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公开(公告)号：CN119604647A
公开(公告)日：2025-03-11
申请号：CN202480003324.2
申请日：2024-03-07
Applicant: 株式会社荏原制作所
Abstract: 抑制或防止配置于基板与阳极之间的各部件的形状、移动等转印至镀敷膜。镀敷装置具备：镀敷槽，用于保持镀敷液；基板保持器，以被镀敷面向下的方式保持基板；阳极，与上述基板对置配置；隔膜，配置于上述基板与上述阳极之间；以及隔膜支承部，按压上述隔膜的上表面，该隔膜支承部具有多个第1形状的开口和配置于该多个第1形状的开口的外侧的多个第2形状的开口，包含上述多个第1形状的开口的外接圆的中心从上述基板保持器的旋转中心偏心。
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公开(公告)号：CN116097077A
公开(公告)日：2023-05-09
申请号：CN202280006005.8
申请日：2022-06-17
Applicant: 株式会社荏原制作所
Abstract: 提供一种判定镀覆液向触点部件的配置区域的泄漏的有无的技术。泄漏判定方法包括：排出步骤(120)，在该排出步骤中，在将被基板保持器保持的基板浸渍于镀覆液并进行镀覆处理之后，对基板保持器的触点部件排出清洗液；测量步骤(122)，在该测量步骤中，测量清洗触点部件之后的清洗液的导电率；以及判定步骤(128)，在该判定步骤中，基于针对成为基准的基板保持器预先测量出的清洗液的第1导电率与通过测量步骤(122)测量出的清洗液的第2导电率的比较来判定镀覆液向触点部件的配置区域的泄漏的有无。
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公开(公告)号：CN116802346B
公开(公告)日：2024-04-16
申请号：CN202280008046.0
申请日：2022-04-21
Applicant: 株式会社荏原制作所
Abstract: 本发明提供能够抑制基板的镀覆品质因出自阳极的气泡而恶化的技术。镀覆模块(400)包括：镀覆槽(10)，其构成为收容镀覆液；阳极(13)，其配置于镀覆槽(10)内；基板支架(20)，其构成为保持使被镀覆面朝向下方以便与阳极(13)对置的基板(Wf)；膜模块(40)，其具有将镀覆槽(10)内划分为阳极室(11)和阴极室(12)的第1膜(41)、及配置于第1膜(41)与阳极(13)之间的第2膜(42)；以及管部件(31)，其将镀覆槽(10)内的比阳极(13)靠下方的第1区域(R1)以及第1膜(41)与第2膜(42)之间的第2区域(R2)连通。
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公开(公告)号：CN116097077B
公开(公告)日：2024-02-27
申请号：CN202280006005.8
申请日：2022-06-17
Applicant: 株式会社荏原制作所
Abstract: 提供一种判定镀覆液向触点部件的配置区域的泄漏的有无的技术。泄漏判定方法包括：排出步骤(120)，在该排出步骤中，在将被基板保持器保持的基板浸渍于镀覆液并进行镀覆处理之后，对基板保持器的触点部件排出清洗液；测量步骤(122)，在该测量步骤中，测量清洗触点部件之后的清洗液的导电率；以及判定步骤(128)，在该判定步骤中，基于针对成为基准的基板保持器预先测量出的清洗液的第1导电率与通过测量步骤(122)测量出的清洗液的第2导电率的比较来判定镀覆液向触点部件的配置区域的泄漏的有无。
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公开(公告)号：CN116368268B
公开(公告)日：2024-02-13
申请号：CN202180038910.7
申请日：2021-11-04
Applicant: 株式会社荏原制作所
IPC: C25D7/12
Abstract: 本发明高效清洗基板。镀覆模块(400)包括：镀覆槽(410)，构成为收容镀覆液；基板保持器基板(Wf)；旋转机构(446)，构成为使基板保持器(440)旋转；倾斜机构(447)，构成为使基板保持器(440)倾斜；以及基板清洗部件(472)，用于清洗基板保持器(440)所保持的基板(Wf)的被镀覆面(Wf‑a)，基板清洗部件(472)构成为从与通过倾斜机构(447)倾斜的基板(Wf)的下端对应的位置朝向与上端对应的位置，向通过旋转机构(446)旋转的基板(Wf)的被镀覆面(Wf‑a)排出清洗液。(440)，构成为保持被镀覆面(Wf‑a)朝向下方的
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN116802346A
公开(公告)日：2023-09-22
申请号：CN202280008046.0
申请日：2022-04-21
Applicant: 株式会社荏原制作所
Abstract: 本发明提供能够抑制基板的镀覆品质因出自阳极的气泡而恶化的技术。镀覆模块(400)包括：镀覆槽(10)，其构成为收容镀覆液；阳极(13)，其配置于镀覆槽(10)内；基板支架(20)，其构成为保持使被镀覆面朝向下方以便与阳极(13)对置的基板(Wf)；膜模块(40)，其具有将镀覆槽(10)内划分为阳极室(11)和阴极室(12)的第1膜(41)、及配置于第1膜(41)与阳极(13)之间的第2膜(42)；以及管部件(31)，其将镀覆槽(10)内的比阳极(13)靠下方的第1区域(R1)以及第1膜(41)与第2膜(42)之间的第2区域(R2)连通。
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公开(公告)号：CN115461499B
公开(公告)日：2023-04-18
申请号：CN202180030228.3
申请日：2021-11-04
Applicant: 株式会社荏原制作所
Abstract: 本发明提供用于兼具执行基板的清洗和抑制镀覆槽内的镀覆液气氛释放至镀覆模块内的技术。镀覆模块包括：镀覆槽(410)，构成为收容镀覆液；基板保持器，构成为保持被镀覆面朝向下方的基板(Wf)；升降机构，构成为使基板保持器升降；罩部件(460)，配置于镀覆槽(410)的上方，并具有包围基板保持器的升降路径的侧壁(461)；开闭机构，构成为将形成于罩部件(460)的侧壁(461)的开口(461a)开闭；基板清洗部件(472)，用于朝向基板保持器所保持的基板(Wf)的被镀覆面排出清洗液；以及驱动机构(476)，构成为使基板清洗部件(472)经由开口(461a)在清洗位置与退避位置之间移动，上述清洗位置是镀覆槽(410)与基板保持器之间的位置，上述退避位置是从镀覆槽(410)与基板保持器之间退避的位置。
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公开(公告)号：CN117460866B
公开(公告)日：2024-06-07
申请号：CN202280006000.5
申请日：2022-06-17
Applicant: 株式会社荏原制作所
Abstract: 提供一种可清洗触点清洗部件的镀覆装置。镀覆装置包括：镀覆槽，构成为收容镀覆液；基板保持器，构成为保持被镀覆面朝向下方的基板，且具有用于对基板供电的触点部件；触点清洗部件(482)，用于在位于镀覆槽与基板保持器之间的清洗位置时朝向触点部件排出清洗液；驱动机构(476)，构成为使触点清洗部件(482)在清洗位置与退避位置之间移动，该退避位置是从镀覆槽与基板保持器之间退避了的位置；以及喷嘴清洗用罩(489)，构成为在触点清洗部件(482)位于退避位置时覆盖触点清洗部件(482)的上部。
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公开(公告)号：CN116368268A
公开(公告)日：2023-06-30
申请号：CN202180038910.7
申请日：2021-11-04
Applicant: 株式会社荏原制作所
IPC: C25D7/12
Abstract: 本发明高效清洗基板。镀覆模块(400)包括：镀覆槽(410)，构成为收容镀覆液；基板保持器(440)，构成为保持被镀覆面(Wf‑a)朝向下方的基板(Wf)；旋转机构(446)，构成为使基板保持器(440)旋转；倾斜机构(447)，构成为使基板保持器(440)倾斜；以及基板清洗部件(472)，用于清洗基板保持器(440)所保持的基板(Wf)的被镀覆面(Wf‑a)，基板清洗部件(472)构成为从与通过倾斜机构(447)倾斜的基板(Wf)的下端对应的位置朝向与上端对应的位置，向通过旋转机构(446)旋转的基板(Wf)的被镀覆面(Wf‑a)排出清洗液。
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公开(公告)号：CN116324046A
公开(公告)日：2023-06-23
申请号：CN202180040817.X
申请日：2021-11-04
Applicant: 株式会社荏原制作所
IPC: C25D21/08
Abstract: 镀覆模块包括：镀覆槽，构成为收容镀覆液；基板保持器，构成为保持被镀覆面朝向下方的基板；旋转机构，构成为使基板保持器旋转；触点部件(494‑4)，具有与保持于基板保持器的基板的被镀覆面的外周部接触的基板接点(494‑4a)、及比基板接点(494‑4a)向上方延伸的主体部(494‑4b)，该触点部件安装于基板保持器；以及触点清洗部件(482)，用于从基板保持器的下方朝向触点部件(494‑4)的主体部(494‑4b)排出清洗液。
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