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公开(公告)号：CN104296969A
公开(公告)日：2015-01-21
申请号：CN201410534973.3
申请日：2014-10-13
Applicant: 同济大学
IPC: G01M11/02
Abstract: 本发明涉及一种激光损伤阈值标定方法，包括：在三波长高反射薄膜镀制中，由三种尺寸SiO2颗粒结合吸收性金属Hf膜层制备均匀分布的混合型节瘤缺陷；利用此类节瘤缺陷尺寸大、粒径和空间分布均匀、激光损伤特性一致性好的优点，在光栅扫描激光损伤阈值测试中以此类节瘤缺陷为标准样品，统计性测量一定面积内90%节瘤缺陷喷溅时的损伤阈值；对不同激光损伤阈值测试系统的测量结果进行最小二乘法拟合，拟合直线的斜率和截距为激光损伤阈值标定参数。与现有技术相比，本发明具有判定简单准确等优点。
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公开(公告)号：CN103175886B
公开(公告)日：2015-01-14
申请号：CN201310090224.1
申请日：2013-03-20
Applicant: 同济大学
IPC: G01N27/60
Abstract: 本发明涉及一种光学基板亚表面中纳米吸收中心深度分布的检测方法，属于高功率激光元器件技术领域。该方法通过调控电场在基板亚表面中的分布，可以获得容易引起激光损伤的纳米吸收中心的吸收强弱在基板亚表面中的深度分布信息。该方法的步骤包括基于高反射膜的基板亚表面电场设计、基板的清洗、高反射薄膜制备、高反射薄膜的光谱测量及拟合、损伤阈值测试。实验证明，采用本发明可以获得容易引起激光损伤的纳米吸收中心的吸收强弱在基板亚表面数十纳米至数百纳米深度范围内分布的相对信息。该方法具有设计思路简单，可操作性强，检测结果直观可靠等优点，对于改进光学基板冷加工技术，控制基板亚表面层中残余的吸收性颗粒，提高光学基板的损伤阈值具有重要的指导意义。
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公开(公告)号：CN102841102B
公开(公告)日：2015-01-14
申请号：CN201210326292.9
申请日：2012-09-05
Applicant: 同济大学
IPC: G01N21/88
Abstract: 本发明涉及一种损伤阈值测量中微小尺度损伤点的识别方法及装置，所述的方法包括以下步骤：采用暗场照明，在线显微镜在泵浦激光辐照前对被测样品进行拍摄，获得图片a；计算机对图片a进行处理，分别识别出图片a中所有灰度高于阈值T高和T低的缺陷点，获得缺陷点数据D0高和D0低；在线显微镜对辐射后的被测样品进行拍摄，获得图片b，计算机识别出图片b中所有灰度高于T高的缺陷点，获得缺陷点数据D1高；将D1高中的每一个缺陷点与D0高和D0低中的所有缺陷点进行逐一比较；计算机根据比较结果以及判定准则，识别样品是否发生损伤；所述的装置包括泵浦激光器、电动平移台、照明光源、在线显微镜和计算机。与现有技术相比，本发明具有可有效识别微小尺度损伤点、识别精度高等优点。
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公开(公告)号：CN102841097B
公开(公告)日：2015-01-14
申请号：CN201210326252.4
申请日：2012-09-05
Applicant: 同济大学
IPC: G01N21/84
Abstract: 本发明涉及一种基于高精度复位技术的损伤阈值测量方法及测量装置，所述的方法包括以下步骤：将被测样品固定在电动平移台上，获得泵浦激光器辐照前后被测样品的每个测量点的图像序列；比较辐照前后获得的图像序列，根据差异判断样品是否发生损伤，并控制被测样品回到发生损伤的位置，对损伤点进行进一步检验；提升泵浦激光器的能量，重复获得辐照后的被测样品图像序列，即可实现被测样品相同区域在泵浦激光不同能量辐照下的测量；所述的装置包括用于发射泵浦激光的泵浦激光器、用于带动被测样品移动的电动平移台、照明电源和实时监测并获取被测样品图像的损伤监控组件。与现有技术相比，本发明具有损伤识别精度高、装置结构简单等优点。
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公开(公告)号：CN103014616B
公开(公告)日：2014-12-10
申请号：CN201210507272.1
申请日：2012-12-03
Applicant: 同济大学
Abstract: 本发明涉及一种提高减反射膜激光损伤阈值的制备方法，该方法属于薄膜光学领域，主要针对减反射激光薄膜中引起损伤发生的关键因素——基板表面及亚表面处的纳米吸收中心，在薄膜制备前，采用高能离子束对基板进行轰击刻蚀处理，此方法既可以克服传统机械式抛光引起的抛光液残留问题，又可以避免化学方式刻蚀引起基板划痕或裂纹被放大引起酸残留或抛光液团聚现象发生。同时刻蚀深度和表面粗糙度可以精确控制，非常高效地降低了纳米吸收中心的密度，大大提高了减反射薄膜的激光损伤阈值，而且具有针对性强、品质高、简单易行的特点。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103952670A
公开(公告)日：2014-07-30
申请号：CN201410050186.1
申请日：2014-02-13
Applicant: 同济大学
Abstract: 本发明涉及一种激光薄膜的研究方法，属于薄膜光学技术领域。该方法的步骤为利用不同尺度抛光粉制作人工划痕确定熔石英基板的冷加工、熔石英基板的氢氟酸刻蚀的工艺参数、利用微米尺度单分散小球确定熔石英基板的超声波清洗、熔石英基板的真空离子束清洗工艺参数、利用吸收性的纳米尺度缺陷确定在熔石英基板上制备薄膜的工艺参数、利用微米尺度单分散小球确定缺陷后处理工艺参数。实验证明，采用本发明可以从激光薄膜制备的整个工艺流程上有效控制不同缺陷的尺度，根据不同损伤阈值的要求，确定定量的工艺参数，有效地简化激光薄膜制备工艺流程，可以与现有的基板加工、清洗及薄膜制备工艺兼容。具有工艺重复性好、可控性强、效果明显等优点，完全可以应用于未来的高功率激光薄膜领域。
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公开(公告)号：CN102744234B
公开(公告)日：2014-07-16
申请号：CN201110099168.9
申请日：2011-04-20
Applicant: 同济大学
Abstract: 本发明涉及一种改善K9玻璃基底表面质量的清洗方法，先通过酸性溶液去除K9玻璃表面的金属污染，然后通过碱性溶液去除颗粒和有机物污染，清洗过程结合去离子水漂洗，以降低离子在表面的浓度和除去清洗溶剂分子或离子。与现有技术相比，本发明在达到较高清洗效率、有效去除污染物的同时，对K9玻璃基底的表面刻蚀作用减轻到一个极低的程度，表面粗糙度大大减小，有利于提高薄膜的反射率。
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公开(公告)号：CN103882385A
公开(公告)日：2014-06-25
申请号：CN201410050340.5
申请日：2014-02-13
Applicant: 同济大学
Abstract: 本发明属于薄膜光学领域，具体涉及一种提高氧化物薄膜抗激光损伤阈值的蒸镀方法。主要针对抗激光薄膜中引起损伤发生的关键因素——薄膜中的吸收及缺陷。通过在蒸发源与基板之间添加隔离挡板，阻挡并吸附无效的蒸发材料，减少了基板附近的污染，降低了薄膜缺陷形成的几率；在真空室导入氧化能力比普通分子态氧气和离子氧更强的氧自由基，使氧自由基气体略入射基板表面，使得沉积材料在高真空条件下充分氧化成为了可能，降低了薄膜的吸收，从而得到阈值更高的氧化物薄膜。此方法不但保留了电子束热蒸发方法镀制激光薄膜独特的有利的性能又同时改善了薄膜的本征吸收和缺陷密度；具有针对性强、品质高、简单易行的特点。
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公开(公告)号：CN103226057A
公开(公告)日：2013-07-31
申请号：CN201310102099.1
申请日：2013-03-27
Applicant: 同济大学
IPC: G01M11/02
Abstract: 本发明涉及一种真空环境下高效率多功能的激光损伤测试装置和方法，真空腔内的样品台一次可以放入五个样品，通过旋转样品台，可以将样品依次旋转至激光辐照位置进行激光损伤测试，利用CCD相机在线成像和散射光探测装置以及压力探测元件进行在线监测、判断损伤情况，还可以将样品旋转至观察窗用显微镜离线观察分析其损伤形貌。同时样品台的旋转又能够实现样品的正面和背面分别接受激光辐照的功能。该装置简单易操作，极大地节省了真空环境下的损伤测试时间，提高了损伤测试的效率，同时测试方法和功能多样，能够得到比较全面的损伤信息。
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公开(公告)号：CN103215550A
公开(公告)日：2013-07-24
申请号：CN201310102800.X
申请日：2013-03-28
Applicant: 同济大学
Abstract: 本发明涉及一种提高近红外高反膜激光损伤阈值的镀制方法，该方法属于薄膜光学领域，主要针对近红外激光高反膜中限制阈值的瓶颈——节瘤。当前的技术手段主要通过消除节瘤，即降低节瘤密度和尺寸来提升薄膜的阈值。但在当前技术条件下，消除节瘤需要耗费巨大的成本，而且无法完全消除。本发明提出了一种直接改善节瘤阈值从而提升薄膜阈值的方法。理论和实践已经证明，镀膜工艺决定了节瘤的几何特性，而节瘤的几何特性与抗激光损伤特性息息相关。通过加大薄膜分子在基板沉积的入射角，降低入射分子的沉积动能，可以使得节瘤的阈值得到明显改善。此方法具有针对性强、效率高、简单易行的特点。
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