平行平晶光学非均匀性的绝对测量方法

    公开(公告)号:CN105092530A

    公开(公告)日:2015-11-25

    申请号:CN201510263169.0

    申请日:2015-05-21

    Abstract: 本发明公开了一种平行平晶光学非均匀性的绝对测量方法。步骤为:对第一透射参考平晶工作面和待测平行平晶前表面进行一次干涉测量;在待测平行平晶后面放置反射参考平晶,对第一透射参考平晶和反射参考平晶工作面进行一次干涉测量;对第一透射参考平晶工作面和待测平行平晶后表面进行一次干涉测量;对第一透射参考平晶和反射参考平晶工作面进行一次空腔干涉测量;用第二透射参考平晶替换第一透射参考平晶,对第二透射参考平晶和第一透射参考平晶工作面进行一次干涉测量;对第二透射参考平晶和反射参考平晶工作面进行一次干涉测量;综合测量结果,得到待测平行平晶的光学非均匀性。本发明简单易行、精确高效,测量对象不受前后表面平行度的限制。

    平行平晶光学非均匀性的绝对测量方法

    公开(公告)号:CN105092530B

    公开(公告)日:2018-01-05

    申请号:CN201510263169.0

    申请日:2015-05-21

    Abstract: 本发明公开了一种平行平晶光学非均匀性的绝对测量方法。步骤为:对第一透射参考平晶工作面和待测平行平晶前表面进行一次干涉测量;在待测平行平晶后面放置反射参考平晶,对第一透射参考平晶和反射参考平晶工作面进行一次干涉测量;对第一透射参考平晶工作面和待测平行平晶后表面进行一次干涉测量;对第一透射参考平晶和反射参考平晶工作面进行一次空腔干涉测量;用第二透射参考平晶替换第一透射参考平晶,对第二透射参考平晶和第一透射参考平晶工作面进行一次干涉测量;对第二透射参考平晶和反射参考平晶工作面进行一次干涉测量;综合测量结果,得到待测平行平晶的光学非均匀性。本发明简单易行、精确高效,测量对象不受前后表面平行度的限制。

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