公开(公告)号：CN1121845A

公开(公告)日：1996-05-08

申请号：CN95102906.1

申请日：1995-01-28

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 金文佑 ,  金定坤 ,  朴庆信 ,  申东和

IPC: B05C21/00

Abstract: 一种用于供给光致抗蚀剂的系统，包括：一个用于保存光致抗蚀剂的存储容器；一个用于从存储容器中接收光致抗蚀剂的层叠过滤器，它具有一个适于从中排放光致抗蚀剂的排放管；和一个回流管，它连接在层叠过滤器的排放管与存储容器之间，用于使从层叠过滤器中排出的光致抗蚀剂回流至存储容器中。

公开(公告)号：CN1075209C

公开(公告)日：2001-11-21

申请号：CN95102906.1

申请日：1995-01-28

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 金文佑 ,  金定坤 ,  朴庆信 ,  申东和

IPC: G03F7/16 ,  B05C11/10 ,  H01L21/312

Abstract: 一种用于供给光致抗蚀剂的系统，包括：一个用于保存光致抗蚀剂的存储容器；一个用于从存储容器中接收光致抗蚀剂的层叠过滤器，它具有一个适于从中排放光致抗蚀剂的排放管；和一个回流管，它连接在层叠过滤器的排放管与存储容器之间，用于使从层叠过滤器中排出的光致抗蚀剂回流至存储容器中。

公开(公告)号：CN1115714C

公开(公告)日：2003-07-23

申请号：CN98101653.7

申请日：1998-04-24

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 金文佑 ,  尹炳珠

IPC: H01L21/027 ,  H01L21/312

CPC classification number: G03F7/162 ,  B05C11/08

Abstract: 提供了一种光刻胶喷涂装置及其方法，其特征是，晶片光刻胶涂层的光刻胶以扫描方式进行喷涂，而晶片的转速相对于晶片上被喷涂光刻胶的位置不同而不同，从而减少用于涂层的光刻胶的用量。光刻胶的喷涂方法按如下方式进行，即，在喷嘴对所述晶片从其边缘向其中心进行扫描的同时喷涂光刻胶，在所述的扫描过程中，所述晶片的旋转速度在增加。

公开(公告)号：CN1206933A

公开(公告)日：1999-02-03

申请号：CN98101653.7

申请日：1998-04-24

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 金文佑 ,  尹炳珠

IPC: H01L21/312

CPC classification number: G03F7/162 ,  B05C11/08

Abstract: 提供了一种光刻胶喷涂装置及其方法,其特征是,晶片光刻胶涂层的光刻胶以扫描方式进行喷涂,而晶片的转速相对于晶片上被喷涂光刻胶的位置不同而不同,从而减少用于涂层的光刻胶的用量。光刻胶的喷涂方法按如下方式进行,即,在喷嘴对所述晶片从其边缘向其中心进行扫描的同时喷涂光刻胶,在所述的扫描过程中,所述晶片的旋转速度在增加。