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公开(公告)号：CN116324046A
公开(公告)日：2023-06-23
申请号：CN202180040817.X
申请日：2021-11-04
Applicant: 株式会社荏原制作所
IPC: C25D21/08
Abstract: 镀覆模块包括：镀覆槽，构成为收容镀覆液；基板保持器，构成为保持被镀覆面朝向下方的基板；旋转机构，构成为使基板保持器旋转；触点部件(494‑4)，具有与保持于基板保持器的基板的被镀覆面的外周部接触的基板接点(494‑4a)、及比基板接点(494‑4a)向上方延伸的主体部(494‑4b)，该触点部件安装于基板保持器；以及触点清洗部件(482)，用于从基板保持器的下方朝向触点部件(494‑4)的主体部(494‑4b)排出清洗液。
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公开(公告)号：CN111376171B
公开(公告)日：2023-06-20
申请号：CN201911309643.3
申请日：2019-12-18
Applicant: 株式会社荏原制作所
IPC: B24B37/10 , B24B37/30 , B24B37/34 , H01L21/321
Abstract: 本发明提供一可精确控制基板的周缘部的研磨轮廓的研磨装置及研磨方法。研磨装置(1)具备：用于支承具有研磨面(2a)的研磨垫(2)的研磨台(3)；具有按压面(45a)的可旋转的头主体(11)；与头主体(2a)一起旋转同时用以压靠研磨面的挡圈(20)；旋转环(51)；固定环(91)；及用于向固定环(91)施加局部载荷的多个局部载荷施加装置(30A、30B)。局部载荷施加装置(30A、30B)包含连接至固定环(91)的第一按压构件(31A)和第二按压构件(31B)。第一按压构件(31A)配置于研磨面的行进方向上的挡圈的上游侧，第二按压构件(31B)配置于研磨面的行进方向上的挡圈的下游侧。
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公开(公告)号：CN116240609A
公开(公告)日：2023-06-09
申请号：CN202211571161.7
申请日：2022-12-08
Applicant: 株式会社荏原制作所
Inventor： 加贺谷俊介
Abstract: 本发明提供基板处理装置、基板处理装置的控制装置、基板处理装置的控制方法、储存程序的存储介质。本发明的课题在于，在基板处理装置中灵活且迅速地节约处理液。一种基板处理装置，其构成为在基板处理装置的生产率成为最大的通常模式与在至少一个处理槽中节约处理液的处理液节约模式之间切换输送时间表，基于对上述基板处理装置整体的处理速度进行限速的限速部分，判定是否是基板处理装置中的需要生产量较少的空闲期，在判定为基板处理装置处于空闲期时，将输送时间表设定为处理液节约模式，在判定为基板处理装置不处于空闲期时，将输送时间表设定为通常模式。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN110712118B
公开(公告)日：2023-05-09
申请号：CN201910628469.2
申请日：2019-07-12
Applicant: 株式会社荏原制作所
Inventor： 中村显
IPC: B24B37/00
Abstract: 本发明提供一种可改善在基板的边缘部等获得的测量值的精确度的研磨装置以及研磨方法。膜厚测量装置(231)与终点检测器(241)根据设置于研磨台(320A)的涡电流传感器(210)的输出而监视导电膜(102)的膜厚。涡电流传感器(210)的输出包含阻抗成分，在使阻抗成分的电阻成分和电抗成分分别与具有两个正交坐标轴的坐标系的各轴对应时，与阻抗成分对应的坐标系上的点的至少一部分形成圆的至少一部分。膜厚测量装置(231)求出坐标系上的点与圆的中心的距离，且根据阻抗成分求出膜厚，使用所获得的距离来修正所获得的膜厚。
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公开(公告)号：CN110158145B
公开(公告)日：2023-04-07
申请号：CN201910111839.5
申请日：2019-02-12
Applicant: 株式会社荏原制作所
Inventor： 小泉龙也
IPC: C25D21/12 , C25D17/06 , C25D7/12 , H01L21/67 , H01L21/687
Abstract: 本发明提供基板保持部件、基板处理装置、基板处理装置的控制方法、保存有程序的存储介质，在基板处理装置中尽早发现基板及/或基板保持部件的异常。该基板保持部件具有：第1保持部件；在与上述第1保持部件之间保持基板的第2保持部件；和设在上述第1保持部件及上述第2保持部件中的至少一方的透明部。
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公开(公告)号：CN115244227B
公开(公告)日：2023-03-31
申请号：CN202180003017.0
申请日：2021-02-22
Applicant: 株式会社荏原制作所
IPC: C25D17/06
Abstract: 本发明涉及镀覆装置，本发明提供一种能够抑制由旋转机构的轴承产生的颗粒侵入镀覆槽的技术。镀覆装置(1000)具备迷宫式密封部件(50)，迷宫式密封部件具有：内侧迷宫式密封件(53)，配置于比轴承(33)靠下方的位置，且密封轴承；外侧迷宫式密封件(54)，配置于比内侧迷宫式密封件在旋转轴(32)的径向上靠外侧的位置；排出口(55)，构成为向形成于比内侧迷宫式密封件在径向上靠内侧的内侧密封空间(60)供给空气；以及吸收口(56)，构成为对形成于比内侧迷宫式密封件在径向上靠外侧且比外侧迷宫式密封件在径向上靠内侧的外侧密封空间(65)的空气进行吸收。
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公开(公告)号：CN114616360B
公开(公告)日：2023-03-21
申请号：CN202180005800.0
申请日：2021-05-31
Applicant: 株式会社荏原制作所
Inventor： 关正也
Abstract: 提高基板的被处理面的清洗处理和脱气处理的效率。预湿模块(200)具备：工作台(220)，其构成为对使被处理面(WF‑a)向上的基板(WF)的背面进行保持；旋转机构(224)，其构成为使工作台(220)旋转；预湿室(260)，其具备具有与基板(WF)的被处理面(WF‑a)相向的相向面(262a)的盖构件(262)和安装于盖构件(262)的相向面(262a)的外缘部的筒状构件(264)；升降机构(230)，其构成为使预湿室(260)升降；脱气液供给构件(204)，其构成为对形成于预湿室(260)与基板(WF)的被处理面(WF‑a)之间的预湿空间(269)供给脱气液；喷嘴(268)，其安装于盖构件(262)的相向面(262a)；以及清洗液供给构件(202)，其构成为经由喷嘴(268)而对基板(WF)的被处理面(WF‑a)供给清洗液。
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公开(公告)号：CN110509179B
公开(公告)日：2023-03-10
申请号：CN201910420608.2
申请日：2019-05-20
Applicant: 株式会社荏原制作所
Inventor： 锅谷治
IPC: B24B37/30 , B24B37/10 , H01L21/67 , H01L21/683
Abstract: 本发明提供一种基板保持装置、基板研磨装置、弹性构件以及基板保持装置的制造方法。基板保持装置具备：顶环主体；弹性膜，具有第一面和第二面，在第一面与顶环主体之间形成有多个区域，第二面位于与第一面相反的一侧且能保持基板；第一线路，与多个区域中的第一区域连通，能对第一区域进行加压；第二线路，与第一区域连通，能从第一区域排气；测定器，其测定值基于第一区域的流量而变化；第三线路，与第二区域连通且能对第二区域进行减压，第二区域是多个区域中的与第一区域不同的区域；弹性构件，在第一线路与第二线路之间被设置成，在弹性膜的第二面未保持基板时与弹性膜的第一面分离，在弹性膜的第二面保持有基板时与弹性膜的第一面接触。
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