剥离方法
    62.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1472772A

    公开(公告)日:2004-02-04

    申请号:CN03147669.4

    申请日:2003-07-16

    CPC classification number: H01L27/1266 H01L21/76251 H01L27/1214

    Abstract: 提供了一种不损伤待要剥离的层的剥离方法,且此方法不仅能够剥离面积小的待要剥离的层,而且能够以高的成品率剥离面积大的整个待要剥离的层。而且,提供了一种通过将待要剥离的层粘合到各种基底材料而降低了重量的半导体器件及其制造方法。确切地说,提供了一种通过将典型为TFT的各种元件粘合到柔性膜而降低了重量的半导体器件及其制造方法。金属层或氮化物层被提供在衬底上;氧化物层被提供成与金属层或氮化物层相接触;然后形成基底绝缘膜和含有氢的待要剥离的层;并在410℃或更高的温度下执行热处理,以便扩散氢。结果,能够用物理方法在氧化物层中或在其界面处获得完全的剥离。

    具有二次电池的电子设备
    64.
    发明公开

    公开(公告)号:CN110233210A

    公开(公告)日:2019-09-13

    申请号:CN201910384499.3

    申请日:2015-05-05

    Abstract: 当作为二次电池的外包装体使用薄膜时,因为薄膜的强度比金属罐低,所以在从外部向二次电池施加压力时配置在由外包装体围绕的区域的集电体或设置在集电体表面上的活性物质层等有可能受到损伤。实现一种即使从外部向其施加外力时也有耐久性的二次电池。在二次电池中,在由外包装体围绕的区域设置缓冲材料。具体而言,在集电体的周边设置缓冲材料,以使外包装体(薄膜)的密封部位于在该缓冲材料的外侧。

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