高功率光纤激光器用光闸中透镜参数设计方法

    公开(公告)号:CN111308699A

    公开(公告)日:2020-06-19

    申请号:CN202010165451.6

    申请日:2020-03-11

    Abstract: 本发明公开了一种高功率光纤激光器用光闸中透镜参数设计方法,包括以下步骤:步骤1、确定准直镜的几何模型,为准直镜的几何模型各部分添加相应的物理场,并将物理模型建模参数表添加到物理模型相应位置,获得可优化准直镜参数的仿真模型,即准直镜的水冷仿真模型;步骤2、根据准直镜的水冷仿真模型优化出准直镜的最优参数;步骤3、根据准直镜的最优参数,计算出聚焦镜的最优参数;步骤4、根据准直镜的水冷仿真模型获得水流速及水温的仿真结果,进而确定冷却参数。这种设计方法有助于了解透镜冷却的规律,有效得预测实践中的大量实验结果,对光闸中具有最佳冷却效果的透镜进行科学省时地设计,并对水冷参数进行合理的选择。

    点源异位扩束同步移相斐索干涉仪及其测量方法

    公开(公告)号:CN107631687B

    公开(公告)日:2019-10-18

    申请号:CN201710772234.1

    申请日:2017-08-31

    Abstract: 本发明公开了一种点源异位扩束同步移相斐索干涉仪及其测量方法。该干涉仪包括点光源阵列、斐索型主干涉仪和分光成像组件。方法为:点光源阵列产生的四束相同的球面波分别进入主干涉仪,通过调整点光源阵列在主干涉仪准直物镜焦面上与光轴的距离,使得经主干涉仪出射的四个准直波前入射到参考镜上的角度不同,从而在参考面与测试面的干涉中引入不同的相移量,然后通过分光成像组件在一个CCD上同时获取四幅成像清晰的相移干涉图。本发明具有成本低、抗震性好、易于操作等特点,可以用于光学元件的实时高精度检测等领域。

    一种大模场双包层光纤熔接的光功率对准系统和方法

    公开(公告)号:CN107305269B

    公开(公告)日:2019-08-09

    申请号:CN201610251549.7

    申请日:2016-04-21

    Abstract: 本发明公开了一种大模场双包层光纤熔接的光功率对准系统和方法,光源通过单模光纤与模场匹配器输入端连接,模场匹配器的输出端接有第一大模场双包层光纤,第一大模场双包层光纤上设有一个包层光功率剥离器,第一大模场双包层光纤待熔接的一端设置在光纤熔接机内,第二大模场双包层光纤待熔接的一端设置在光纤熔接机内,第二大模场双包层光纤上设有另一个包层光功率剥离器,第二大模场双包层光纤输出端位于功率计前方,由第二大模场双包层光纤输出端输出的光被功率计接收。本发明测量待熔光纤在不同径向偏移情况下的输出功率变化,根据测量结果的反馈控制熔接机的马达,实现光纤的高精度对准。

    一种侧向泵浦合束器及其制作方法

    公开(公告)号:CN109239850A

    公开(公告)日:2019-01-18

    申请号:CN201811197661.2

    申请日:2018-10-15

    Abstract: 本发明公开了一种侧向泵浦合束器及其制作方法,包括多模光纤和单模光纤,剥离单模光纤中间段的涂覆层,剥离多模光纤中间段的涂覆层,将剥离涂覆层的多模光纤的中间段进行拉锥,并将拉锥后的中间段缠绕在剥离涂覆层的单模光纤中间段上,并熔合。本发明不会对纤芯信号光传输造成损耗,且能承受高功率。

    空间分光同轴斐索型同步移相干涉仪及其测量方法

    公开(公告)号:CN105928455B

    公开(公告)日:2018-11-13

    申请号:CN201610343225.6

    申请日:2016-05-20

    Abstract: 本发明公开了一种空间分光同轴斐索型同步移相干涉仪及其测量方法,属于光学干涉测量仪器领域。该干涉仪包括点光源及其分光组件、斐索型主干涉仪和分光成像组件。方法为:点光源发出的球面波经分光组件分成四束后进入主干涉仪,采用分光组件将一个点光源复制成相同的四个,通过调整四个点光源在主干涉仪准直物镜焦面上与光轴的距离,在参考面与测试面的干涉中引入不同的相移量,然后通过分光成像组件在一个CCD上同时获取四幅成像清晰的相移干涉图。本发明具有成本低、抗震性好、易于操作等特点,可以用于光学元件的实时高精度检测等领域。

    高精度近红外激光光束质量测量分析装置

    公开(公告)号:CN108287059A

    公开(公告)日:2018-07-17

    申请号:CN201810041239.1

    申请日:2018-01-16

    Abstract: 本发明公开了一种高精度近红外激光光束质量测量分析装置,沿光路依次放置激光功率可调衰减装置、无像差聚焦透镜、高反镜组、分光镜和两个电荷耦合元件相机。激光功率可调衰减装置由放置在旋转轮上的不同衰减等级的中性密度滤光片组成;第二高反镜放置于第一高反镜的反射光路上,且二者共同放置于可移动导轨上;第一CCD相机放置于分光镜的反射光路上,第二CCD相机放置于分光镜的透射光路上。本发明可以有效抑制硅材质CCD在对近红外光光束质量进行测量时的光晕现象对测量结果的影响,同时测量时间相较传统光束质量测量仪并未增加,在保证测量效率的前提下提高了测量精度。

    校正高功率激光器M2测量系统热形变的装置及方法

    公开(公告)号:CN108287058A

    公开(公告)日:2018-07-17

    申请号:CN201810040754.8

    申请日:2018-01-16

    CPC classification number: G01M11/0207

    Abstract: 本发明公开了一种校正高功率激光器M2测量系统热形变的装置及方法,沿光路依次设置标准平晶、功率衰减平行平板、第一楔板反射镜、第二楔板反射镜、分光镜、波前探测器和动态干涉仪;第二楔板反射镜设置于第一楔板反射镜的反射光路上;分光镜设置于第二楔板反射镜的反射光路上;波前探测器设置于分光镜的透射光路上,动态干涉仪设置于分光镜的反射光路上。装置中标准平晶、功率衰减平行平板、第一楔板反射镜、第二楔板反射镜、分光镜上均镀有特定反射率的膜。本发明可以对高功率激光器M2测量系统中光学元件热形变带来的M2误差进行测量和去除,同时保证测量过程的高速,在高精度的测量中实现光束质量M2的动态测量。

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