公开(公告)号：CN1726429B

公开(公告)日：2010-10-13

申请号：CN200380106274.9

申请日：2003-11-12

申请人： 分子制模股份有限公司

发明人： B-J·乔伊 ,  R·D·弗伊欣 ,  S·V·斯里尼瓦桑 ,  M·P·C·瓦茨 ,  D·A·巴布斯 ,  M·J·美斯尔 ,  H·L·贝利 ,  N·E·苏马克

IPC分类号： G03B27/58 ,  G03B27/60 ,  G03B27/32 ,  B29C35/08 ,  H01L21/461

CPC分类号： G03F7/70875 ,  B29C33/20 ,  B29C43/003 ,  B29C43/021 ,  B29C43/36 ,  B29C43/58 ,  B29C2043/025 ,  B29C2043/3233 ,  B29C2043/3488 ,  B29C2043/5841 ,  B29D11/00365 ,  G03B27/62 ,  G03F7/707

摘要： 本发明涉及一种卡盘系统(40)和调整基底(26)形状的方法，基底具有对置的第一表面(26b)和第二表面(26a)。这是通过在第一对置表面的不同区域之间建立压力差以减轻第二对置表面的结构扭曲而获得，该扭曲是由于基底上的外力负载而发生。为此目的，卡盘系统包括具有对置的第一面和第二面的卡盘体，两面之间延伸侧面。第一面包括隔开距离的第一(58)和第二(60)支承区域。第一支承区域环绕第一(52)和第二(54)凹进处。第二支承区域环绕第二凹进处，其中与第二凹进处重叠的卡盘体的部分对于具有预定波长的辐射是透明的。第二面和侧面限定外部表面。

公开(公告)号：CN1989452B

公开(公告)日：2010-05-26

申请号：CN200580024713.0

申请日：2005-07-21

申请人： 株式会社尼康

发明人： 麦可·索盖德

IPC分类号： G03B27/42 ,  G03B27/52 ,  G03B27/62 ,  F26B5/04 ,  H01L21/302

CPC分类号： G03F7/70875 ,  G03F7/70916 ,  G03F7/70933

摘要： 本发明揭示使用一较冷的气流在一掩膜片(916)与一掩膜片遮敝物(920)之间建立一温度梯度以便减少该掩膜片上之粒子污染的方法与设备。根据本发明的其中一项观点，一用以减少一物体(928)之表面上粒子污染的设备包含：一平板(920)以及一气体供应器(954)。该平板系被设置在该物体的附近，使具有第二温度之该平板与具有第一温度之该物体实质上分隔一空间。该气体供应器供应一气流给该空间。该气体具有第三温度，该第三温度低于该第一温度与该第二温度两者。该气体会协同该平板与该物体来创造一温度梯度，从而创造一用来搬运该空间中之粒子使其远离该物体的热泳作用力。

公开(公告)号：CN101614966A

公开(公告)日：2009-12-30

申请号：CN200910160494.9

申请日：2004-05-26

申请人： 株式会社尼康

发明人： 蛭川茂

IPC分类号： G03F7/20

CPC分类号： G03F7/70341 ,  G03F7/70258 ,  G03F7/70433 ,  G03F7/7085 ,  G03F7/70858 ,  G03F7/70875 ,  G03F7/70891

摘要： 提供一种曝光方法、曝光装置以及器件制造方法。曝光方法为：在包含投影光学系统的投影区域的基板的至少一部分上形成浸渍区域，通过投影光学系统和基板间的液体将掩模的图案的像投影到基板上。计测掩模的图案分布(S1)，使基板曝光时，根据入射到投影光学系统与基板间的液体的曝光光的分布进行调整，使期望的图案的像投影到基板上(S4～S6)。不受掩模图案分布的影响，能够以高精确度使基板图案曝光。

公开(公告)号：CN101187782A

公开(公告)日：2008-05-28

申请号：CN200710168155.6

申请日：2007-11-13

申请人： ASML荷兰有限公司

发明人： 马丁内斯·维尔姆斯·范登尤维尔 ,  约翰尼斯·克里斯汀·里昂纳多斯·弗兰肯 ,  约瑟夫斯·柯尼利厄斯·约翰尼斯·安东尼斯·瓦格斯特

IPC分类号： G03F7/20

CPC分类号： G03F7/709 ,  F04C2/18 ,  F04C15/0049 ,  F04C15/062 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/70875 ,  G03F7/70991

摘要： 一种用于光刻设备的管路系统，包括用于引导液体或液－气混合物的至少一个管路，以及被构造用于将气体引入到液体或液－气混合物中以至少部分地吸收在所述液体或液－气混合物中的压力峰值或压力波。在实施例中，所述气体喷嘴可以设置在管路系统的泵中。所述泵还包括泵进口、泵出口以及在泵进口和泵出口之间用于压缩液体或液－气混合物的泵室。

公开(公告)号：CN101095213A

公开(公告)日：2007-12-26

申请号：CN200580018359.0

申请日：2005-06-07

申请人： 尼康股份有限公司

发明人： 白石健一

IPC分类号： H01L21/027 ,  G03F7/20

CPC分类号： G03F7/70875 ,  G03B27/42 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/70916

摘要： 本发明有关于一种曝光装置及元件制造方法，一曝光装置，根据液浸法而能高精度地进行曝光处理及测量处理。曝光装置(EX)，在投影光学系统(PL)的像面侧形成液体(LQ)的液浸区域(AR2)，透过投影光学系统(PL)与液浸区域(AR2)的液体(LQ)而使基板(P)曝光，其具备测量装置(60)，用以测量液浸区域(AR2)形成用的液体(LQ)的性质和/或成分。本发明还公开了元件制造方法及曝光装置的维护方法。

公开(公告)号：CN101086629A

公开(公告)日：2007-12-12

申请号：CN200710126411.5

申请日：2007-06-06

申请人： ASML荷兰有限公司

发明人： M·拉文斯伯根 ,  H·M·穆尔德

IPC分类号： G03F7/20

CPC分类号： G03F7/70875 ,  G03F7/70116 ,  G03F7/70291 ,  G03F7/70858

摘要： 一种反射镜阵列装置包括用来支撑多个单独可调的反射元件的承载体。至少一个执行器与各反射元件相关联，该执行器配置成可调整相关联的反射元件相对于承载体的取向或位置。该装置还包括与反射元件的至少一部分相接触的液体。

公开(公告)号：CN101076877A

公开(公告)日：2007-11-21

申请号：CN200580042429.6

申请日：2005-12-14

申请人： 株式会社尼康

发明人： 涩田慎

IPC分类号： H01L21/027 ,  G03F7/20 ,  H01L21/683

CPC分类号： G03F7/70341 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/707 ,  G03F7/70716 ,  G03F7/70875 ,  H01L21/6838 ,  H01L21/68735 ,  H01L21/6875

摘要： 本发明提供一种可以将浸入了衬底的背面侧的液体迅速地回收的衬底保持装置。衬底保持装置(PH)具备：基材(PHB)；形成于基材(PHB)上，支承衬底(P)的背面(Pb)的第一支承部(46)；形成于基材(PHB)上，与衬底(P)的背面(Pb)相对，包围第一支承部(46)而设置的第一周壁部(42)；和设于第一周壁部(42)的外侧的第一回收口(51)；利用沿着第一周壁部(42)的气流，将第一周壁部(42)的外侧的液体(LQ)移动至第一回收口(51)而回收。

公开(公告)号：CN101075097A

公开(公告)日：2007-11-21

申请号：CN200710102532.6

申请日：2007-05-14

申请人： ASML荷兰有限公司

发明人： E·R·卢普斯特拉 ,  J·J·奥坦斯

IPC分类号： G03F7/20 ,  H01L21/027

CPC分类号： G03F7/70875 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/707

摘要： 本发明公开了一种物品支架，其构造成支持针对光刻工艺目的的物品。该物品支架包括布置成引导该物品支架内的热稳定介质从而为该物品提供热稳定的通道配置，其中该通道配置包括输入通道结构和输出通道结构，该输入和输出通道结构布置成巢状配置并通过设置于该物品支架表面上或附近的精细栅格结构而相互连接。本发明还公开了一种结合了该物品支架的光刻设备和装置制造。

公开(公告)号：CN1945441A

公开(公告)日：2007-04-11

申请号：CN200610142140.8

申请日：2006-10-08

申请人： ASML荷兰有限公司

发明人： P·A·J·蒂尼曼斯 ,  W·J·弗尼马 ,  K·J·J·M·扎尔

IPC分类号： G03F7/20 ,  H01L21/027

CPC分类号： G03F7/70891 ,  G03F7/70725 ,  G03F7/70875

摘要： 一种用于补偿作用在光刻装置上的热效应的系统和方法。所述系统包括构图部件、投影系统、基底位置控制器和基于基底位置的膨胀补偿器。所述构图部件可调制辐射光束。所述投影系统将调制的辐射光束投影到基底靶部上。所述基底位置控制器使基底相对投影系统顺序通过多个曝光位置而移动。所述基于基底位置的膨胀补偿器与基底位置控制器相互作用以改变曝光位置，从而至少部分地补偿基底和投影系统中至少一个的热诱导的几何形状变化。

公开(公告)号：CN1938646A

公开(公告)日：2007-03-28

申请号：CN200580002853.8

申请日：2005-01-13

申请人： 卡尔蔡司SMT股份有限公司

发明人： A·埃尔曼 ,  U·韦格曼 ,  R·霍赫 ,  J·马尔曼 ,  K·H·舒斯特

IPC分类号： G03F7/20

CPC分类号： G03F7/70341 ,  G03F7/70591 ,  G03F7/70691 ,  G03F7/7085 ,  G03F7/70875 ,  G03F7/70891 ,  G03F7/70991

摘要： 本发明涉及一种微平版印刷投影曝光装置，该装置包括为浸渍操作构造的投影透镜(20)。为此，将浸渍液(34)引入位于投影透镜(20)的图像侧的末级透镜(L5；54)与待曝光的感光层(26)之间的浸渍空间(44)内。为了减小由在浸渍液(34)内出现的温度梯度导致的折射率的波动，该投影曝光装置(10)包括传热元件(50；501；502；503；504)，通过该传热元件可以指定方式加热或冷却浸渍液(34)的区域。