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公开(公告)号：CN115938403A
公开(公告)日：2023-04-07
申请号：CN202211584388.5
申请日：2020-11-27
Applicant: 意法半导体股份有限公司
Abstract: 本公开的各种实施例提供了用于硬盘存储器系统的读/写设备以及对应的制造工艺。该读/写设备包括固定结构；膜区域，包括被约束到固定结构的第一膜和第二膜以及介于第一膜与第二膜之间的中心部分；第一压电致动器和第二压电致动器，分别被机械地耦合到第一膜和第二膜；以及读/写头，被固定到膜区域的中心部分。可以控制第一压电致动器和第二压电致动器以导致第一膜和第二膜的对应的变形，第一膜和第二膜的所述变形导致读/写头相对于固定结构的对应的移动。
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公开(公告)号：CN110488486B
公开(公告)日：2022-06-17
申请号：CN201910792851.7
申请日：2016-06-27
Applicant: 意法半导体股份有限公司
Abstract: 本发明涉及带有压电致动器的谐振双轴线MEMS反射器及包含其的投影MEMS系统，包含：固定结构(10)；活动结构(12)，其包括反射元件(90)；第一可变形结构(22)和第二可变形结构(24)，它们被布置在固定结构和活动结构之间。第一可变形结构和第二可变形结构中的每个包括相应数量的主压电元件(40)。第一可变形结构和第二可变形结构的主压电元件(40’，40”)能够被电控制以引起活动结构分别关于第一轴线(A1)和第二轴线(A2)的振荡。第一可变形结构还包括相应数量的次压电元件(42’)，它们能够被电控制从而改变活动结构关于第一轴线的第一谐振频率。
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公开(公告)号：CN113839582A
公开(公告)日：2021-12-24
申请号：CN202110691050.9
申请日：2021-06-22
Applicant: 意法半导体股份有限公司
IPC: H02N2/00
Abstract: 公开了具有有源阻尼器的微机电膜换能器。微机电膜换能器包括：支撑结构；腔，在支撑结构中；膜，耦合到支撑结构以便在一侧覆盖腔；悬臂阻尼器，围绕膜的周边被固定到支撑结构，并且在距膜一定距离处朝向膜的内部而延伸；以及阻尼器压电致动器，被布置在悬臂阻尼器上并且被配置以便响应于电致动信号而将悬臂阻尼器朝向膜弯曲。
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公开(公告)号：CN112971208A
公开(公告)日：2021-06-18
申请号：CN202011484016.6
申请日：2020-12-15
Applicant: 意法半导体股份有限公司
Abstract: 本公开涉及一种具有多个喷出腔的微流体分配装置。该微流体分配装置具有按照顺序布置的多个腔，每个腔具有接收待被分配的液体的入口以及用于喷出液滴的喷嘴。每个腔中的致动器接收致动量，并使液滴由相应腔的喷嘴喷出。每个腔中的液滴喷出检测元件在检测到液滴喷出时生成致动命令。一种顺序激活电路，包括多个顺序激活元件，每个腔一个顺序激活元件，每个顺序激活元件耦合到相应腔的液滴喷出检测元件，以及耦合到与一系列腔中的后续腔相关联的致动器。每个顺序激活元件从与相应腔相关联的液滴喷出检测元件接收致动命令，并激活与一系列腔中的后续腔相关联的致动器。
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公开(公告)号：CN108452967B
公开(公告)日：2021-04-06
申请号：CN201710937941.1
申请日：2017-09-30
Applicant: 意法半导体股份有限公司
IPC: B05B9/03 , B41J2/07 , B41J2/14 , H03K19/094
Abstract: 一种微流体设备，具有容纳多个彼此相邻布置的喷射元件的容器本体。每个喷射元件具有液体入口、容器室、压电致动器和喷射喷嘴。每个喷射元件的压电致动器连接至控制单元，该控制单元被配置成生成致动信号并且被集成在容器本体中。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN111983801A
公开(公告)日：2020-11-24
申请号：CN202010444104.7
申请日：2020-05-22
Applicant: 意法半导体股份有限公司
Abstract: 本公开涉及一种用于补偿不期望的运动的微机电系统(MEMS)压电致动器及其制造工艺。MEMS致动器包括半导体材料的单片式主体，其中半导体材料的支撑部可相对于彼此横切的第一旋转轴和第二旋转轴定向。半导体材料的第一框架通过第一可变形元件耦合到支撑部，第一可变形元件被配置为控制支撑部绕第一旋转轴的旋转。半导体材料的第二框架通过第二可变形元件耦合到第一框架，第二可变形元件耦合在第一框架和第二框架之间并且被配置为控制支撑部绕第二旋转轴的旋转。第一可变形元件和第二可变形元件承载相应的压电致动元件。
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公开(公告)号：CN111976295A
公开(公告)日：2020-11-24
申请号：CN202010451723.9
申请日：2020-05-25
Applicant: 意法半导体股份有限公司
IPC: B41J2/14
Abstract: 本公开的各实施例涉及用于流体的连续喷射的微流体设备及相关的制造过程。一种用于流体的连续喷射的微流体设备，包括：横向界定腔室的半导体主体；形成膜的中间结构，每个膜在顶部界定对应腔室；以及覆盖中间结构的喷嘴主体。对于每个腔室，该设备包括：对应的压电致动器；穿过中间结构并且与腔室连通的供应通道；以及穿过喷嘴主体并且与供应通道连通的喷嘴。每个致动器可以被控制，以便：i)在静止状况下操作，以使对应腔室内的流体的压力等于如下值：以便流体穿过供应通道并且以连续流的形式从喷嘴中喷射；ii)在活动状况下操作，在活动状况中，它引起对应膜的变形，并且引起流体的压力的随之而来的变化，从而引起连续流的暂时中断。
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公开(公告)号：CN106807568B
公开(公告)日：2019-11-22
申请号：CN201610490850.3
申请日：2016-06-28
Applicant: 意法半导体股份有限公司
Abstract: 本申请涉及具有限制通道的流体喷射设备及其制造方法。提供一种流体喷射设备(1)包括：第一半导体本体(2)，包括操作性地耦合至用于包含流体的室(6)并被配置为引起流体的喷射的致动器(3)以及在第一方向(Z)上延伸并具有第一尺寸(A1)的截面的用于流体的入口通道(11a)；以及第二半导体本体(8)，耦合至第一半导体本体(2)并具有被配置为排出流体的喷射喷嘴(13)。第二半导体本体(8)还包括第一限制通道(16)，第一限制通道流体地耦合至入口通道(11a)、在与第一方向(Z)垂直的第二方向(X)上延伸并具有小于第一尺寸(A1)的第二尺寸(A3)的相应截面，以在入口通道(11a)与室(6)之间形成限制。
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公开(公告)号：CN110269991A
公开(公告)日：2019-09-24
申请号：CN201910190624.7
申请日：2019-03-13
Applicant: 意法半导体股份有限公司
Inventor： D·朱斯蒂 , O·R·A·迪马尔科 , I·瓦里斯科
IPC: A61M16/20
Abstract: 本公开的各实施例涉及电阀模块、用于制造阀模块的方法、用于操作阀模块的方法、以及包括一个或多个阀模块的呼吸辅助装置。一种阀模块包括半导体本体、在半导体本体中的彼此隔开一定距离的空腔、悬置在每个空腔之上以使能空腔的至少部分闭合的悬臂结构、以及用于每个悬臂结构的压电致动器。压电致动器被配置用于引起相应悬臂结构的正弯曲并且因此调节通过阀模块的气流的速率。
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公开(公告)号：CN106814451B
公开(公告)日：2019-09-24
申请号：CN201610483722.6
申请日：2016-06-27
Applicant: 意法半导体股份有限公司
Abstract: 一种MEMS器件，包含：固定结构(10)；活动结构(12)，其包括反射元件(90)；第一可变形结构(22)和第二可变形结构(24)，它们被布置在固定结构和活动结构之间。第一可变形结构和第二可变形结构中的每个包括相应数量的主压电元件(40)。第一可变形结构和第二可变形结构的主压电元件(40’，40”)能够被电控制以引起活动结构分别关于第一轴线(A1)和第二轴线(A2)的振荡。第一可变形结构还包括相应数量的次压电元件(42’)，它们能够被电控制从而改变活动结构关于第一轴线的第一谐振频率。
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