一种用于“硅通孔”TSV-Cu结构工艺残余应力测试的实验装置

    公开(公告)号:CN202903388U

    公开(公告)日:2013-04-24

    申请号:CN201220431433.9

    申请日:2012-08-28

    Abstract: 一种用于“硅通孔”TSV-Cu结构工艺残余应力测试的实验装置,属于电子信息技术领域。实验装置主要由压头,实验试样,试样载台和铂金电加热片四部分组成。所述的试样载台上开有一个通孔,且直径要比试样中Cu孔的直径要大。试样载台位于最下部,实验试样在试样载台上,并且实验试样中硅通孔同试样载台中的通孔对中。铂金电加热片共四片,位于实验试样上表面硅通孔的四周。本实用新型的装置进行测试时能够最大程度保持试样的完整性,不对试样进行切割等影响原结构形貌导致残余应力释放等的操作,使得测试结果更加精确,同时残余应力的计算方法简单可靠,可以直观的判断残余应力的正负。

    一种再布线热增强型FCQFN封装器件

    公开(公告)号:CN203055893U

    公开(公告)日:2013-07-10

    申请号:CN201220699914.8

    申请日:2012-12-17

    Abstract: 本实用新型公开了一种再布线热增强型FCQFN封装器件。在再布线热增强型FCQFN封装器件中,IC芯片通过焊接材料倒装焊接在第一金属材料层上,通过将IC芯片背面裸露在外部环境中、在IC芯片上方配置散热片或者在IC芯片下方配置导热片以提升封装器件的散热性能,绝缘填充材料配置于芯片载体与引脚之间、以及引脚与引脚之间,引脚通过再布线层实现与第一金属材料层的连接,第二金属材料层配置于芯片载体和引脚的下表面,采用塑封材料进行包封。本实用新型采用的再布线层可使封装器件的尺寸大幅减小,降低了制造成本,提升了封装器件的良率和可靠性。

    一种再布线热增强型AAQFN封装器件

    公开(公告)号:CN202996819U

    公开(公告)日:2013-06-12

    申请号:CN201220700183.4

    申请日:2012-12-17

    CPC classification number: H01L2224/16225 H01L2224/73265

    Abstract: 本实用新型公开了一种再布线热增强型AAQFN封装器件。在再布线热增强型AAQFN封装器件中,IC芯片通过焊接材料倒装焊接在第一金属材料层上,通过将IC芯片背面裸露在外部环境中或者在IC芯片上方配置散热片以提升封装器件的散热性能,引脚通过再布线层实现与第一金属材料层的连接,第二金属材料层配置于引脚的下表面,引脚在封装器件中呈面阵排列,绝缘填充材料配置于引脚与引脚之间,采用塑封材料进行包封。本实用新型达到突破传统QFN封装的低I/O数量、高封装成本的瓶颈和提高封装体的可靠性的目的。

    一种再布线FCQFN封装器件
    69.
    实用新型

    公开(公告)号:CN202996811U

    公开(公告)日:2013-06-12

    申请号:CN201220700823.1

    申请日:2012-12-17

    Abstract: 本实用新型公开了一种再布线FCQFN封装器件。该器件包括:芯片载体配置于封装器件的中央部位;多个引脚配置于芯片载体四周,围绕芯片载体呈多圈排列;绝缘填充材料配置于芯片载体与引脚之间,以及引脚与引脚之间;第一金属材料层通过再布线层实现与引脚的连接;IC芯片通过焊接材料倒装焊接于第一金属材料层;第二金属材料层配置于芯片载体和引脚的下表面;塑封材料包覆密封上述IC芯片、焊接材料、第一金属材料层、再布线层和芯片载体,仅仅暴露出配置于芯片载体和引脚下表面的第二金属材料层。该器件具有高的I/O密度、低的制造成本和良好的可靠性。

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