本发明公开了集成在PECVD设备上的管路及阀门清洁系统，涉及半导体设备管道清洁技术领域，包括：PECVD设备的气柜，用于提供清洁气体；气体传输管路，与PECVD设备的气柜相连，用于传输清洁气体；清洁系统反应发射器，与气体传输管路相连，用于发射等离子清洁气体；分体式气体传输管路，焊接在PECVD设备的排气混合总管上，将等离子清洁气体引入待清洁管路及阀门。本发明将现有PECVD设备上增加一套管路及阀门清洁系统，可在无需人力的情况下，高效清洁管路及阀门上的内残留薄膜，如碳化硅等，实现在线自动清洁，有效减少设备停机次数，增加产能并节约人力成本，同时保证了PECVD设备的洁净度，确保工艺的稳定持久。