能传送腔取放片调度系统与方法，其系统包括多个Loadlock、第一真空机械臂、第二真空机械臂、Transfer存储平台、大气机械臂，所述大气机械臂一侧为多个晶圆盒，另一侧两端设有交互位置，每个交互位置上罗列有多个独立设置的Loadlock，在交互位置之间设有第一真空机械臂，所述第一真空机械臂与第二真空机械臂之间为Transfer存储平台，在第二真空机械臂外周设有多个工艺腔。每个Loadlock设有对应顺序编号，所述Loadlock为上下双层结构。多个独立的LoadLock不区分出入腔，每个LoadLock都有出入的可能性，大气机械臂、第一真空机械臂、第二真空机械臂每次可以做一套取片、放片动作；并且三个机械臂独立同时运行，互不影响，有一个良好的循环减少等待的情况发生，避免资源浪费。
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公开(公告)号：CN116487304A
公开(公告)日：2023-07-25
申请号：CN202310470022.3
申请日：2023-04-27
申请人： 大连皓宇电子科技有限公司
IPC分类号： H01L21/677 , H01L21/68 , F16J15/52 , F16J15/43
摘要： 本发明公开了工艺腔室内多工位硅片搬运机构，包括主轴，顶部设有晶圆传输托盘；密封组件，套接在主轴上部，实现Z向密封和旋转密封；旋转机构，与主轴下部连接，实现主轴旋转运动；Z向升降机构，与旋转机构连接，实现主轴升降运动。所述密封组件包括用于实现Z向密封的波纹管组件和用于实现旋转密封的磁流体真空密封空心轴，所述磁流体真空密封空心轴位于波纹管组件与主轴之间，在波纹管组件与磁流体真空密封空心轴端部设有磁流体防护盖。本申请通过旋转机构和Z向升降机构集成实现适用于多工位的往复旋转及升降运动，整体紧凑合理，并采用波纹管组件进行Z向密封及磁流体进行旋转真空密封的组合形式，其密封性极好，不会出现腔室泄漏现象。
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公开(公告)号：CN116219409A
公开(公告)日：2023-06-06
申请号：CN202310222522.5
申请日：2023-03-09
申请人： 大连皓宇电子科技有限公司
IPC分类号： C23C16/455 , H01L21/67 , C23C16/52
摘要： 本发明公开了一种半导体镀膜喷淋头平面性调节器，喷头高度调节板穿过三个均布的带肩铰链销，并通过三组均布的丝杆弹簧组连接到喷头轴密封垫板上，喷头高度调节板上均布安装有三个带锁紧千分尺头，带锁紧千分尺头的测头顶在喷头轴密封垫板上，喷头轴密封垫板的上端密封固定有喷头陶瓷连接件，喷头轴密封垫板的下端密封固定有喷头陶瓷套。本发明采用带锁紧千分尺头调节上下运动，千分尺本身精度在0.5mm/50＝0.01mm，提高了整体调节精准度，另外，千分尺头本身带有轴心锁，锁紧调节杆位置稳定快捷，进一步提高了效率。
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公开(公告)号：CN118888244A
公开(公告)日：2024-11-01
申请号：CN202410974019.X
申请日：2024-07-19
申请人： 大连皓宇电子科技有限公司
摘要： 本发明公开了一种spindle主轴上磁流体冷却的方法，涉及半导体设备冷却技术领域；包括：在滑块主体上盖根部加工出第一避让槽，在滑块主体上盖侧壁加工出第二避让槽；在盘管模具上缠绕铜管形成螺旋铜管，该螺旋铜管具有两个伸出端，第一伸出端从螺旋铜管根部引出作为进水管，第二伸出端起始于螺旋铜管顶部且紧贴其内壁从根部引出作为出水管；将进水管和出水管分别焊接在水管夹两侧的通孔内；焊接后，将螺旋铜管套接在滑块主体上盖外周，此时第一伸出端从第一避让槽穿出，第二伸出端从第二避让槽穿出；将螺旋铜管上的缝隙及螺旋铜管与滑块主体上盖之间的缝隙添胶焊接。本发明通过循环水把热量带走，达到给磁流体散热的作用。
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公开(公告)号：CN118371497A
公开(公告)日：2024-07-23
申请号：CN202410490618.4
申请日：2024-04-23
申请人： 大连皓宇电子科技有限公司
摘要： 本发明公开了一种应用在管路清洁系统上的冷却装置，涉及半导体设备冷却技术领域；包括：进水供应块，用于提供冷却水；进水接头，设置在清洁系统反应发射器上，用于将冷却水送入反应发射器内部水路；出水接头，设置在清洁系统反应发射器上，用于将反应发射器内部水路的冷却水输出；三通接头，用于接收冷却水；冷却水管，用于冷却气体传输管路；冷却块，用于冷却气体传输管路；三通切换阀，用于切换水路；回水供应块，用于收集冷却回水。当管路清洁系统不运行时，循环冷却水只流向清洁系统反应发射器，当管路清洁系统运行时切换三通阀，此时循环冷却水流过清洁系统反应发射器、气体传输管路形成循环冷却的效果。
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公开(公告)号：CN118345346A
公开(公告)日：2024-07-16
申请号：CN202410490609.5
申请日：2024-04-23
申请人： 大连皓宇电子科技有限公司
IPC分类号： C23C16/455 , C23C16/52
摘要： 本发明公开了集成在PECVD设备上的管路及阀门清洁系统，涉及半导体设备管道清洁技术领域，包括：PECVD设备的气柜，用于提供清洁气体；气体传输管路，与PECVD设备的气柜相连，用于传输清洁气体；清洁系统反应发射器，与气体传输管路相连，用于发射等离子清洁气体；分体式气体传输管路，焊接在PECVD设备的排气混合总管上，将等离子清洁气体引入待清洁管路及阀门。本发明将现有PECVD设备上增加一套管路及阀门清洁系统，可在无需人力的情况下，高效清洁管路及阀门上的内残留薄膜，如碳化硅等，实现在线自动清洁，有效减少设备停机次数，增加产能并节约人力成本，同时保证了PECVD设备的洁净度，确保工艺的稳定持久。
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公开(公告)号：CN118180063A
公开(公告)日：2024-06-14
申请号：CN202410490614.6
申请日：2024-04-23
申请人： 大连皓宇电子科技有限公司
摘要： 本发明公开了一种冷却半导体设备上清洁系统的方法，涉及半导体设备冷却技术领域；包括：冷却水由进水供应块流向清洁系统反应发射器内部水路，从内部水路流出后流经三通接头进入三通切换阀；当清洁系统运行时打开三通切换阀的第一端和第三端，关闭第二端，三通接头内冷却水流入冷却水管、冷却块，进入三通切换阀的第一端，通过三通切换阀的第三端进入回水供应块；当清洁系统未运行时打开三通切换阀的第二端和第三端，关闭第一端，三通接头内冷却水流经三通切换阀进入回水供应块。本方法降低气体传输管路、清洁系统反应发射器的工作温度，延长其使用寿命，可有效节约循环冷却水的使用。
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公开(公告)号：CN116219408A
公开(公告)日：2023-06-06
申请号：CN202310222498.5
申请日：2023-03-09
申请人： 大连皓宇电子科技有限公司
IPC分类号： C23C16/455 , H01L21/67 , C23C16/52
摘要： 本发明公开了一种用于半导体镀膜喷淋头平面性便携精微位置调节器，调节盘上均布有三个带锁紧千分尺头，带锁紧千分尺头的底部与连接轴连接，连接轴压接到深沟球轴承上，深沟球轴承安装在陶瓷垫环内，陶瓷垫环的底部安装有带螺纹连杆，带螺纹连杆上套装有密封单元，密封单元安装在调整杆陶瓷套上。本发明将调节部分放在腔体外面，隔绝了腔体内部高温影响，提高了调节效率；采用带锁紧千分尺头直连上下运动，提高了整体调节精准度，另外千分尺头本身带有轴心锁，锁紧调节杆位置稳定快捷，进一步提高了效率；调节器和上腔体之间采用了绝缘件隔绝装配，避免了设备开启过程腔体放电，而且陶瓷件的精度稳定性都很好，提高了设备本身的稳定性。
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