公开(公告)号：CN1121845A

公开(公告)日：1996-05-08

申请号：CN95102906.1

申请日：1995-01-28

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 金文佑 ,  金定坤 ,  朴庆信 ,  申东和

IPC: B05C21/00

Abstract: 一种用于供给光致抗蚀剂的系统，包括：一个用于保存光致抗蚀剂的存储容器；一个用于从存储容器中接收光致抗蚀剂的层叠过滤器，它具有一个适于从中排放光致抗蚀剂的排放管；和一个回流管，它连接在层叠过滤器的排放管与存储容器之间，用于使从层叠过滤器中排出的光致抗蚀剂回流至存储容器中。

公开(公告)号：CN1152136A

公开(公告)日：1997-06-18

申请号：CN96114465.3

申请日：1996-11-13

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 宋在宽 ,  文常荣 ,  朴庆信 ,  宋昊钟

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70091 ,  G03F7/2008

Abstract: 投影曝光设备及其方法。此设备包括光源、用来控制光强度的蝇眼透镜、至少二个以上用来衍射已通过蝇眼透镜的光二次或更多次的光圈、用来接纳光的聚光透镜、用来选择性地通过从聚光透镜入射的光的光掩模、用来对通过光掩模的光进行聚焦的投影透镜、以及用投影透镜聚焦过的光来制作图形的晶片。于是，光圈和光圈缝隙数目的增加就可提高光强度的均匀性并在晶片上获得掩模图形。而且，使图形尺寸和外形的改变减小可增大工艺裕度。

公开(公告)号：CN1075209C

公开(公告)日：2001-11-21

申请号：CN95102906.1

申请日：1995-01-28

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 金文佑 ,  金定坤 ,  朴庆信 ,  申东和

IPC: G03F7/16 ,  B05C11/10 ,  H01L21/312

Abstract: 一种用于供给光致抗蚀剂的系统，包括：一个用于保存光致抗蚀剂的存储容器；一个用于从存储容器中接收光致抗蚀剂的层叠过滤器，它具有一个适于从中排放光致抗蚀剂的排放管；和一个回流管，它连接在层叠过滤器的排放管与存储容器之间，用于使从层叠过滤器中排出的光致抗蚀剂回流至存储容器中。