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公开(公告)号：CN103890096B
公开(公告)日：2016-04-20
申请号：CN201280050819.8
申请日：2012-08-17
Applicant: 株式会社LG化学
CPC classification number: C08L75/04 , C08G2101/005 , C08L71/02
Abstract: 本发明涉及一种支撑垫用聚氨酯树脂组合物，其包含聚氨酯树脂、DMF溶剂、阴离子表面活性剂和聚乙二醇(PEG)，以及涉及包含所述支撑垫用聚氨酯树脂组合物的聚氨酯支撑垫。因此，本发明可提供因内部均匀形成大且细长的气孔而具有优异的压缩率和高压缩恢复率的支撑垫。
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公开(公告)号：CN105473651A
公开(公告)日：2016-04-06
申请号：CN201480044968.2
申请日：2014-10-01
Applicant: 株式会社LG化学
CPC classification number: B24B37/24 , B24D3/32 , C08J9/28 , C08J2201/0544 , C08J2375/04 , C08L75/04
Abstract: 本发明涉及一种聚氨酯支撑垫，其中低P压缩率为1至10％，所述低P压缩率为第一厚度和第二厚度之差与第一厚度之比，第一厚度通过向安装垫的厚度方向施加5g/cm2的压力而测得，且第二厚度通过向安装垫的厚度方向施加100g/cm2的压力而测得，且其中低P压缩长度—其为第一厚度与第二厚度之差—为15至100μm。根据本发明，可提供一种聚氨酯安装垫，其在实际抛光条件下具有高压缩率和优异的弹性，并且可以实现更均匀且高效率的抛光，以降低抛光缺陷率。
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公开(公告)号：CN104797639A
公开(公告)日：2015-07-22
申请号：CN201480003003.9
申请日：2014-03-19
Applicant: 株式会社LG化学
CPC classification number: C08L75/04 , C08J9/28 , C08J2201/0544 , C08J2205/06 , C08J2207/00 , C08J2375/04 , C09D175/04
Abstract: 本发明涉及一种聚氨酯支撑垫的制备方法，其包括：对包含具有重均分子量为220,000至1,000,000的聚氨酯树脂和DMF溶剂的树脂组合物进行湿法凝固的步骤；以及将湿法凝固物浸渍于40至90℃的浸渍溶液中的步骤。根据制备方法，提供一种聚氨酯支撑垫，其中所制备的垫片的内部可均匀地形成长且大的孔，并且实现低硬度、优异的压缩率等，而且在其整个区域也实现更均匀的厚度、压力分布或张力分布等，从而达到更均匀和更高效的抛光。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101679810B
公开(公告)日：2014-06-18
申请号：CN200980000271.4
申请日：2009-02-26
Applicant: 株式会社LG化学
IPC: C09G1/02 , H01L21/302
CPC classification number: H01L21/3212 , C09G1/02 , H01L21/7684
Abstract: 本发明涉及一种化学机械抛光用含水浆液组合物，该组合物可展示出对目标层的良好抛光速率，还具有较高的抛光选择性，并可保持目标层在抛光后的优良表面状态，本发明还涉及一种化学机械抛光方法。所述化学机械抛光(CMP)用含水浆液组合物包括磨料；一种氧化剂；一种络合剂；及一种聚合添加剂，该聚合添加剂包括选自下列的至少一种：聚环氧丙烷、环氧丙烷-环氧乙烷共聚物及由化学式1表示的化合物。
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公开(公告)号：CN101573425B
公开(公告)日：2013-03-20
申请号：CN200780048768.4
申请日：2007-12-28
Applicant: 株式会社LG化学
IPC: C09K3/14
CPC classification number: C09K3/1463 , C09G1/02 , C09K3/1409 , C23F3/04 , C23F3/06 , H01L21/3212
Abstract: 本发明公开了一种CMP浆料，其包括一种含有至少两个吡啶基基团的吡啶基化合物，并使导线上凹陷和腐蚀的发生率降到最低。
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公开(公告)号：CN101641289B
公开(公告)日：2012-11-21
申请号：CN200880008481.3
申请日：2008-03-14
Applicant: 株式会社LG化学
IPC: C01F17/00
CPC classification number: C01F17/005 , C01P2002/72
Abstract: 在一种通过将铈前体溶液与尿素溶液混合并进行沉淀反应从而制备碳酸铈粉末的方法中，其中通过使用至少一种有机溶剂作铈前体溶液和尿素溶液两者之一或两者的溶剂，并调节沉淀反应温度在120℃至300℃的范围内，而使碳酸铈粉末具有六方晶体结构。并且，所述方法能得到碳酸铈粉末、由所述碳酸铈粉末制得的二氧化铈粉末、以及包含所述二氧化铈粉末作磨料的CMP浆体。在所述方法中，尿素用作沉淀剂能改善反应的均匀性，从而可容易且廉价地获得六方晶体结构的碳酸铈粉末，而没有高温高压导致的危险，也无需水热合成中的昂贵系统。
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公开(公告)号：CN102648265A
公开(公告)日：2012-08-22
申请号：CN201080056417.X
申请日：2010-10-13
Applicant: 株式会社LG化学
IPC: C09K3/14 , H01L21/304
CPC classification number: H01L21/31053 , C09G1/02 , C09K3/1463
Abstract: 本发明涉及CMP浆料组合物，其包含：研磨颗粒；分散剂；离子聚合物添加剂；和非离子聚合物添加剂，该非离子聚合物添加剂包括含有两个或更多个聚乙二醇重复单元的聚烯烃-聚乙二醇共聚物，其中至少一个聚乙二醇重复单元是支化的，并涉及一种使用该浆料组合物的抛光方法。CMP浆料组合物对单晶硅膜或多晶硅膜具有低的抛光率并对硅氧化物膜具有高的抛光率，从而表现出优异的抛光选择性。
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公开(公告)号：CN101641289A
公开(公告)日：2010-02-03
申请号：CN200880008481.3
申请日：2008-03-14
Applicant: 株式会社LG化学
IPC: C01F17/00
CPC classification number: C01F17/005 , C01P2002/72
Abstract: 在一种通过将铈前体溶液与尿素溶液混合并进行沉淀反应从而制备碳酸铈粉末的方法中，其中通过使用至少一种有机溶剂作铈前体溶液和尿素溶液两者之一或两者的溶剂，并调节沉淀反应温度在120℃至300℃的范围内，而使碳酸铈粉末具有六方晶体结构。并且，所述方法能得到碳酸铈粉末、由所述碳酸铈粉末制得的二氧化铈粉末、以及包含所述二氧化铈粉末作磨料的CMP浆体。在所述方法中，尿素用作沉淀剂能改善反应的均匀性，从而可容易且廉价地获得六方晶体结构的碳酸铈粉末，而没有高温高压导致的危险，也无需水热合成中的昂贵系统。
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