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公开(公告)号:CN1152136A
公开(公告)日:1997-06-18
申请号:CN96114465.3
申请日:1996-11-13
申请人: 三星电子株式会社
IPC分类号: G03F7/20
CPC分类号: G03F7/70091 , G03F7/2008
摘要: 投影曝光设备及其方法。此设备包括光源、用来控制光强度的蝇眼透镜、至少二个以上用来衍射已通过蝇眼透镜的光二次或更多次的光圈、用来接纳光的聚光透镜、用来选择性地通过从聚光透镜入射的光的光掩模、用来对通过光掩模的光进行聚焦的投影透镜、以及用投影透镜聚焦过的光来制作图形的晶片。于是,光圈和光圈缝隙数目的增加就可提高光强度的均匀性并在晶片上获得掩模图形。而且,使图形尺寸和外形的改变减小可增大工艺裕度。
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公开(公告)号:CN107741685A
公开(公告)日:2018-02-27
申请号:CN201710983508.1
申请日:2013-05-22
申请人: 株式会社尼康
IPC分类号: G03F7/20
CPC分类号: G03F7/2008
摘要: 本发明提供照明装置及曝光装置。照明装置对被处理物照射沿第1方向延伸的狭缝状的照明光,具备:多个固体光源部,在将狭缝状的照明光所照射的狭缝状的照明区域分成第1方向长且第2方向短的多个局部照明区域时,该多个固体光源部以对多个局部照明区域各自分别照射照明光的方式配置;和光束合成部,其沿着狭缝状的照明区域配置,将第1方向设为长度方向且截面为三角形的2个棱镜的包含长度方向的斜面相互接合,以斜面上的沿着第1方向的部分中的、与多个局部照明区域的第奇数个和第偶数个中的某一方对应的部分相对于照明光成为通过部、且与另一方对应的部分相对于照明光成为反射部的方式,形成有反射膜。
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公开(公告)号:CN107111252A
公开(公告)日:2017-08-29
申请号:CN201680005296.3
申请日:2016-01-06
申请人: 株式会社V技术
发明人: 水村通伸
IPC分类号: G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号: G02B26/10 , G02B3/0037 , G02B3/0056 , G02B26/101 , G03F7/2008 , G03F7/70241 , G03F7/70275 , G03F7/70358 , H01L21/027
摘要: 本发明提供一种投影曝光装置。在一边单向扫描微透镜阵列一边将掩模的掩模图案投影曝光于基板上的投影曝光装置中,即使在微透镜中存在缺陷或不良时,也不会产生显著的曝光不均。投影曝光装置(1)具备:扫描曝光部(10),使微透镜阵列(2)沿着从基板(W)的一端朝向另一端的扫描方向(Sc)移动;及微透镜阵列位移部(20),在基于扫描曝光部(10)的微透镜阵列(2)的移动中,使微透镜阵列(2)沿着与扫描方向(Sc)交叉的位移方向(Sf)移动。
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公开(公告)号:CN106990677A
公开(公告)日:2017-07-28
申请号:CN201710249531.8
申请日:2017-04-17
申请人: 京东方科技集团股份有限公司 , 成都京东方光电科技有限公司
CPC分类号: G03F7/2008 , G02B5/0816
摘要: 本发明公开了一种反射镜及曝光装置,包括透明衬底基质,位于透明衬底基质入光表面的用于反射设定波长光线的全电介质反射膜;其中,透明衬底基质中分散有能够受激发射设定波长光线的粒子。在透明衬底基质表面设置全电介质反射膜可以对设定波长的光线高效反射;而在反射镜的透明衬底基质中分散可受激辐射的粒子,可以将光源中其它波长的光线转化为设定波长的光线,增加了设定波长光线的出射,提高了对光源出射光的利用率,避免能源浪费。
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公开(公告)号:CN106970508A
公开(公告)日:2017-07-21
申请号:CN201710377599.4
申请日:2017-05-25
申请人: 苏州灯龙光电科技有限公司
IPC分类号: G03F7/20
CPC分类号: G03F7/70008 , G03F7/2008 , G03F7/70175
摘要: 本发明公开了一种平行曝光机光源模块,包括一竖直放置的PCB板;所述的PCB板的侧面上从上至下键入有一排LED灯;所述的PCB板的与LED灯同侧的侧面上还设有反射罩,反射罩固定安装在PCB板上;所述的反射罩上设有一定的弧度和高度;所述的反射罩上还设有平行光转化装置,平行光转化装置安装在反射罩的前端;所述的平行光转化装置中还设有凸透镜,凸透镜上具有一焦点,焦点位于LED灯的中心处。本发明结构简单易制造,且安装方便;此模块发射出的光的平行半角小于2°,大大提高了曝光精度;此模块不存在红外线热辐射,避免了菲林胀缩,保证了影像转移的品质;此模块使得LED的使用寿命长,能量衰减少,提高了生产和品质的稳定性。
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公开(公告)号:CN106909031A
公开(公告)日:2017-06-30
申请号:CN201710200961.0
申请日:2017-03-29
申请人: 合肥京东方显示技术有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
CPC分类号: G03F7/2008 , G02B7/182
摘要: 本发明提供一种曝光设备及曝光系统,属于显示基板制备技术领域,其可解决现有的接近式曝光机的曝光区域尺寸单一,设备复杂的问题。本发明的曝光设备包括:能发生形变的凹面反射镜,用于反射曝光光线,并保证所述曝光光线最终射向曝光区域;调整模组,用于改变所述凹面反射镜的曲率。
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公开(公告)号:CN106547069A
公开(公告)日:2017-03-29
申请号:CN201510590890.0
申请日:2015-09-17
申请人: 上海微电子装备有限公司
CPC分类号: G02B7/182 , G03F7/2008
摘要: 本发明公开一种可动镜片轴向调整机构,其特征在于,包括:矩形镜片(100)、支撑镜座200)、弹性柱塞(300)、电机(400)和柔性支架500);所述支撑镜座(200)、弹性柱塞(300)和电机(400)均固定在所述柔性支架(500)上面,所述矩形镜片(100)固定在所述支撑镜座(200)上;通过所述电机(400)和所述弹性柱塞(300)驱动所述柔性支架(500)的柔性铰链机构,实现所述矩形镜片(100)在Z方向的运动。本发明还提出了使用可动镜片轴向调整机构进行轴向调整的方法。与现有技术相比较,本发明通过在矩形镜片的短边处各布置一个平行四边形铰链机构,保证整个运动机构实现轴向运动,且结构简单,稳定可靠。
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公开(公告)号:CN106527060A
公开(公告)日:2017-03-22
申请号:CN201710004074.6
申请日:2017-01-04
申请人: 广东海圣科技有限公司
IPC分类号: G03F7/20
CPC分类号: G03F7/2004 , G03F7/2008 , G03F7/70008 , G03F7/70233
摘要: 本发明公开了一种用于曝光机的双LED平行光源机构,包括第一反光镜和第二反光镜,光源采用LED光源,包括有两组LED光源,即第一LED光源模组和第二LED光源模组,其中第一LED光源模组朝向第一反光镜,第二LED光源模组朝向第二反光镜。本发明通过采用两组LED光源,两组光源均设置在距离反光镜较近的位置直接照射反光镜,省去了中间过渡的平面光镜,从而可以将光照强度提高两倍以上,而曝光效率则可以提高3倍以上,如完成同样一框线路板的曝光时间仅为5秒,一周用电量仅为两百多度,降低了75%以上;另外,整个设备的安装结构相当简单,安装成本降低50%左右,对于照射角度的调节也方便了很多。
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公开(公告)号:CN106227001A
公开(公告)日:2016-12-14
申请号:CN201610806449.6
申请日:2016-09-06
申请人: 广东欧珀移动通信有限公司
IPC分类号: G03F7/20
CPC分类号: G03F7/20 , G03F7/2008
摘要: 本发明公开了一种治具及工件制造方法。治具包括:承载面,承载面适于承载被加工工件,工件具有曝光面;和反光面,反光面适于将光反射到曝光面上。根据本发明的治具,通过在治具上设置反光面,并利用反光面对光线的反射作用,将曝光光源的光线反射到工件的被遮挡的曝光面上,从而可以对工件的曝光面进行曝光。由此可以使治具适用于不同形状的工件,从而可以增加治具的适用范围,提升治具的灵活性,降低工件的生产成本。
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公开(公告)号:CN104335122B
公开(公告)日:2016-12-07
申请号:CN201380028021.8
申请日:2013-03-14
申请人: 卡尔蔡司SMT有限责任公司
CPC分类号: G02F1/0128 , B82Y10/00 , G02B5/0816 , G02B5/0891 , G02B17/06 , G02B26/0816 , G02B27/0068 , G03F7/2008 , G03F7/70266 , G03F7/70891 , G03F7/7095 , G03F7/70958 , G21K1/062
摘要: 本发明涉及一种光学元件(21),包括基板反射涂层(31)具有多个层对,所述多个层对具有由高折射率材料和低折射率材料构成的交替层(33a,33b),其中,由磁致伸缩材料构成的至少一个活性层(34)形成在反射涂层(31)内。本发明还涉及一种光学元件(21),其具有基板(30)和反射涂层(31),其中,所述光学元件(21)包括至少一个第一活性层和至少一个第二活性层,至少一个第一活性层包括具有正磁致伸缩的材料,至少一个第二活性层包括具有负磁致伸缩的材料,其中,活性层的层厚度和层材料选择成使得由磁场引起的机械应力变化或活性层长度变化彼此相互补偿。本发明还涉及一种光学装置,尤其是EUV光刻设备,其包括至少一个这种光学元件(21)。(30)和反射涂层(31)。尤其对于EUV辐射的反射,
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